深学细悟强党性 笃行实干建新功 奋力书写主题教育国投答卷——宁波国际投资咨询有限公司开展“迎七一”主题教育系列活动

<正>百年风雨兼程,百年初心如磐。为迎接中国共产党成立102周年,近期,宁波国际投资咨询有限公司党委组织开展了一系列主题鲜明、内容丰富的迎“七一”主题活动,引导党员干部进一步弘扬革命传统,传承红色精神,激发干事激情,凝聚奋进力量,以实际行动书写主题教育国投答卷。     

宁夏大武口区“城市热岛效应”观测资料对比分析

根据宁夏石嘴山市大武口区“城市热岛效应”4a的观测资料,用气温对比分析的方法研究大武口区“城市热岛效应”的强弱、季节、日变化规律．结果表明,大武口区热岛效应明显,尤其是冬季呈强热岛级别,秋季次之,夏季和春季较弱;一天中热岛效应最大时刻在夜间,其次在傍晚,午后不明显．提出了减弱城市热岛效应的具体措施．     

Cu/TiO2超细复合粉末材料的制备与表征

基于自催化氧化－还原反应，通过金属铜在纳米二氧化钛粉末表面上的化学沉积，制备了Cu/TiO2超细复合粉末材料。用X射线衍射分析（XRD）、扫描电子显微术（SEM）、EDAX能谱分析和俄歇电子能谱分析（AES）综合表征了产物的形貌及结构情况，用四探针法测定了产物的压片电阻率。     

C60/PVK/CdS纳米粒子功能复合 LB 膜研究

目的 尝试用Ｌａｎｇｍｕｉｒ－Ｂｌｏｄｇｅｔｔ（ＬＢ）技术组装Ｃ６０技术组装Ｃ６０功能复合体系的新方法。方法 采用（ＬＢ）技术制备Ｃ６０／ＰＶＫ／ＣｄＳ花生酸混合ＬＢ膜并利用界面化学反应技术将混合膜与硫化氢气体反应制得Ｃ６０／ＰＶＫ／ＣｄＳ纳米粒子功能复合ＬＢ膜并进行紫外光谱表征。结果 含不同比例Ｃ６０的Ｃ６０ＰＶＫ／ＡＡ体系可以在辐亚相上形成稳定的单层膜并转移到固体基片上得到了ＬＢ多层膜,ＬＢ混     

制造纳米电子器件的技术途径

目的 为发展纳米电子年及纳米电子学技术寻找有效途径。方法 对目前制造纳米电子器件的主要途径,例如基于三束的光刻加工技术、分子组装与纳米微粒排列技术、扫描力探针加工技术等进行了概略的介绍。讨论了各种方法所存在的优势与限制。结果 对基于分子组装与纳米光刻的纳料制造技术给予很大的重视。结论 认为综合若干种技术之长可能是我们目前实现特定纳料器件制造的有效途径。     

基于本体的半结构化数据的柔性查询

半结构化数据库没有固定的库模式，用户对其结构难以产生清晰的认识，从而无法有效地查询所需的内容．提出了一种基于本体的柔性查询，用户通过了解数据库本体语义信息而发出的查询不必遵循严格的数据库模式也能得出结果．由于在半结构化数据库上直接查找效率很低，故在其上生成描述结构模式的概念本体库．查询模块先在本体库上评估能否得出查询结果，再在数据库上执行查询．然而由于本体库可能是图的形式，其查询代价仍然很高，本质上是NP问题，进一步研究了将图转化为树的方法，并给出了相应的算法．     

实时协同中的一致性维护关键技术

实时协同广泛采用数据复制技术来隐藏网络延迟、提高响应速度和改善交互体验。在复制式结构中,用户可以无约束地在不同数据副本上进行操作,这必然会引发一致性维护问题。针对上述问题,根据实时协同应用的特点和需求,总结一致性维护研究面临的技术挑战,通过研究实时协同中操作转换、地址空间转换和WOOT一致性维护的关键技术,讨论Undo和String转换等难点问题,分析这些关键技术在单用户软件向多用户协同软件透明转换、Web2.0环境和移动协同环境中的应用情况。     

工艺参数对基于3D打印支撑模具板料双点渐进成形性能的影响

目的 提高基于3D打印支撑模具的板料双点渐进成形的成形性能,获得更好的成形参数。方法 选择工具头直径、加工步长、进给速度3个工艺参数为因素,设计单因素实验,加工支撑模具半径为45 mm的球冠,获得成形破裂角度,得到成形性能较好的工艺参数范围,确定成形性能较高的双点渐进成形方案。结果 通过实验数据对比并综合表面质量、加工时间及成形精度等因素考虑,最佳工艺参数工具头直径为 10 mm（实验选择8, 10, 12 mm）,垂直层进给量为0.5 mm（实验选择0.2, 0.5, 1 mm）,加工进给速度为 400 mm/min（实验选择300~500 mm/min）。结论 一定区域内工具头半径越小,垂直层进给量越大,工具头进给速度越大,板料成形性能越好。     

POLYMETHYLMETHACRYLATE LANGMUIR-BLODGETT FILMS FOR HIGH RESOLUTION ELECTRON BEAM RESIST

Ultra-thin (20-100nm) polymethylmethacrylate(PMMA) films prepared by Langmuir-Blodgett techniques have been explored as high resolution electron beam resists. A Hitachi S-450 Scanning Electron Microscope (SEM) has been refitted for a high resolution electron beam exposure system. The lithographic properties and exposure conditions of LB PMMA films were investigated. 0.15μm lines-and-spaces patterns were achieved by using the SEM as the exposure tool. The results demonstrate that the etch resistance of such films is sufficiently good to allow patterning of a 20 nm aluminum film suitable for mask fabrication.     

利用本体簇生成标准概念模式

提出了一种标准概念模式的生成方法，为概念模式的复用提供了一种新的方法，其通过引入本体与本体族，对给定概念模式的语义完整性进行评估；然后，对符合完整性要求的概念模式采用量化手段进行处理，从而产生具有代表性的标准概念模式，该方法从语义与结构两个方面对概念模式进行处理，使产生的标准概念模式更具有复用价值。