采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术

成像干涉光刻技术(IIL)具有干涉光刻技术(IL)的高分辨力和光学光刻技术(OL)产生任意形状集成电路特征图形的能力。在IIL中,按掩模图形的不同空间频率成份分区曝光,并使其在抗蚀剂基片上非相干叠加,得到高分辨抗蚀剂图形。本文在研究一般三次曝光IIL原理基础上,提出采用沿X轴正、负方向以及沿Y轴正、负方向偏置的双向偏置照明,分别曝光 X方向、-X方向、 Y方向、-Y方向的高空间频率分量并与垂直于掩模方向的低空间频率分量曝光相结合的五次曝光IIL。理论和计算模拟表明,该方法可以提高图形对比度和分辨力,并减小因调焦误差引起的图形横向位移误差,有利于改善抗蚀剂图形质量。     

笔式绘图仪故障排除三例

时今,各种CAD系统正在迅速普及,而作为其主要外设的绘图仪在使用过程中有时会出现一些故障,由于这方面的技术资料较少,使用者面对一些故障现象有时无所适从,从而影响到绘图系统的正常使用。作者结合实践经验,给出几例故障现象的排除方法,期望能对用户有所帮助。 故障一: 机器型号:DMP 50、60型 故障现象:绘图仪检纸不停,纸被抛出,或是对纸张的     

跌坎型底流消能工淹没射流掺气浓度分布规律试验

采用水力学试验的方法,测量了跌坎型底流消能工在不同流量、跌坎深度下,淹没射流区的掺气浓度值,并通过对比分析得到入池流量与跌坎深度对该区域掺气浓度沿程分布的影响规律。试验结果表明:跌坎深度一定时,掺气浓度随入池流量的增加而增加;流量一定时,跌坎深度越大,掺气浓度越小;不论跌坎深度、入池流量改变与否,该区域掺气浓度沿射流流程均呈现先增大后减小的规律;经综合分析入池流量、跌坎深度、射流流程与掺气浓度的关系后,文中给出了射流轴线处掺气浓度计算的经验公式,该公式计算值与实测值基本吻合。     

Eu掺杂TiO_2纳米晶光致发光影响因素

为了寻找Ti O2∶Eu3+纳米晶的最佳制备工艺条件,采用溶胶-凝胶法制备了Ti O2∶Eu3+纳米晶,研究了Eu3+掺杂浓度、退火温度、Al3+的掺入等工艺参数对Ti O2∶Eu3+纳米晶发射光谱的影响.利用PL、PLE对样品进行了表征.结果表明用468 nm激发光源激发Ti O2∶Eu3+纳米晶时,样品显示出强红光发射,对应于Eu3+粒子的5D0→7F2超灵敏跃迁;且荧光强度随着Eu3+掺杂浓度和退火温度的升高先增强后减弱;700℃退火的样品红光发射强度达到最强,Eu3+的最佳掺杂浓度为0.8%mol;Al3+的掺入可以提高Eu3+的红光发射强度,采用钛酸正四丁脂∶异丙醇∶冰乙酸∶水=1∶4∶4∶2制备出的Ti O2:Eu3+纳米晶的红光发射光谱最强.     

翻译症的关联阐释

翻译症主要指译文对原文的过度依赖而表现出的不地道、不规范现象。从关联视角审视该现象,可以发现,翻译过程中的理解和表达都有可能产生翻译症。     

高锰酸钾复剂对给水处理中混凝的强化效应

通过混凝处理前采用高锰酸钾复合药剂预处理,考察了其对混凝水处理的强化效应。实验结果表明:高锰酸钾复合药剂预处理对混凝处理具有很好的强化效应,能显著提高混凝过程对浊度、有机物等污染指标的去除效率,改善出水水质,当高锰酸钾的用量为0.25mg/L时,聚合氯化铝和硫酸铝的投加量分别减少30%和40%。     

移动学习在教学过程中的应用

随着移动计算技术的发展,具有移动性、及时性、交互性等特点的移动学习技术得到了越来越广泛的关注和应用。为达到教与学过程监测和个性化指导的目的,在教学过程中使用移动学习技术辅助教学,学生通过手机浏览器访问课程资源、测试、作业和问卷,教师根据量化、统计、分析学生对知识点的掌握情况监测学生学习并及时给予个性化指导。结合目前教学的实际情况,探讨移动学习在教学过程中的应用模式和实际效果。     

面向课堂环境的多人脸检测

针对目前课堂环境下的多人脸检测研究不够深入,特别在拍摄角度变化等多个因素影响下人脸识别率较低的问题,提出了真实课堂环境下基于全卷积头部检测器(FCHD)人脸检测的改进算法.首先,针对课堂环境下多人脸数据集的不足构建了两类课堂数据集,通过10人以下、11～20人、21～30人、31～40人以及41人以上不同的数据进行分析;然后,对比评估了传统的人脸检测算法以及基于深度学习的算法;最后,提出基于FCHD算法进行锚点设计的改进,针对课堂多人脸数据集的特点,通过不同锚点的设计以及神经网络的微调提升多人脸检测的准确率.实验结果表明,所提算法对于10人以下的人脸检测平均准确率能达到90％,能够较好地解决多人脸识别领域中存在的人脸偏移、遮挡、角度等问题.