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弹道目标平动补偿与微多普勒特征提取方法 总被引:2,自引:0,他引:2
针对传统逆合成孔径雷达(ISAR)成像中的平动补偿方法并不适用于弹道目标平动补偿的问题,该文提出了一种弹道目标平动补偿与微多普勒(m-D)特征提取方法。在分析有翼弹道目标未完成平动补偿时的m-D效应的基础上,首先采用形态学中的骨架提取方法抑制1维距离像旁瓣,再在快时间频率(距离)-慢时间平面上搜索分离各散射点的m-D特征曲线,然后对其进行经验模式分解(EMD)分解,利用分解结果中的趋势项分量完成目标回波的平动补偿,并通过分析EMD分解结果获得了目标的自旋频率、锥旋频率等特征信息。仿真实验验证了所提方法的有效性与鲁棒性。 相似文献
82.
纳秒激光加工石英微通道的实验与理论研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用调Q Nd…YAG激光器输出的1064nm纳秒脉冲激光聚焦在石英上,分别采用激光热加工法和激光诱导等离子体法加工微通道。热加工的通道长度可控,通道周围产生热裂纹;诱导等离子体加工的微通道内壁光滑,通道深度可达4mm。研究了激光热加工微通道时的温度场和热应力分布,分析了激光诱导等离子体加工微通道的过程。研究表明,激光热加工时温度场的存在导致热应力的产生,热应力超过石英断裂阈值使石英发生炸裂,导致微通道的形成及热裂纹的产生;激光诱导等离子体法由于等离子体屏蔽效应产生的高温等离子体烧蚀石英形成微通道,避免了热裂纹的产生。 相似文献
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由于性能优良,H桥级联变频器在中压调速传动中得到最广泛应用。通常这类变频器H桥中的交-直变换都采用二极管整流,使之不能四象限工作。把二极管整流改为PWM整流(AFE),变频器就可以四象限工作,但需在整流输入端增加电感和电容,控制也复杂。本文建议改用I GBT整流/回馈单元,器件按同步开关模式工作,使变频器成为具有与常规H桥级联变频器同样性能的四象限变频器,且不必像AFE那样增加电感和电容,控制也特别简单。矩阵变换器MC是一类性能优良的PWM交-交直接变频器。通过三相/单相MC桥的级联可以实现四象限中压变频。文中介绍了安川公司的MC桥级联中压变频器,并把它和基于整流/回馈单元的H桥级联中压变频器进行比较。 相似文献
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Jing Liang Xiao Hongling Wang Xiaoliang Wang Cuimei Deng Qingwen Li Zhidong Ding Jieqin Wang Zhanguo Hou Xun 《半导体学报》2013,34(11):113002-5
GaN films are grown on cone-shaped patterned sapphire substrates(CPSSs)by metal-organic chemical vapor deposition,and the influence of the temperature during the middle stage of GaN growth on the threading dislocation(TD)density of GaN is investigated.High-resolution X-ray diffraction(XRD)and cathodeluminescence(CL)wereusedtocharacterizetheGaNfilms.TheXRDresultsshowedthattheedge-typedislocation density of GaN grown on CPSS is remarkably reduced compared to that of GaN grown on conventional sapphire substrates(CSSs).Furthermore,whenthegrowthtemperatureinthemiddlestageofGaNgrownonCPSSdecreases,the full width at half maximum of the asymmetry(102)plane of GaN is reduced.This reduction is attributed to the enhancement of vertical growth in the middle stage with a more triangular-like shape and the bending of TDs.The CL intensity spatial mapping results also showed the superior optical properties of GaN grown on CPSS to those of GaN on CSS,and that the density of dark spots of GaN grown on CPSS induced by nonradiative recombination is reduced when the growth temperature in the middle stage decreases. 相似文献
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基于实际应用,介绍了半导体设备真空结构和真空室常用部件,讲述了He质谱检漏仪的使用方法.总结了真空检漏的经验,阐述了微漏难检的现状.分析了磁控溅射台和ICP真空故障,采用静压检漏法和He质谱检漏仪检漏法,给出了零部件微漏导致这些设备抽不上高真空的结论.指出今后的发展方向是真空部件小型化,以及根据设备特点来提高真空部件的可靠性.结果表明,先排除干扰因素,再细心检漏,可大大提高检漏效率,使设备尽快恢复正常. 相似文献
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