首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   186篇
  免费   0篇
  国内免费   5篇
电工技术   51篇
综合类   6篇
化学工业   2篇
金属工艺   17篇
机械仪表   26篇
建筑科学   5篇
轻工业   1篇
水利工程   3篇
无线电   50篇
一般工业技术   9篇
原子能技术   5篇
自动化技术   16篇
  2023年   2篇
  2022年   7篇
  2021年   2篇
  2020年   2篇
  2019年   5篇
  2018年   1篇
  2017年   1篇
  2015年   3篇
  2014年   6篇
  2013年   11篇
  2012年   8篇
  2011年   16篇
  2010年   31篇
  2009年   10篇
  2008年   16篇
  2007年   26篇
  2006年   24篇
  2005年   2篇
  2004年   1篇
  2002年   3篇
  1999年   10篇
  1997年   1篇
  1996年   3篇
排序方式: 共有191条查询结果,搜索用时 15 毫秒
51.
印制电路板的设计技术   总被引:1,自引:0,他引:1  
印制电路板在电子技术实践教学中占据重要的位置,不可缺少。那么,如何设计印制电路板,本文指出了印制电路板的设计方法和技术。  相似文献   
52.
介绍了移动IPv6的工作原理,然后分析在IPv6网络中引入移动IP协议可能给网络带来的安全隐患,并讨论移动IPv6所采用的安全技术.  相似文献   
53.
本文主要论述了基于浏览器/服务器(B/S)模式的数据库体系的发展状况及ASP技术在该模式下对WEB程序的开发应用.  相似文献   
54.
由晓晓  常玲  吕俊霞 《表面技术》2019,48(5):97-101
目的研究β晶界对激光直接熔化沉积(LDMD)Ti-6Al-4V合金裂纹形核或传播行为的影响,以澄清合金的断裂机制,为合金性能的改善提供理论依据。方法采用LDMD Ti-6Al-4V合金粉末,在Ti-6Al-4V基板上逐层堆积形成沉积层。沿沉积层扫描方向截取试样,在室温下观察样品的微观组织形貌,并对原位拉伸过程中的微观组织演化进行实时研究。同时研究β晶界对微裂纹萌生、扩展和断裂的影响行为,总结断裂机理。结果 LDMD Ti-6Al-4V合金组织宏观呈现出沿构造方向生长的粗大柱状β晶,β晶内由板条状α晶和整齐排列的具有相同生长取向的α簇组织组成,并有少量孔洞缺陷。采用原位扫描电镜拉伸样品时发现,在横向拉力作用下,样品最初在孔洞周围发生变形,之后裂纹的萌生扩展主要沿β晶界进行,β晶界对拉力起阻碍作用,造成样品的伸长率较低。拉伸过程中,微观组织主要沿着β晶界周围的α相变形,并且孔洞缺陷引起的应力集中使得缺陷周围变形最严重,变形方向与拉力方向呈45°。结论孔洞缺陷决定了样品的初始变形位置,而β晶界则决定了裂纹传播的方向,且由于拉伸试样的截取方向与β晶界相垂直,导致样品的伸长率较低,所以β晶界对样品的力学性能及断裂机理起决定作用。  相似文献   
55.
分析了阅读二次回路接线图的基本方法。包括二次回路图的分类、原理接线图、展开接线图、安装接线图及电缆联系图的阅读及分析方法等。  相似文献   
56.
介绍了电容器在运行过程中为避免可能发生的事故需要采取的相关预防措施。分析了电容器装置常见故障的原因及预防方法等;为了降低补偿电容器的损坏率,改善电力系统的电压质量和提高输电线路的输电能力,详细介绍了预防电容器装置事故的技术措施和方法;重申了电容器的停电检修的安全要求,可以供电业从业人员学习参考。  相似文献   
57.
文章分析了输电线路外力破坏及风偏放电的预防措施。包括容易遭受外力破坏的线路,输电线路遭受外力破坏的主要表现形式,外力破坏的成因分析,防外力破坏存在的主要问题,防止外力破坏的主要措施,输电线路的风偏放电及预防措施等。  相似文献   
58.
吕俊霞 《灯与照明》2012,36(4):33-35
分析了电气照明电路常见故障与维护技术.包括照明负荷的重要性,照明电路的短路、断路和漏电故障及排除方法,常用灯具故障形成原因等.  相似文献   
59.
阐述了模拟电路常用电子元器件,如晶体二极管、三极管、晶闸管、场效应管等的检测方法。万用表是最常用的检测手段。正确的检测方法可以迅速地判别电子元器件的性能以及其相互间的最佳匹配,从而大大降低了电子运行设备的故障率。  相似文献   
60.
在λ=285nm波长处,选择了一种新的多层膜材料对C/Al。与Mo/Si,C/Si软X射线多层膜相比,正入射C/Al多层膜在150nm附近有很低的二级衍射峰。用磁控溅射法制备了C/Al软X射线多层膜样品,并用X射线小角衍射法对其结构进行了测试。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号