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本文基于研究所近年来形成的智能工厂体系,重点介绍了该体系中 MES 系统的构建与应用情况.
一、引言
研究所主要以飞行器的设计为主,产品的设计和少部分零部件由北京总部完成,部分产品及器件的供应则由全国各地的配套厂商完成,产品测试及总装则是在研究所的外协配套工厂开展,在形成了跨区域的全国协同研制体系的同时,也表现出了生产环节对外协厂商的依赖性.与此同时,外协厂商的地域分布及研制产品的特性等因素,也导致研究所无法通过一体化信息网络进行全局协同管理.近年来,在市场竞争环境日益严峻的形势下,外协质量难以有效保证,外协信息沟通效率不高且响应不迅速等问题成为了制约研究所快速提升竞争力的重要因素,大力提升自身的制造生产水平的成为了迫在眉睫的问题.而研究所传统的产品生产模式主要依靠员工手工操作设备与填写纸质记录单来完成,生产过程与进度管理则主要依靠调度人员的现场管理经验,生产过程及其数据、产品履历和产品质量信息等均无法进行有效的追溯.基于这种现状,研究所组织团队对生产现状进行分析、调研并论证智能工厂架构,规划相应的实施途径,形成了以MES 系统为核心的智能工厂建设思路. 相似文献
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铁基纳米微晶薄膜巨磁阻抗效应的Mossbauer研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用Mossbauer谱学方法以及其它手段对FeCuNbSiB薄膜样品在退火过程中出现的巨磁阻抗效应发生显著变化的原因进行了探讨。研究表明,样品在退火过程中除了生长纳米晶粒α-FeSi相对提高材料的软磁性能有利外,同时随退火温度变化样品中磁矩分布方向会发生重取向。由制备态到570℃退火温度期间,薄膜样品磁矩取向发生由平行于平面为主变为垂直为主,而后再转变为平行为主。这些因素对多层膜巨磁阻抗效应的变化会产生重要影响,尤其当磁矩在垂直于平面方向分布占优势时,磁阻抗效应会显著下降。 相似文献
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合成方法和合成环境对ZnO纳米结构的直径和形貌具有重要影响。研究了采用直接生长法和二次种子法在传统环境和微流控芯片中制备的ZnO纳米结构的直径和形貌差异。结果表明,不同的合成方法和合成环境所制备的ZnO纳米结构直径和形貌不同,二次种子法在传统环境和微流控芯片中均可实现ZnO纳米刷结构的制备。其中,二次种子法在微流控芯片中可以实现对ZnO纳米刷结构的快速制备,主干和分支的平均横向生长速率分别为457.4和304.8 nm/h。所制备的ZnO纳米刷结构分布更均匀、取向性好,且纳米分支在主干侧面均匀密集分布,具有良好的取向性。此外,研究了不同浓度的一次种子溶液对ZnO纳米结构的直径和形貌的影响。结果表明,浓度为1 mmol/L的一次种子溶液可以有效促进二次生长过程中分支成核和分支生长。实验结果证明,在微流控芯片中可以构建连续流反应器,通过对合成参数和流体运动的精准调控,可实现对ZnO纳米刷结构的低成本、快速、可控合成。 相似文献
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设计并制备了集成微液滴阵列的微流控芯片,通过微腔室捕获液滴形成稳定的液滴阵列,用于图案化ZnO纳米材料的合成。利用液滴诱导和两相流体剪切的模式分别在两种不同的芯片结构中构建微液滴阵列,探究了不同表面活性剂质量分数和不同流体体积流量条件下微液滴阵列的稳定性,并以稳定的微液滴阵列合成单元制备氧化锌纳米材料,分析反应物更新对ZnO纳米材料的形貌和晶体结构的影响。结果表明,两相流体剪切模式芯片中形成的微液滴阵列更为稳定,不需要在矿物油中添加表面活性剂就可以成功构建微液滴阵列,但油相体积流量过大(1 600μL/h)或者过小(5μL/h)会导致微液滴阵列不能成功构建。两相流体剪切模式芯片二在生长时间2 h、更新间隔时间10 min条件下合成的ZnO纳米棒形貌均一,有望实现高效的微液滴阵列构建,并应用于纳米材料的原位合成和分析。 相似文献
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用化学镀的方法制备了镀NiFeCoP膜的复合结构丝,这种复合结构丝在较低频率下就有较好的磁阻抗效应.对样品进行电流退火处理,不同电流密度退火对复合结构丝磁阻抗效应特性的影响不同.利用复数磁导率探讨了该复合丝在不同电流密度退火后的磁化过程和磁化频率特性,较大电流密度退火后复合结构丝的畴壁运动被抑制,减弱了动态磁化过程,降低了相应的磁阻抗效应. 相似文献
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为解决航天弹箭产品在 3 维协同研制中对研制人员的权限、密级控制等要求较高的问题,提出一种基于
Teamcenter 系统权限解决方案。对权限控制基本要素、实现原理及过程进行阐述,通过二次开发技术实现了弹箭产
品研制过程中权限控制管理的特定需求,并通过实际应用进行验证。应用结果表明:该方案增强了系统权限控制的
易用性,有效地提高了弹箭产品在整个研制过程中的权限控制效率。 相似文献
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