水溶液中硒化物纳米颗粒的制备与表征

以醋酸铅和氯化镉作为铅源和镉源,自制的Na2SeSO3溶液为硒源,可溶性淀粉为表面活性剂,常温常压下,在水溶液中合成了PbSe和CdSe纳米颗粒.讨论了淀粉溶液浓度、pH值和反应时间等制备工艺参数对硒化物纳米颗粒的生成和颗粒尺寸的影响.用X射线粉末衍射、紫外-可见吸收光谱、Raman光谱与透射电子显微镜等测试手段对所得...     

无水溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化光波导薄膜

以二苯基二羟基硅烷(diphenylsilanediol,DPSD)和γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧摹硅烷(γ-Methacryloxypropyl trimethoxy silane,MAPTMS)为前驱体,用无水溶胶-凝胶法合成出有机-无机杂化材料,将其旋涂在硅基片和石英玻璃片上得到杂化光波导薄膜.利用Abbe折射仪...     

基于自动交换光网络技术的传输光纤差动保护业务自愈方案

分析了利用自动交换光网络智能控制平面通道重路由恢复功能,利用恢复-返回通道的"先拆后建"机制,实现光纤差动保护通道收发在任何时刻同路由,保证收发时延相同。提出了新的自动交换光网络智能控制平面协议改造方案以实现电力线路光纤差动保护通道的抗多点故障自动恢复能力,为电力通信网络实现智能电网控制业务自愈能力提供保障。     

通过调度数据网实现录波联网问题的探讨

阐述了南方电力调度数据网及录波器的概况,讨论如何通过调度数据网实现录波器接入及数据网络安全性等问题。     

反蛋白石结构光子晶体材料中光传输的仿真研究

单分散胶体球可自组装出面心立方结构(周期常数为a)的三维光子晶体材料,进一步用高折射率光学材料填充其间隙再除去胶体球则可制得高折射率差、反蛋白石结构的三维光子晶体材料,从而应用于集成光子器件。了解其光子带隙以及光在缺陷中的传输性质是设计与制造该光子晶体材料与器件的基础,因此采用时域有限差分法仿真,研究不同波长λ的光在完整与含直线、L形线缺陷的反蛋白石结构光子晶体材料中的传输性质。研究结果表明该材料光子禁带的归一化频率a/λ在0.45~0.55之间,光在直线缺陷和L形线缺陷中传输的透过系数分别为~65%和~72%。     

纳米金属颗粒的湿化学制备

纳米金属颗粒在光电子、磁性材料和器件上具有表面增强Raman效应,量子点效应和高密度存储等重要特性.综述了在光电子、磁性材料和器件有着应用前景的金、银、铜、钴、镍、铋等金属纳米颗粒的湿化学制备,探讨了金属纳米颗粒湿化学制备控制颗粒大小、形状的一些因素和一般性特点,为制备颗粒大小、形状可控的其它种类的金属纳米颗粒作参考.     

森吉米尔轧机秒流量AGC的改进与应用

通过对森吉米尔轧机控制程序上的改进和优化,提高了秒流量控制功能。根据该控制程序在现场实际应用的情况,设计了1种基于轧制状态下动态选择AGC控制策略的程序,并成功应用于现场机组,提高了轧机的厚度控制精度。改进后,该森吉米尔轧机轧制出的成品厚度的标准差由原来的1.7μm控制到0.4μm以内,厚度偏差在5μm内的合格率提高到99%以上,显著提高了生产管理和质量管理的能力。     

引大入秦盘道岭隧洞灌浆工程施工

介绍了甘肃省引大入秦工程盘道岭隧洞回填灌浆的情况、施工工艺以及回填灌浆效果检查。     

龚嘴大坝81m深倒垂孔的施工实践

倒垂孔是大坝监测系统的重要组成部分,精度要求高。龚嘴大坝倒垂孔孔深81.60m,是目前水电系统中施工难度较大的钻孔之一。本文介绍了倒垂孔施工基本情况。一、概述 70年代发展起来的大坝监测技术,目前已趋成熟和完善。垂线观测系统是监测大坝和岩体变形的直观手段。为安装好一组有使用价值的垂线观测系统,必须具备有效的铅直空间即垂线保护管的有效铅直管径,并且首先要完成能够埋设相应直径保护管的高垂直度钻孔。     

无水溶胶-凝胶法制备TiO_2-有机硅杂化光波导薄膜（英文）

采用无水溶胶-凝胶法合成了新型的TiO2/有机硅杂化材料,得到的低-OH含量的光学薄膜适合应用于光波导、光集成器件和光传感器等领域。以二苯基二羟基硅烷(Diphenylsilanediol,DPSD)、钛酸丁酯(tetrabutoxytitanate,TBT)和γ-甲基丙烯酰氧-基丙基三甲氧基硅烷(γ-methacloxypropyl trimethoxysilane,MAPTMS)为先驱体,制备出折射率可调、高透明度的有机-无机杂化光波导材料,分别在石英玻璃基片和单晶硅片上旋转涂膜得到平面光波导薄膜。用Abbe折射仪测试薄膜的折射率,用紫外-可见光-近红外分光光度计测试了薄膜的光吸收性质,用Fourier红外光谱仪和Raman光谱仪测试了薄膜的红外振动吸收光谱和Raman散射光谱并讨论了材料结构,并用棱镜耦合法测试平面光波导在632.8 nm波长下的光传输损耗。结果表明:控制Ti的加入(摩尔含量7%~22%)可以调节薄膜的折射率(1.49~1.52):平面光波导的光传输损耗约为0.7 dB/cm。此外,通过软刻蚀技术和PDMS软印章在杂化薄膜表面得到了线宽约为700 nm的光栅微结构。