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讨论了在Windows环境下用 Delphi3开发半导体应力自动测量系统控制软件的方法和关键细节。介绍硬件与软件调试中要注意的问题。对 Windows环境下开发控制硬件工作的软件进行了探讨。 相似文献
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针对全局异步局部同步系统中不同时钟域间的通信问题,提出一种可用于多核片上系统的环形FIFO.采用独特的运行协议和串并结合的数据传输方式以及保证通信质量的双轨编码方法,设计了一种新颖的FIFO体系结构,使其可支持不同宽度数据的发送和接收,保证数据的完整高速传输.在0.18μm标准CMOS工艺下,FIFO的传输延时为681... 相似文献
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74.
75.
基于微机械系统(MEMS)的噪声估算,提出了一种可用于微机械系统的多芯片组件(MCM)封装技术,并对封装完成后的信号噪声、输入端相对延时、接收信号的电磁干扰强度等特性进行模拟.仿真结果表明,相对已有MEMS封装技术,本文提出的多芯片组件封装技术具有显著优点.文中封装尺寸182.88mm×121.92mm. 相似文献
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78.
4H-SiC在Cl2+Ar混合气体中的ICP刻蚀工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用C12+Ar作为刻蚀气体进行了单晶4H-SiC材料的感应耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺研究,分析了气体流量、气体混合比、反应室压力、1CP功率等工艺参数对刻蚀速率和刻蚀质量的影响.得到的最大蚀速率为194nm/min,表面均方根粗糙度为1.237nm,Cl/Si原子浓度比约为0.97%:99.3%。 相似文献
79.
80.
nMOSFET X射线辐射影响研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了在强电流作用下的ggnMOS作用机理,分析了ggnMOS抗ESD能力的主要表征参数,利用X射线辐射系统和TLP测试系统研究了辐射总剂量对ggnMOS抗ESD能力的影响。试验结果表明,随辐射总剂量的增加,ggnMOS的开启电压、维持电压都将下降,这有利于提高ggnMOS的抗ESD能力,而表征其抗ESD能力的参数(二次击穿电流I2)开始随辐射总剂量的增加而减少,到达一定剂量后将随总剂量的增加而增加。 相似文献