热处理工艺对（111）取向Pt薄膜物相与结构的影响

采用射频磁控溅射法成功制备了（111）取向的Pt薄膜。在研究退火工艺对Pt薄膜（111）取向生长的影响基础上，着重研究了退火工艺对Pt薄膜与缓冲层Pr薄膜间的互扩散及薄膜物相、结构的影响规律。结果表明：250℃保温5至25小时，Pt薄膜沿（111）择优取向生长，但保温时间对取向生长的影响不大，此时薄膜为立方结构；当500℃再分别保温2h和4h时，最初沿（111）取向生长的Pt薄膜与Pr薄膜发生互扩散现象，生成BFe结构的PrPt相，保温2h时，除生成PrPt相外，还可能存在一定量的取向Pt，保温4h时，薄膜中只存在PrPt相。本实验为制备（111）强烈取向Pt薄膜开拓了一条新的工艺及方法，同时为控制Pt薄膜的结构与性能、进行开发应用提供了实验依据。     

Q235钢单辉等离子表面渗Mo工艺的研究

利用辉光等离子渗金属技术在Q235钢表面分别进行在直流单辉电源、脉冲单辉电源两种情况下的不同工艺参数的渗Mo研究.着重研究保温时间、桶形辅助阴极等对渗Mo层合金元素含量和渗层厚度的影响,确定较合理的渗Mo工艺参数,并对渗Mo试样进行金相组织、渗层组织组成和相组成、渗层成分分布、晶体结构等检测.结果表明:在工艺相同的情况下,采用脉冲电源所得到的渗层较厚,较直流增加11.8%,渗层表面含Mo量也较高,约增加10.2%.