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化学机械抛光浆料研究进展 总被引:3,自引:1,他引:3
化学机械抛光(CMP)作为目前唯一可以实现全面平坦化的工艺技术,已被越来越广泛地应用到集成电路芯片、计算机硬磁盘和光学玻璃等表面的超精密抛光.介绍了CMP技术的发展背景,以及目前国内外抛光浆料的研究现状,并根据CMP浆料磨料的性质,将其分为单磨料、混合磨料和复合磨料浆料,对每一种浆料做了总体描述.详细介绍了近年来发展的复合磨料制备技术及其在CMP中的应用,并展望了CMP技术的发展前景以及新型抛光浆料的开发方向. 相似文献
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如今购买MP3,理性的消费者一般不只关注价格、外观以及功能,最主要还要看机器本身的品质,看值不值它的销售价。MP3的外在品质能直观地感受到,它的内在品质又如何?那就请关注以下的介绍吧!一、MP3的基本构成图1为MP3基本构成框图,它主要以中央处理器(解码芯片)为核心构成。解码芯片首先将歌曲文件从存储体(闪存芯片或者微硬盘等介质)中读取出来,对信号进行解码;解码后的数字音频信号通过数模转换器转换成模拟音频信号;最后把还原的模拟音频信号放大并通过低通滤波后输出给耳机,这样就可以听到美妙的音乐了。二、简单分类MP3根据其存储介… 相似文献
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陈杨 《Canadian Metallurgical Quarterly》2011,(9)
在当今社会里,我们的眼球被一幅幅色彩绚丽、让人心动的产品、电影、比赛等海报所占据。海报因其画幅较大,宣传较广,成为现代社会商业活动中重要的信息传播工具之一。 相似文献