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41.
本文针对采用多标签天线的多输入单输出RFID通信进行了研究。首先,基于超高频RFID传输的EPCglobal标准,建立了RFID通信的传输链路模型,并讨论了2种规格的后向散射数据编码/解码原理;然后,提出了RFID通信的信道模型,并讨论了基于所提出信道模型实现的2种信道结构及其与RFID通信相关的衰落信道模型,重点讨论了MISO系统中的前/后向链路的相关性及信道的空间相关性;最后,提出了实现多标签天线的RFID通信的分集技术和传播模型。仿真结果表明,分集增益不仅与信道模型和采用的编码方案有关,而且与前/后向链路的相关性及信道的空间相关性密切相关,即随着更鲁棒编码方案的采用和传输信道之间的空间相关性的增大而减小,随着前/后向链路的相关性的增大而增大。 相似文献
42.
用微波等离子体化学气相沉积(MP-CVD)方法生长氮掺杂金刚石薄膜,研究发薄膜场电子发射性能。实验结果表明,不同氮源气体流量下制备的榈均呈现连续而稳定的场电子发射,但发射性能对氮源气体流量有强烈的依赖性。随着氮源气体流量由0逐渐增大到0.5cm^3(STP)/min,发射的开启电压从1050V逐渐减小为150V,而当氮流量超过0.5cm^3(STP)/min时,开启电压则不断增大,当氮流量为3.0 相似文献
43.
44.
对氮离子注入掺杂的微波等离子CVD金刚石薄膜进行了场电子发射研究。结果表明,发射具有3特征,即当样品损伤层被击穿、发射体被激活后,稳定的发射建立起来,并表现出优异的发射性能,开启电压低(45V),发射电流大(130mA)。根据电介质的击穿模型和金属/电介质/真空的发射体模型对结果进行了讨论。 相似文献
45.
金属Sn氧化薄膜的真空退火与原位XPS测量 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了在真空退火过程中金属Sn氧化薄膜表面L元素Sn和O的化学性质.利用X射线光电子能谱(XPS)的表面分析方法,发现在金属Sn氧化薄膜的表面上存在大量的吸附氧粒子(O-和O-2)提高真空退火温度,吸附氧粒子的数量增加;同时吸附氧粒子的负电性变弱.当退火温度低于350℃时,吸附氧粒子数量的增加是起因于SnO2→Sn2O3的转变;在这种情况下,可以观察到Sn2O3是相对稳定的金属Sn氧化物,继续提高退火温度,达到400℃时,Sn在金属Sn中的相对含量急剧增大,Sn在金属Sn中相对含量增加的原因与金属Sn的价态Sn3+→Sn0的转变相关在这个转变过程中伴随着O的释放和薄膜表面氧粒子的进一步堆积.与温度低于350℃时的退火条件相比,XPS的测量也发现,在400℃的退火温度下;SnO2相对于Sn2O3反而成为比较稳定的金属Sn氧化物.还讨论了金属Sn氧化薄膜表面上吸附氧粒子的吸附状态以及吸附状态与退火温度的关系. 相似文献
46.
为了定量地得到磁场梯度对a Si∶H薄膜沉积速率的影响 ,对单磁场线圈分散场MWECRCVD系统等离子体室和沉积室中用三种方法得到的磁场形貌进行了研究 .通过洛伦兹拟合的方法定量地得到了这些磁场形貌的磁场梯度 .结果表明 ,样品台下面放置钐钴永磁体并使磁场线圈电流为 137 7A时其衬底附近磁场梯度值最大 ,样品台下面无钐钴永磁时 ,磁场线圈电流分别为 137 7A和 115 2A的磁场梯度值依次为次之和最小 .制备a Si∶H薄膜时 ,在衬底附近具有高的磁场梯度值可以得到高的沉积速率 .通过红外吸收谱技术分析 ,虽然样品台下面放置钐钴永磁体并使磁场线圈电流为 13 相似文献
47.
48.
天然气水合物泥浆制冷系统的换热器对于天然气水合物的开采非常关键。本文以天然气水合物自然状态下的存在条件为依据,分析研究不同类型的换热器,对钻探取样方法获取保真的天然气水合物岩矿心的影响,对相同换热面积的同轴套管式换热器和螺旋板式换热器在同种工况下的传热效率进行对比分析,采用传热计算、数值模拟和室内实验相结合的方法,证明在相同的换热面积和同种工况下,螺旋板式换热器的换热效率可以提高70%,在满足水合物钻探取样要求条件下,可以有效地节省资源。 相似文献
49.
用微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)系统制备了具有非晶/微晶两相结构的硅薄膜,研究了沉积温度和沉积压力等对制备微晶硅薄膜的结构和电学特性的影响.结果表明:较低的反应压和较高的衬底温度有利于获得非晶/微晶两相结构的硅薄膜,当反应压为0.7 Pa、衬底温度为170℃时,得到非晶/微晶两相结构的硅薄膜晶相体积比约为30%;具有这种晶相体积比的非晶/微晶两相结构的硅薄膜,μτ乘积值约为10-5量级左右,比不含微晶成分的氢化非晶硅样品的μτ乘积值大约2个量级,同时这种晶相体积比的非晶/微晶两相结构的硅薄膜的光敏性在103~104左右,其兼具很好的光电导稳定性和优良的光电特性,是制备非晶硅太阳电池的器件级本征层材料. 相似文献
50.
12月16日,"花园饭店(上海)节能改造示范项目技术普及研讨会"在花园饭店召开。上海市发展改革委员会、上海市旅游局等领导、日本驻上海总领馆领事以及中、日双方企业代 相似文献