基片温度对微晶硅薄膜微观结构和光学性能的影响

以Ar＋SiH_4作为反应气体,采用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积（ECR-PECVD）方法制备微晶硅薄膜,研究了基片温度对薄膜微观结构、吸收系数、光学禁带宽度的影响。结果表明,随着基片温度的升高,薄膜的微观组织逐渐由非晶转化为微晶,薄膜的粗糙度单调增大,而H含量则单调减小。薄膜的光学吸收系数随基片温度的升高而增...     

升级冶金级Si衬底上ECR-PECVD沉积多晶Si薄膜

成功地应用电子回旋共振微波等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)法在升级冶国家重点实验室,辽宁大连 116024;2.锡根大学材料工程研究所,德国锡根 57076)金级Si衬底上175℃低温条件下沉积了一层优质多晶Si薄膜.研究了压强、流量比对多晶Si薄膜质量的影响,并用Raman、RHEED、SEM、XRD对薄膜结晶性、晶粒大小及显微组织结构进行了表征.发现在恒定气压下,结晶质量随流量比增大先变好后变差,即存在最佳流量比,0.16Pa对应10:5,而0.4 Pa对应10:6.8.     

氮气流量对玻璃衬底上低温沉积GaN薄膜结晶性的影响

采用电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学气相沉积（ECR-PEMOCVD）技术,在康宁7101型普通玻璃衬底上沉积了高度c轴择优取向的多晶GaN薄膜. 利用反射高能电子衍射（RHEED) , X射线衍射 (XRD) 对样品进行检测,研究了在低温（430℃）沉积中氮气流量对GaN薄膜结晶性的影响. 并且利用原子力显微镜 (AFM) 和室温光致发光 (PL) 谱研究了薄膜的表面形貌和发光特性,发现薄膜表面形貌较为平整,其发光峰由较强的紫外近带边发光峰和极其微弱的绿光发光峰组成.     

ECR-PEMOCVD技术生长的GaMnN薄膜的特性

利用电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上生长出具有一定Mn含量的GaMnN稀磁半导体薄膜.RHEED图像呈现清晰的斑点状点阵,表明薄膜为单晶,表面不是很平整,为三维岛状生长模式.X射线衍射分析表明薄膜为六方结构,沿c轴方向生长,结晶性良好.AFM显示薄膜是由许多亚微米量级的晶粒按一致的取向规则堆砌而成的.超导量子干涉仪(SQUID)测量显示在室温下薄膜依然具有铁磁性,居里温度约为400K.     

建筑空间意义的塑造及其理论发展

通过对建筑空间形式、几何关系以及人在其中的活动的研究,以及对建筑历史、建筑空间理论的浅析,本文讨论了建筑空间意义的塑造以及其对于建筑学发展的重要历史意义。     

多维自适应干扰抵消器中宽带射频放大器的研制

本介绍了多维自适应干扰抵消器中的关键部件二路宽带高精度射频放大器。该射频放大器带宽在１ＭＨｚ～３０ＭＨｚ间频响应坦度为０．１ｄＢ,输出功率为１０Ｗ。中给出了测试数据和表格。     

300 MW汽轮机凝汽器变工况计算及特性曲线分析

依据目前普遍采用的凝汽器传热系数计算方法(前苏联全苏热工所的公式),利用Matlab编程计算绘制了300 MW汽轮机凝汽器在额定蒸汽流量、50%和110%额定蒸汽流量,以及凝汽器半边冲洗时的特性曲线,对这几个典型工况曲线进行了分析。     

我国钢结构建筑设计研究初探

阐述了钢结构建筑所具有的优越性 ,探讨了我国现阶段大力开发推广钢结构技术的可行性 ,并从建筑设计的角度研究了钢结构建筑的特征。     

一种新型的材料表面改性装置--强流脉冲电子束(电子炮)

本文介绍了一种强流脉冲电子束材料表面改性装置,并对其基本构造及工作原理进行了剖析。电子束产生部分由爆炸电子发射阴极、等离子体阳极及导向磁场构成。在对该装置测试的基础之上,我们采用不同的工艺参数进行了Ａｌ材表面改性实验。分析及测试结果表明,材料近表面层的显微结构发生明显的变化。