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11.
氮化镓缓冲层的物理性质   总被引:4,自引:0,他引:4  
用金属有机物气相外延(MOVPE)方法在蓝宝石衬底上生长了不同厚度和不同退火过程的氮化镓(GaN)缓冲层,以及在缓冲层上继续生长了GaN外延层.研究了这些缓冲层的结晶学、表面形貌和光学性质以及这些性质对GaN外延层的影响.提出了一个模型以解释用MOVPE方法在蓝宝石衬底上生长GaN外延层时存在一个最佳缓冲层厚度这一实验结果  相似文献   
12.
Galliumnitridehasadirectenergybandgapof3.39eVatroomtemperatureandmaybeappliedtoblue,violetandultraviolet(UV)lightemittingdevicessuchaslightemittingdiodes(LEDs),laserdiodes(LDs),andhightemperatureelectronicdevices[1—3].Recently,columnIII—Vnitrideshavebeenoneof…  相似文献   
13.
MOVPE生长的GaN基蓝色与绿色LED   总被引:1,自引:1,他引:0  
报道用自行研制的LP-MOVPE设备,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上生长出以InGaN为有源区的蓝光和绿光InGaN/AlGsN双异质结构以及InGaN/GaN量子阱结构的LED,其发射波长分别为430-450nm和520-540nm。  相似文献   
14.
采用金属有机物气相外延(MOVPE)方法,生长出InGaN/GaN单量子阱结构的绿光发光二极管(LED)。测量了其电致发光光谱及发光强度与注入电流的关系。室温正向偏置下,在20mA的注入电流时,发光波长峰值为530nm,半高宽为30nm。当注入电流小于40mA时,发光强度随注入电流的增大递增。这是中国国内首次研制出的InGaN单量子阱结构的绿光LED。  相似文献   
15.
一、问题的提出 InP用于外延工艺中,发现在温度高于500℃区域内,有黑色膜或黑斑点淀积在石英反应管壁上,甚至在衬底支架上。这种现象可能是高温下三氯化磷中碳化物的热分解所造成的。由此提出分析外延试剂的杂质成分问题。试图从中找出沾污的原因及解决污染的办法。  相似文献   
16.
InGaN/AlGaN双异质结蓝光和绿光发光二极管   总被引:2,自引:0,他引:2  
报道了用LP-MOVPE技术在蓝宝石衬底上生长出以双掺Zn和Si的InGaN为有源区的蓝光和绿光InGaN/AlGaN双异质结结构,并研制成功发射波长分别为430-450nm和520-540nm的蓝光和绿光LED。据查,这是国内首次有关六方GaN基绿光LED的报道。  相似文献   
17.
InGaN/GaN单量子阱绿光发光二极管   总被引:3,自引:1,他引:2  
采用金属有机物气相外延方法,研制了InGaN/GaN单量子阱结构的绿光发光二极管.测量了其电致发光光谱,及发光强度与注入电流的关系.室温20mA的注入电流时,发光波长峰值为530nm,半高宽为30nm.注入电流小于40mA时,发光强度随注入电流单调递增  相似文献   
18.
报道了用LP-MOVPE技术在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上生长出以双掺Zn和Si的InGaN为有源区的绿光InGaN/AlGaN双异质结结构,并研制成功发射波长为520-540nm的绿光LED  相似文献   
19.
InGaN/AlGaN双异质结绿光发光二极管   总被引:1,自引:0,他引:1  
报道了用 LP- MOVPE技术在蓝宝石 ( α- Al2 O3)衬底上生长出以双掺 Zn和 Si的 In Ga N为有源区的绿光 In Ga N/Al Ga N双异质结结构 ,并研制成功发射波长为 52 0— 540 nm的绿光LED.  相似文献   
20.
P型GaN和AlGaN外延材料的制备   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了MOVPE方法外延P型GaN和Al0.13Ga0.87N的生长工艺,包括掺杂剂量和热退火条件,对材料电学性质的影响,得到了优良的P型材料,并研制了InGaN/AlGaN双异质结蓝发光二极管。  相似文献   
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