30 D超细旦仿真丝弹力雪纺工艺探讨

通过蒸缸退捻预缩,使超细旦仿真丝弹力雪纺织物获得起绉风格;再180 ℃预定形30 s,以防止布面褶皱,保持布面风格;之后,进行碱减量处理、分散染料120 ℃染色,以及柔软、抗静电后整理,提高织物的服用性能。     

基于电动汽车V2G的柔性直流供电系统灵活资源调控策略研究

为了提高清洁能源消纳率,降低碳排放量,给出一种柔性交直流供电系统拓扑,该拓扑通过直流母线实现光伏发电、储能及电动汽车充放电的能量交互,通过双向AC/DC设备实现交直流系统能量互动.为保证该系统的安全、稳定、经济运行,提出一种多时间尺度调度控制策略,包含毫秒级、秒级到分钟级、小时级到日等不同时间尺度.策略结合储能、光伏发...     

基于模态分析的散布式扬声器幅频特性研究

从薄板弯曲振动方程出发,论述了散布武平板扬声器薄板振动模态与声辐射模态和辐射声功率的内在关联。研究表明：振动模态简正频率密度和主导声辐射模态是影响辐射声功率的主要因素。试验证明,激励力所能激发的模态密度、模态阻尼对平板扬声器幅频特性有较大影响。     

大功率发射机中的热管应用

介绍了一款大功率发射机的散热设计,由于存在局部热点,采用热管散热装置。设计全程使用了专业电子设备热仿真ICEPAK软件,进行计算机辅助设计,提高了设计效率。设计时根据发热量,计算给出了风机的选择方法。仿真发现即便选用高效率插片成型散热器仍不能消除局部热点,为此在关键热源底部预埋热管,进行温度均匀,这一措施能有效解决这一难题。经过设计验证,取得了很好的效果。     

旋流-静态微泡浮选柱分选某白钨矿的半工业试验研究

采用旋流-静态微泡浮选柱用于白钨矿粗选的半工业试验,主要开展了处理量试验和药剂用量试验.72 h连选试验结果表明,采用一次粗选、一次精选闭路流程,利用旋流-静态微泡浮选柱可得到9.76%的白钨粗精矿,尾矿品位0.10%,且对回收率影响不大.     

基于水化学特征组分测试的陷落柱突水水源判别

为了查清煤层底板陷落柱的水文地球化学特征,以山西某矿大巷掘进探水过程中发现的陷落柱突水为研究对象,采用常规水质分析、特征元素含量测定和三维荧光光谱分析手段,开展了太灰水、奥灰水和陷落柱水的水化学特征组分测试。结果表明,常规水质组分中pH值、总硬度、溶解性总固体、硫酸盐、钙、钴、锰、锶反映出陷落柱水与奥灰水关系更密切,其他指标数值介于太灰与奥灰之间,反映出奥灰、太灰混合水特征。陷落柱水中有机质聚集,水动力条件弱,与上下含水层水交换较弱;DOM荧光强度最高,特别是Ⅱ区和Ⅲ区荧光峰强度,太灰水和奥灰水中荧光强度相对较弱,表明陷落柱空间自成生态系统,碳源相对丰富。利用常规组分、特征元素和有机组分,可以很好地区分出陷落柱水与其他水源的水化学特征。     

分光光度计测试金红石型钛白粉遮盖力的方法研究

金红石型钛白粉是一种按照相关配比配方确定的颜料,用于制备漆装。按照分光光度湿膜制造备品,采用分光光度计量,确定样品的反射率,做好检测分析。利用精准度色彩品质,确定可以直接调控的样品。在遮盖力中测试关键因素,做好数据的优化。采用丙烯酸作为漆料,控制颜料的实际体积比例在15%以内,控制震荡的研磨时间为90min,控制湿膜的厚度为100μm。金红石型钛白粉的浆液,通过分光光度确定遮盖力效果。本文将针对分光光度计测试分析金红石的钛白粉遮盖力水平,以实验测定分析方法,按照仪器仪表的操作形式,结合漆料的选配试样标准方法,确定分光光度与传统反射率之间的差异,分析确定金红石型钛白粉的遮盖力效果。按照颜料体积数据分析标准,测试漆料,确定研磨所用的具体时间,确定涂膜的厚度标准,更好的满足分光光度的实际测定操作效果。     

PC构件模具标准化和通用化研究

针对装配式建筑中PC构件生产的模具重复利用率较低、模具配套成本较高等现状,从预制构件标准化、构件模具标准化库与模具零部件标准化、模具组合式通用化配置等方面出发,对PC构件生产中模具设计与制作进行了分析与研究,对降低装配式建筑总体生产成本和提高预制构件生产效率提出了建议。     

新型抛光后晶片表面金属离子清洗工艺

本文提出了一种新型的利用金刚石膜电极电化学氧化进行抛光后晶片金属离子污染的清洗方法。金刚石膜电极电化学氧化,可以制备氧化性强的过氧焦磷酸盐,过氧焦磷酸盐可以有效的氧化表面有机物,同时过氧焦磷酸盐被还原成的焦磷酸盐具有很强的配合力,它能与铜等金属离子络合。将三块晶片在0.01mol/L的CuSO4溶液中进行金属离子污染后进行清洗对比实验。对比实验有三部分,一是采用金刚石膜电化学氧化制备的过氧焦磷酸盐进行清洗,二是传统的RCA清洗方法,三是去离子水清洗。XPS测试结果表明,过氧焦磷酸盐清洗与RCA清洗方法对金属离子的去除效果均小于ppm级。过氧焦磷酸盐清洗对有机物的清洗效果优于传统的RCA清洗方法。因此金刚石膜电化学氧化清洗方法可以有效去除有机污染以及金属离子污染,实现了一剂多用,减少清洗步骤,达到节能环保的目的。     

A new cleaning process for the metallic contaminants on a post-CMP wafer's surface

This paper presents a new cleaning process using boron-doped diamond(BDD) film anode electrochemical oxidation for metallic contaminants on polished silicon wafer surfaces.The BDD film anode electrochemical oxidation can efficiently prepare pyrophosphate peroxide,pyrophosphate peroxide can oxidize organic contaminants,and pyrophosphate peroxide is deoxidized into pyrophosphate.Pyrophosphate,a good complexing agent,can form a metal complex,which is a structure consisting of a copper ion,bonded to a surrou...