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脉冲电流密度对Ni-SiC镀层微观结构和显微硬度的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
采用脉冲电沉积方法,在压缩机阀片表面制备Ni-SiC镀层。利用原子吸收分光光度计、透射电镜和硬度计研究脉冲电流密度对Ni-SiC镀层SiC粒子复合量、微观结构和显微硬度的影响。结果表明,随着脉冲电流密度的增大,Ni-SiC镀层SiC粒子的复合量先增加后略有降低。在脉冲电流密度为7A/dm2时,镀层SiC粒子的复合量高达9.92%(质量分数)。脉冲电流密度为7A/dm2时,镀层致密、晶粒细小,SiC粒子均匀分布于镀层中,且团聚现象较少。当脉冲电流密度为7A/dm2时,镀层的显微硬度高达842.9Hv。 相似文献
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电沉积技术是一种方便、高效、低成本制备金属基纳米镀层的方法,其工艺参数直接决定金属基纳米镀层的微观组织及性能。为系统研究电沉积工艺参数对金属基纳米镀层表面形貌、显微组织、力学性能及耐磨损性能的影响规律,本实验采用脉冲电沉积制得Ni-TiN纳米镀层,并利用透射电镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、摩擦磨损试验机研究了工艺参数对Ni-TiN纳米镀层的显微结构、显微硬度和性能的影响。结果表明,当电流密度为4A/dm~2时,Ni-TiN纳米镀层的显微硬度为984.7HV,TiN微粒复合量为8.69%(质量分数)。采用不同脉冲频率制得的Ni-TiN纳米镀层,其晶面原子呈现不同方向的面心立方晶格结构。当脉冲频率为200Hz时,Ni-TiN纳米镀层中Ni和TiN的平均粒径分别为87.2nm和34.6nm。当脉冲占空比为20%时,Ni-TiN纳米镀层的显微硬度为980HV,其平均磨损量为7.56mg/mm2。 相似文献
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脉冲电沉积纳米Ni-TiN复合镀层 总被引:2,自引:0,他引:2
为了改善基体的耐磨性能,采用脉冲电沉积法,在不锈钢基体上制备纳米Ni-TiN复合镀层.研究了TiN粒子浓度、电流密度及搅拌速度等对复合镀层磨损量的影响.利用高分辨电子显微镜对复合镀层进行观察,并进行腐蚀试验测试.结果表明:纳米Ni-TiN复合镀层的最佳工艺参数为TiN粒子的浓度4 g/L,电流密度4 A/dm2,搅拌速度2000 r/min.在纳米Ni-TiN镀层中,纳米TiN粒子的直径均不超过50 nm,镍晶粒得到细化;且该复合镀层具有优良的耐腐蚀性. 相似文献
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