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991.
在考虑末端角度和末端速度约束的前提下,研究滑模变结构导引律在再入飞行器上的应用。推导满足末端角度约束的滑模变结构导引律,给出俯冲平面和转弯平面的导引方程,依据导引方程生成需要攻角、侧滑角制导指令。设计考虑末端速度要求后制导环节产生的附加攻角和侧滑角指令。需要制导指令和附加指令相加得到同时考虑落速和落角情况下的合成攻角、侧滑角指令。仿真表明,滑模导引律能稳定姿态且引导飞行器准确到达目标点。针对不同的运动速度情况,进行了落点偏差、末端速度和末端角度随速度的变化趋势分析,在末端角度控制上两种导引律表现相近,在末端速度和落点偏差上滑模导引律表现明显优于最优导引律,表明滑模变结构导引律针对移动目标具有鲁棒性。 相似文献
992.
研究了在VERICUT中构建叶轮的虚拟加工仿真平台,通过叶轮整个加工过程的仿真模拟,验证NX8.0加工模块后处理器生成的专用VHP800-5AX五轴联动加工中心加工叶轮数控程序的正确性,优化了加工程序,防止干涉和过切,提高了数控程序的可用性与通用性。 相似文献
993.
994.
水中气泡界面的光强研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过菲涅耳公式,对气泡内外界面的光强进行了计算,得出气泡界面第2次反射光强I′2s和I′2p(内表面)、折射光强I2s和I2p(外表面)的一般规律,及不同偏振态的光线在界面第n次反射和折射后的光强与第2次光强的关系。理论和实验均表明,光在气泡界面连续反射4次后基本消失。最后通过激光和CCD相机抓拍到水中气泡的图像,能明显获得出射光线轨迹,实验测量出射光强的值与理论计算值相吻合。 相似文献
995.
测控系统中的软件抗干扰技术 总被引:1,自引:2,他引:1
测控系统在使用中存在着大量的干扰源,严重影响了系统运行的可靠性。通常使用硬件抗干扰措施与软件抗干扰措施来抑制系统中出现的各种干扰。软件抗干扰措施是硬件抗干扰措施的一个补充和延伸,具有简单、灵活、方便、耗费硬件资源少及容易实现等特点。软件抗干扰技术的使用会显著提高系统的可靠性。本文着重讨论了测控系统中的软件抗干扰技术。 相似文献
996.
997.
一种高精度低温漂的基准电压源的分析与设计 总被引:2,自引:1,他引:2
设计了一种CMOS基准电压源结构,具有高精度、低温漂的特点。它利用带隙基准的基本原理,结合自偏置结构以及适当的启动电路,获得了相对稳定的电压值以及较好的温度系数。此基准结构已经在标准的0.6μmCMOS工艺线上进行了流水,实测结果表明基准电压源的输出中心值为1.209V,温度从0℃变化到100℃,温度系数为66ppm/℃,同时,供电源从2V变化到6V,基准电压值的变化约为2mV。这种基准结构已经成功应用在CMOSDC/DC转换器中,并取得了良好的应用效果。 相似文献
998.
现行的照明用具一般体积较大、不易随身携带且不具备图像放大能力,为了给广大学习者尤其是视力不佳者提供一种全新的学习照明装置,设计了一种便携式放大视读屏.它具有柔光照明和图像放大双重功能:该屏利用梯形波导板的受抑全内反射原理,将侧面导入的LED光束从上下表面导出,实现了均匀的柔光照明功能;同时利用模压在波导板下表面的菲涅耳透镜实现了可调的图像放大功能.根据上述设计原理,通过ZEMAX软件对该视读屏的工作效果进行了理论模拟和参数优化,并制作了一块120 min×80 min×4 mm的视读屏,结果表明照明光线均匀柔和、放大效果清晰一致,成功实现了柔光照明和图像放大双重功能. 相似文献
999.
采用射频磁控溅射技术在SiO2/Si上淀积高c轴取向的ZnO薄膜,在氧气和氩气的混合气氛、不同温度(400~900℃)下进行快速热退火处理。利用X-射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对薄膜结构、形貌与界面状态性能进行了分析。研究结果表明,ZnO薄膜的晶粒尺寸随着退火温度的升高而增大,衍射峰强度增强,峰位随之偏移;SEM分析显示薄膜呈柱状生长,表现出较好的c轴取向性;TEM分析表明ZnO与下电极Pt是呈共格生长,晶格匹配很好。 相似文献
1000.