片层晶粒体积分数对双态组织γ-TiAl基合金室温力学性能的影响

对热等静压后的Ti-46．5A1—2Cr-l．5Nb—1V合金进行了热处理，获得了一系列含有不同片层晶粒体积分数的双态组织。室温拉伸实验结果表明，片层晶粒体积分数对双态组织TiAl合金的性能影响很大。在应变速率一定的情况下，片层晶粒体积分数的增加会导致双态组织TiAl合金屈服强度的增加以及室温塑性的降低。在近γ组织中，室温塑性随着应变速率的增加而增加，原因主要是在应变速率较高时，有较多的孪晶系开动。     

机械研磨化学镀Ni-P镀层

采用原位的机械研磨化学镀方法在碳钢上制备出Ni-P镀层。原位的机械研磨处理方法是在化学镀溶液中加入试样以及直径为2～3 mm的玻璃小球,在化学镀的过程中,将小球与试样用搅拌器完全搅起,小球与试样的接触就像撞击的过程。机械研磨化学镀后,镀层由非晶向晶态发生转变,镀层为Ni的多晶结构,镀层颗粒细化并且光滑平整。与传统化学镀非晶Ni-P镀层相比,镀层硬度、耐蚀性都相应提高。400℃进行退火1 h后,在传统化学镀Ni-P镀层中有孔洞和裂纹出现,而在机械研磨化学镀Ni-P镀层中没有出现孔洞和裂纹。在传统的Ni-P镀层中发现裂纹,说明在镀层表面形成了拉应力,表明在非晶晶化的过程中体积发生了收缩。由于机械研磨化学镀Ni-P镀层已经发生了晶化,其镀层密度高于传统镀层,在热处理过程中,机械研磨化学镀Ni-P镀层的体积变化比传统化学镀Ni-P镀层的体积变化要小,因此没有裂纹产生。热处理后,机械研磨化学镀Ni-P镀层中Ni和Ni3P的晶粒尺寸都比传统镀层中的小,因而,经过机械研磨处理,镀层的硬度、耐蚀性和耐磨性将得到很大提高。机械研磨化学镀Ni-P镀层性能的提高预示着这项新的技术将会在工业上得到广泛的应用。     

低束流钕离子注入外延硅薄层的结构研究

采用金属蒸气真空弧(MEWA)离子源以低束流方式将Nd离子注入到外延硅片中，经高温快速退火处理，制备了结晶良好的钕硅掺杂层。用扫描电子显微镜(SEM)、反射式高能电子衍射(RHEED)和X射线衍射(XRD)分析了在不同退火条件下样品注入层相结构的变化。研究结果表明，经高温热处理，注入层形成结晶良好的钕硅化合物，出现由Nd5Si4相向NdSi相转变的趋势。并对其转变过程进行了初步探讨。     

TiAl合金表面阴极微弧制备的Al_2O_3膜结构与性能

以Al(NO3)3乙醇溶液为电解液,采用阴极微弧放电沉积方法,在TiAl合金表面制备连续的Al2O3薄膜,并对膜的结构与性能进行研究.利朋扫描电镜(SEM)观察到样品表面分布着熔融状颗粒,颗粒的平均直径约20μm,颗粒中间有小孔存在.X射线衍射(XRD)分析表明氧化膜的相成分主要为α-Al2O3和γ-Al2O3相,还有少量的ε-Al2O3相;氧化膜中α-Al2O3和γ-Al2O3的相对含量随着制备电压改变而变化.显微划痕实验测得膜与TiAl基体之间结合力大于20 N,表明制得的氧化膜与基体有良好的结合力.900℃的高温氧化实验表明氧化膜能够有效地提高基体的抗氧化性能.     

PLC在唐钢连铸电气控制系统中的应用

唐钢１９９９年６月投产的新一炼钢厂建设规模为２座１２０ｔ顶吹转炉 ,配套两台８机８流小方坯连铸机（１３５ｍｍ×１３５ｍｍ,１５０ｍｍ×１５０ｍｍ）。连铸机的流数多（共１６流） ,设计拉速高（最高４ ５ｍ／ｍｉｎ） ,生产短坯时铸坯输送时间紧张。因此 ,在整个连铸生产过程中实现自动控制显得尤为重要。唐钢电子公司负责连铸工程的电气设计、现场施工、电气ＰＬＣ和仪表ＤＣＳ控制系统的硬件配置与软件编制及其现场调试工作。１系统构成连铸电气控制系统采用西门子Ｓ７ ３００ ,由２台上位机、１台编程器及１８套ＰＬＣ组成。上位…     

显微组织应变率对全片层TiAl合金室温塑性的影响

采用了特殊的热处理工艺,分别获得了不同晶粒度和不同片层厚度的显微组织的全片层TiAl合金,并在不同的应变速率下,对这些合金进行了室温单向拉伸实验.结果表明:在一定的应变速率下,晶粒度的降低和片层厚度的增加都会导致全片层TiAl合金室温塑性的增加.在确定的显微组织下,应变率的降低,会导致全片层TiAl合金室温塑性的增加.而当应变率较低、晶粒较大、片层较厚时,试样中容易萌生微裂纹.微裂纹多数在软取向的晶粒中出现.具有小晶粒、厚片层显微组织的全片层TiAl合金在较低的应变速率下将会具有较好的塑性.     

阳极氧化铝电解着色选择性吸收涂层：钴盐电解着色

本文报道了在铝底材上采用磷酸溶液阳极氧化,钴盐电解着色方法制备的太阳能选择性吸收层。该吸收层的吸收率α_s=0.92—0.94,法向发射率ε_n=0.10—0.17。着色层经200℃加速试验及室外曝晒试验,光学性能无明显变化。氯化钠溶液内长期浸泡试验和磨损试验表明,该着色膜具有良好的耐蚀性和耐磨性。AES分析和X射线衍射分析表明,着色吸收膜是由多孔氧化铝、氢氧化铝和沉积在孔底的α钻构成。