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固体表面高精密平面化技术研究进展 总被引:5,自引:0,他引:5
随着国内外市场的极大需求及激烈竞争,固体表面高精密加工质量要求日益提高.化学机械抛光(ChemicalMechanical Polishing,简称CMP)技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS),宝石类衬底、金属材料、光学玻璃等表面的平整化.该文综述了在微电子制造过程中CMP技术的重要性及该技术的机理和研究现状,指出了CMP技术在目前发展过程中存在的亟待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望. 相似文献
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多晶Si太阳电池表面酸腐蚀制绒的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了采用HF和HNO3非择优腐蚀多晶硅表面制备绒面的机理。通过实验分析了酸混合液的体积浓度配比、添加剂、温度和时间等因素对腐蚀速率和腐蚀后表面形貌的影响;总结出了多晶Si的酸腐蚀规律,得到了制备理想绒面的酸混合液体积配比(V(HF):V(HNO3):V(CH3COOH)=1∶12∶6)。在此基础上提出了优化设计方案:采用廉价的水代替醋酸作为缓蚀剂,腐蚀过程置于超声槽中进行,利用超声波的振动使反应生成的气泡快速脱离多晶Si片表面,同时使腐蚀液浓度分布更加均匀,从而制备出效果更佳的多晶Si绒面。 相似文献
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一、前言卤素管是一种低阈压的G-M计数管,它具有工作电压低、价格便宜、测量线路简单、工作寿命长等特点,所以在放射性强度及剂量测量中,它是一种常用的探测器。随着核技术在国民经济中应用的开展,卤素管的应用 相似文献
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本文介绍了自然积污状态下的LXP-90型绝缘子串的绝缘特性试验结果。试验证明,要防止发生闪络事故,应增加其泄漏比距。 相似文献