NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展

综述了NdFeB永磁薄膜的制备方法和原理;介绍了NdFeB永磁薄膜的研究进展;指出了NdFeB永磁薄膜存在的问题;并对NdFeB永磁薄膜未来的发展方向及应用前景进行了展望。     

NdFeB永磁材料的分类及其应用

论述了NdFeB永磁材料的分类,介绍了NdFeB永磁材料的应用,并对永磁材料的应用前景进行了展望。     

镁基储氢材料的改性研究

镁基储氢材料因其储氢量大、成本低廉等而被认为是最有前途的固态储氢材料之一。然而其过慢的吸放氢速率和过高的吸放氢温度限制了它的应用。元素取代和纳米复合是改善镁基储氢材料性能的重要方法。本文对镁基储氢材料的改性方法进行了综述,并对其发展趋势进行了展望。     

温压压力对钕铁硼磁性能和抗压强度的影响

为了制备高性能的粘结磁体,改善有机粘结剂粘结磁体的不足,采用粘结的方法使用金属Sn作为粘结钕铁硼磁体的粘结剂,通过温压设备进行双向模压成型制备磁体,讨论了温压压力对粘结钕铁硼磁体的磁性能和抗压强度的影响规律。研究表明,当温压压力达到1 400 MPa时,磁体具有较佳性能:磁体密度ρ为6.492 g/cm3,剩磁Br为0.789 T,内禀矫顽力Hcj为719 kA/m,最大磁能积(BH)m为110.9 kJ/m3,抗压强度fc为81.5 MPa。     

溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响

采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺.通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30W功率下溅射,...     

温度对AZ31镁合金固相回收的性能影响

要提高镁合金的综合性能,需要进行热挤压变形.通过改变挤压温度提高镁合金的性能,并对挤压试样进行拉伸和金相观察.结果表明,挤压温度对合金的性能影响很大.通过试验,确定了合理的挤压温度.     

衬底负偏压及溅射功率对SiO_2/Cu薄膜形貌的影响

采用射频磁控溅射镀膜技术,分别以不同的衬底负偏压和射频溅射功率下在p型Si(100)基片上制备了SiO2/Cu薄膜。用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行扫描分析,实验结果表明,衬底负偏压和射频溅射功率对SiO2/Cu薄膜的表面形貌都有显著的影响。衬底负偏压在0～15 V内,薄膜表面颗粒尺寸和均方根粗糙度都随着衬底负偏压的增大呈减小的趋势,而溅射功率在100～200 W内,薄膜表面颗粒尺寸和均方根粗糙度都随溅射功率的升高呈增大的趋势。成膜初期是层状生长模式,后期为岛状生长模式,整个成膜过程是典型的层岛生长模式。     

电化学沉积参数对Fe-B薄膜结构及磁致伸缩性能的影响

用电化学沉积法制备Fe、B摩尔比接近80/20的Fe-B磁致伸缩薄膜,研究了电流密度和溶液组分对Fe-B薄膜结构及形貌的影响。利用阻抗仪研究了Fe-B薄膜的共振频率。结果表明,制备的Fe-B薄膜呈现出非晶混合少量纳米晶的结构特征;薄膜厚度随NaOH浓度的增大而增大,但非晶相随NaOH浓度的增大而减少;Fe-B薄膜具有显著的磁致伸缩效应,薄膜的共振频率随着样品长度的增加而减小;用4 mA/cm2电流密度制备的薄膜共振频率最显著。     

Al与Mo复合添加对NdFeB磁体矫顽力的影响

本文采用晶间合金化工艺将合金元素Mo和Al直接引入烧结Nd-Fe-B磁体晶间区域,改变晶间区域的合金体系和显微组织,以达到提高磁体矫顽力的目的.实验结果表明Mo在低温时效过程中可抑制晶间富Nd相与主相之间的平衡转变,使晶界区域析出细小二次主相晶粒,使矫顽力提高.     

NdFeB永磁靶材溅射模拟

运用SRIM2006软件对Nd2Fe14B靶溅射过程进行了模拟,并就入射离子的入射能量和角度进行了分析,得到溅射产额与入射离子能量、入射角度以及溅射靶材的一般规律:1)溅射产额随着入射离子能量的增加而增加,在低能量区域增加很快,到了高能量区域增加变缓;2)溅射产额随着入射离子入射角度的增大逐渐增大,且在70°~80°出现极大值,如当入射离子的入射角度为75°,入射离子能量为7 keV时,溅射产额可达4.398(原子.离子–1);3)溅射原子的摩尔比与靶材原子摩尔比存在一定偏差,导致薄膜成分与靶材成分不一致。