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Dong-Soo Yoon Jae Sung Roh Sung-Man Lee Hong Koo Baik 《Journal of Electronic Materials》2003,32(8):890-898
The effect of a thin RuOx layer formed on the Ru/TiN/doped poly-Si/Si stack structure was compared with that on the RuOx/TiN/doped poly-Si/Si stack structure over the post-deposition annealing temperature ranges of 450–600°C. The Ru/TiN/poly-Si/Si
contact system exhibited linear behavior at forward bias with a small increase in the total resistance up to 600°C. The RuOx/TiN/poly-Si/Si contact system exhibited nonlinear characteristics under forward bias at 450°C, which is attributed to no
formation of a thin RuOx layer at the RuOx surface and porous-amorphous microstructure. In the former case, the addition of oxygen at the surface layer of the Ru film
by pre-annealing leads to the formation of a thin RuOx layer and chemically strong Ru-O bonds. This results from the retardation of oxygen diffusion caused by the discontinuity
of diffusion paths. In particular, the RuOx layer in a nonstoichiometric state is changed to the RuO2-crystalline phase in a stoichiometric state after post-deposition annealing; this phase can act as an oxygen-capture layer.
Therefore, it appears that the electrical properties of the Ru/TiN/poly-Si/Si contact system are better than those of the
RuOx/TiN/poly-Si/Si contact system. 相似文献
122.
从 8 0年代开始 ,无功就地补偿技术在我国的冶金系统就有了成功的应用 ,90年代这项技术在我国的各种工矿企业得到了推广。但由于某些不尽理想的原因 ,曾有过曲折反复 ,有的企业至今不敢应用 ,这项技术在认识上和应用中也还存在着一些值得探讨的问题。现结合实践经验提供下列粗浅的看法 ,供同行参考。1.应用无功就地补偿技术的节能效果分析应用无功就地补偿的节能效果在相关的刊物上有过许多介绍。由于企业大多没配备便携式能耗测试仪表 ,不少介绍性论文中经常以理论推导的方式来计算节能效果。在实践中 ,有的企业仅仅根据电动机就地安装无功… 相似文献
123.
Investigation into polishing process of CVD diamond films 总被引:1,自引:0,他引:1
A new technique used for polishing chemical vapor deposition (CVD) diamond films has been investigated, by which rough polishing of the CVD diamond films can be achieved efficiently. A CVD diamond film is coated with a thin layer of electrically conductive material in advance, and then electro-discharge machining (EDM) is used to machine the coated surface. As a result, peaks on the surface of the diamond film are removed rapidly. During machining, graphitization of diamond enables the EDM process to continue. The single pulse discharge shows that the material of the coated layer evidently affects removal behavior of the CVD diamond films. Compared with the machining of ordinary metal materials, the process of EDM CVD diamond films possesses a quite different characteristic. The removal mechanism of the CVD diamond films is discussed. 相似文献
124.
125.
126.
Math1 is essential for genesis of cerebellar granule neurons 总被引:1,自引:0,他引:1
N Ben-Arie HJ Bellen DL Armstrong AE McCall PR Gordadze Q Guo MM Matzuk HY Zoghbi 《Canadian Metallurgical Quarterly》1997,390(6656):169-172
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