Control of peak sidelobe level in adaptive arrays

Adaptive beamforming techniques are now widely used to reject interference (jammer/clutter) signals in radar, communication, and sonar applications. In adaptive arrays using the sample matrix inversion (SMI) algorithm, inadequate estimation of the covariance matrix results in adaptive antenna patterns with high sidelobes and distorted mainbeams. In this paper, a method is proposed to precisely control the peak (rather than average) sidelobe level of adaptive array patterns. The proposed method is also generalized to adaptive array antennas with moderate bandwidth and large random amplitude and phase errors. Theoretical analysis and simulation results are provided to illustrate the performance of the method proposed     

纳米级BaAl_2O_4微粉的制备和性质

分别用溶胶 -凝胶法、低温固相反应法 ,制得了纳米级BaAl2 O4微粉 ,用电镜观察了其形貌和粒径的大小 ,用X-射线衍射仪进行了物相分析 ,测定了其纯度与晶型 ,讨论了制备方法与粒度大小的相互影响     

一个可切实服务于运营商的移动无线因特网

本文在简单介绍了移动IP及其路由优化，无线局域网（WLAN）和GPRS的基础上，提出了一个新的利用移动IP来融合WLAN和GPRS的移动无线因特网的网络结构，详细论述了其多连接的路由过程，平滑垂直切换，AAA，并做了简要的性能分析。     

基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理

讨论了如何选择适当的规则,如何建立简洁实用的规则库,如何应用规则库.提出了四种主要的光学邻近矫正规则,在实验结果中列举了规则库中的部分数据.利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善.规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分.     

分析矩形光波导损耗的简易方法

利用有效折射率和修正的有效折射率方法对矩形光波导的损耗作了简单有效的分析，并且计算出了纵向传播系数和衰减系数的大小。     

电子束和接触式曝光机的混合曝光技术

Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光，在50kV加速电压下，其曝光剂量为50-100μC/cm^2，曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍，分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT：一种用Ⅰ线光致抗蚀剂，对源、漏及栅全部都采用电子束曝光，制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT；另一种将源、漏及栅分割成两部分，其中精细部分由电子束曝光，其余部分由光学系统曝光，用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ     

论版面设计的视觉符号语言

阐述了视觉符号语言在版面设计中的编码与各种表现形式，强调信息社会的来临，以视觉为形态的符号语言将有效加速信息的传递。     

基于POSC的测井曲线数据存储管理系统

在基于POSC标准的基础上，分析了POSC EPICENTER数据模型，对油田中普遍使用的LS716测井大块数据在磁盘和远程自动磁带库之间实现了一体化的数据管理，开发了数据加载，数据删除，头信息浏览线回施行能模块。该系统特点是，管理信息加载到POSC数据仓中，而真正的数据体以外部数据文件的形式存放，使得大块数据的加载和提取速度大大提高，同时，在数据仓库和远程带库之间实现了一体化的数据管理。     

CAD/CAM在注射模设计中的应用

以Pro/E、Moldflow软件为例,对CAD/CAM技术在注射模设计中的应用进行了研究和探讨,总结了使用该软件的一些体会,阐述了注射模CAD/CAM技术的发展趋势。