采用PMMA LB膜作为电子束抗蚀层进行100mm高分辨率铬掩模版的制作研究

在发展流动亚相法制备高粘度聚合物分子单层膜装置的基础上，研究制备大面积，高质量的ＰＭＭＡ ＬＢ膜抗蚀层，并用于１００ｍｍ Ｃｒ掩模版的电子束光刻制造技术中，采用现行标准的湿法工艺获得了分辨率为０．５μｍ，特征线宽为０．３８μｍ的高分辨率１００ｍｍ铬掩模版，为深亚微米掩模版制造的研究探索了一条新路。     

螺旋洗箱机的结构设想

作者受《酒·饮料技术装备》2004年第2期杂志上发表的德国Klotzki公司生产的新产品——螺旋洗箱机的启发,结合自己曾设计过的设备,用图文的形式构想了该设备所应配备的部分,大致勾勒出了该设备的结构,为欲想开发该设备提供了有价值的资料。     

浅析北京四合院的文化内涵和建筑特色

简要介绍了北京四合院的形成和类型,从儒家思想的体现,建筑环境学理论研究,民俗民风三方面探讨了北京四合院的文化特色,并阐述了北京四合院的建筑特色,以期指导人们加深对我国传统建筑的了解,更好地传承和发扬我国建筑艺术文化。     

POLYMETHYLMETHACRYLATE LANGMUIR-BLODGETT FILMS FOR HIGH RESOLUTION ELECTRON BEAM RESIST

Ultra-thin (20-100nm) polymethylmethacrylate(PMMA) films prepared by Langmuir-Blodgett techniques have been explored as high resolution electron beam resists. A Hitachi S-450 Scanning Electron Microscope (SEM) has been refitted for a high resolution electron beam exposure system. The lithographic properties and exposure conditions of LB PMMA films were investigated. 0.15μm lines-and-spaces patterns were achieved by using the SEM as the exposure tool. The results demonstrate that the etch resistance of such films is sufficiently good to allow patterning of a 20 nm aluminum film suitable for mask fabrication.     

EDBMS／3：一个微机环境下的工程数据库管理系统

本文讨论了一个工程数据库管理系统ＥＤＢＭＳ／３的总体结构和功能，以及几个实现技术。该系统在对我们室自行研制的工程数据核心管理系统ＥＤＢＭＳ／２的底层改动和扩充的基础上，提供给用户功能更强的ＤＤＬ和ＤＭＬ。通过对内存常驻数据区、临时数据区和空白区的有效管理，从而减少了常用表的内外存频繁切换，提高了效率。为防止可能出现的系统隐患和数据不一致，定义了元组的Ｒ型网状结构。对多媒体数据的管理和操作使该系统具有处理动态声音、图像等多媒体数据的功能。     

工程数据库管理系统EDBMS／3的内存管理及实现

本文讨论了自行研制的工程数据库管理系统ＥＤＢＭＳ／３的内存管理技术，对系统缓冲区和表工作区的有效管理及对外存的块读写操作，减少了表切换和元组切换的Ｉ／Ｏ操作，从而提高了ＥＤＢＭＳ／３的存取效率。     

基于语义约束的资源工作流并发正确性保证

控制流结构中并发变迁的正确性是工作流模型正确性的基础．为保证模型的正确性，提出了资源语义约束工作流网的基本概念，丰富了控制流的数据语义，给出了两方面的控制流并发正确性：并发控制流与其数据语义的一致性检测算法及改正原则，保证了模型中的并发控制流结构的正确性；实例中基于数据语义约束的并发变迁正确性保证机制，提出了申请锁和释放锁的算法，保证了工作流实例中并发执行的正确性。     

基于属性等价的多数据源互操作模式合并

在涉及多个异构数据源的互操作处理中,跨数据源模式合并是提供形式一致。概念统一的数据查询／操纵界面和应用程序接口的主要途径,长期以来,对此很少有完善的指导性理论,文中从模式构成的最小单位－－属性特性关睥,在对象模型的基础上,先自底向上地定义不同种类的属性等价和类等价的概念,然后自机向下地给出了利用等价类,等价属性进行合并的基本方法,从而为创建跨数据源的一致化对象视图模式探索了新途径。     

戊二醛偶联组氨酸修饰金电极测定铜离子的研究

本文主要研究了一种基于戊二醛偶联组氨酸修饰金电极的方法 ,并以该修饰电极为工作电极利用方波伏安法建立了一种检测痕量铜离子的新方法。在铜溶液中搅拌富集 ,铜离子与修饰电极表面的组氨酸形成配合物吸附在电极表面 ,在磷酸缓冲液 (pH 6 8)中 ,该配合物具有良好的电化学响应。在对不同浓度的铜离子进行检测时发现在 1× 10 - 1 2 ～ 1 8× 10 - 1 1 mol/L和 5× 10 - 7～ 2 1× 10 - 5mol/L之间方波伏安还原峰电流与铜离子浓度呈现良好的线性关系 ,其最低检测限可达 0 5× 10 - 1 2 mol/L ,并对可能的检测机理进行了探讨