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71.
针对全断面掘进机施工环境提出了一种可视化仿真系统整体框架和技术流程,开发具有人机交互功能的全断面掘进机可视化仿真系统。  相似文献   
72.
由于10kv配电线路广泛的应用于电网建设中,而其又容易受到自然环境因素的影响,配电网线路的稳定运行直接影响到供电质量,所以要对线路加强维护,并且做好防雷措施,为电力系统的稳定运行提供基础保障。  相似文献   
73.
高炉矿渣环保综合利用新途径   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过介绍高炉矿渣环保综合利用新途径——高炉矿渣微粉生产工艺,提供了一条如何将高炉矿渣变废为宝的新途径,以满足循环经济的要求,最大限度地提高能源与资源的利用率、减少废弃物的排放、减少有毒物质的排放,使废物最小量化,加强资源的循环使用能力,以尽可能小的资源投入和环境代价,取得尽可能大的经济效益和社会效益,促进资源永续利用,努力实现人与自然的和谐发展。  相似文献   
74.
针对AOD炉冶炼中低碳铬铁合金工艺过程终点判别依靠人工看火操作的难题,提出了利用机器视觉技术模拟传统人工看火过程进行终点判别的方法。利用灰度级提取AOD炉口火焰特征,采用支持向量机(SVM)算法实现图像特征的训练和测试,对比了3种核函数的测试精度。实验结果表明,采用机器视觉技术提取火焰图像特征并与支持向量机结合的方法能够有效识别冶炼终点,并具有较好的识别精度。  相似文献   
75.
文章针对现代电气化铁路,通过介绍其牵引供电技术及牵引变流装置,分析了再生制动能量在机车运行中的产生及利用方式,为监测目前再生制动能量回收系统以及提高其回收利用率提供了理论依据。  相似文献   
76.
建立了中间包1[∶]3水力学模型,对某厂连铸中间包由28 t扩容至40 t后,进行中间包结构优化。通过分析中间包挡墙、挡坝和覆盖剂作用,研究了中间包结构对夹杂物去除的影响规律。夹杂物去除物理模拟与计算结果均表明:粒子粒度分别为-30~-50、-50~-80、-80~-100、-100~-180和-180~-300目时,在中间包基本结构下,夹杂物去除率分别为97.9%、75.7%、64.0%、60.3%和56.3%,相比于中间包基本结构,挡坝内移1 cm对于各种尺寸的夹杂物的去除率均有提高,各尺寸夹杂物的去除率分别为98.7%、82.3%、66.6%、62.9%、57.4%;用混合油模拟中间包覆盖剂,各尺寸夹杂物的去除率分别为98.9%、87.43%、75.14%、70.0%、63.4%,中间包夹杂物的去除率进一步提高。实际生产过程中,中间包改造后,夹杂物尺寸变小,夹杂物数量明显减小,夹杂物的数量较中间包改造前减少了53%。  相似文献   
77.
为了探究纯铁在天然海水中的腐蚀机理以及流速对其腐蚀行为的影响,进而对铁合金腐蚀研究提供理论基础,采用自行制造的水槽式流体流动装置,模拟流动海水对纯铁的腐蚀状况,利用电化学测试手段(自腐蚀电位监测,动电位极化)并结合表面与截面形貌分析,研究了纯铁在静止和选取流速(0.2,0.3,0.4 m/s)下的海水中的腐蚀行为.结果表明:纯铁在流动海水中的耐蚀性比静止时差,且流速越大耐蚀性越差,其腐蚀过程仍主要受阴极氧扩散控制;纯铁在海水中的自腐蚀电位随流速的提高而负移.纯铁在静止海水中的腐蚀产生突起状形貌,在流动海水中腐蚀产生具有明显方向性的腐蚀坑.  相似文献   
78.
测量了夹在两个金属电极间的非故意掺杂的n型立方氮化硼(cBN)晶体的伏安特性,它们为非线性曲线.使用不同的电极测量了20多个cBN晶体的伏安特性,曲线的形状非常相似.在样品两端的电压值大约为560V时,cBN晶体发生电致发光现象.利用空间电荷限制电流和能谷间的电子跃迁解释了上述实验现象.  相似文献   
79.
测量了夹在两个金属电极间的非故意掺杂的n型立方氮化硼(cBN)晶体的伏安特性,它们为非线性曲线.使用不同的电极测量了20多个cBN晶体的伏安特性,曲线的形状非常相似.在样品两端的电压值大约为560V时,cBN晶体发生电致发光现象.利用空间电荷限制电流和能谷间的电子跃迁解释了上述实验现象.  相似文献   
80.
Fe-Cr合金预氧化后涂覆KCl盐膜的热腐蚀行为   总被引:1,自引:0,他引:1  
为开发新型耐高温氯化腐蚀合金及防护涂层,对比研究了750 ℃下Fe-20%Cr(质量分数)合金直接涂KCl和预氧化后再涂KCl盐膜条件下的热腐蚀行为.采用XRD及EPMA对其现象进行分析,结果表明:预氧化生成的初始Cr2O3层对Fe-20%Cr合金在KCl盐膜下的热腐蚀有一定的保护作用,表现为降低腐蚀速率,减轻腐蚀对基体的破坏并维持氧化膜的完整性;Fe-20%Cr在750℃KCl盐膜下的腐蚀产物主要是Fe2O3,Cr2O3以及少量K2Fe2O4和K2Cr2O7等复杂氧化物,其中Fe2O3分布在氧化膜外层,而Cr2O3集中于靠近氧化膜/基体界面的氧化膜内侧.用热力学理论解释了这种氧化膜的形成原因.  相似文献   
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