金属基低压等离子喷涂界面的结合性能及微结构研究

采用奴氏印痕法、X射线衍射技术（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X射线能量散射谱（EDS）等方法研究了Ni/Fe,Cu/Ni低压等离子喷涂材料的喷涂界面结合性能及微结构特征。喷涂界面的结合性能与其微结构、微成分特征密切相关。Ni/Fe试样具有结合良好的界面,界面层为在晶态（Fe,Ni）氧化物上弥散分布着纳米级（Fe,Ni）金属间化合物细晶的结构,界面区有明显的元素扩散;Cu/Ni试样喷涂界面层为典型的非晶相,界面区未见明显的元素扩散。不同微观特征的喷涂界面对应的宏观界面结合性能有明显差异,Ni/Fe喷涂界面结合强度明显优于Cu/Ni喷涂界面。对Ni/Fe、Cu/Ni喷涂界面断裂的微观机理进行了探讨。     

测定膜基界面结合能的努氏印痕能量法

研究了涂层与基体界面结合能的测定方法，用理论和实验技术分析了努氏界面印痕法加载过程中，膜基试样吸收外加能量而转化为塑性变形能的行为、以及表面形状改变能和涂层界面断裂表面能，建立了努氏界面印痕能量法。对铁基Ni/Fe、镍基Cu/Ni低压等离子喷涂涂层进行界面结合强度的研究和分析得到涂层界面的断裂表面能。铁基纯镍Ni/Fe涂层界面的断裂表面能比镍基铜Cu/Ni涂层的高。界面微观分析表明：镍基铜Cu/Ni涂层材料疏松，膜基界面存在较多裂纹，涂层和基体中观察不到元素扩散层。Ni/Fe涂层界面结合致密，约有2μm的元素扩散层，微观分析现象与界面结合能的测定结果吻合。     

Microstructure and interface fracture of LPPS Ni／Fe and Cu／Ni sprayed materials

The interfaces of two materials, Ni/Fe and Cu/Ni, deposited by low pressure plasma spraying method,were studied by means of scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM) combined with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS). The adhesion between coatings and substrates was measured with the aid of Knoop interfacial indentation testing method. The results show that the interfacial micrcstructures have strong influence on the mechanical properties. Cu/Ni interface is weak link with NiO amorphousphase. Ni/Fehave strong in-interracial layer consists primarily of Fe and Ni oxide crystalline phases, containing dispersive (Fe, Ni) spotlike intermetaUic compound phase in nanometer dimension, and the interracial interdiffusion was detected. The micro-mechanism of interracial fracture was discussed.     

Investigation of Interfaces in Remelted A356-SiC Particulate Duralcan Metal Matrix Composite

For the manufacture of Al-based metalmatrix composites, the foundry productionroute can provide less expensive products witha greater flexibility in meeting designer's needsamong a vaviety of fablication routes. Recent-ly, a commercially produced foundry ingot,the Duralcan composite of A356 Al alloy +20     

银包套BPSCCO高温超导带材中的位错研究

Ag包套(Bi,Pb)_2Sr_2Ca_2Cu_3O_x高温超导带材由于其临界电流的优越,具有较强的应用前景。带材的微观组织结构是影响其临界电流密度的决定因素之一,因此深入研究带材中的晶体缺陷、位错特征对彻底揭示材料的高温超导机理是十分必要的。由于Ag包套(Bi,Pb)_2Sr_2Ca_2CU_3O_x高温超导带材的微观结构的复杂性,对材料中位错的研究还很不透彻。本工作利用透射电子显微镜(JEM-2000Fx)较深入地观察和研究了Ag包套Bi系高温超导带材中的位错特征,并对位错的形成机制进行了讨论。     

急冷Al-Pb-Si合金粉末的微观组织的研究

急冷方法制备的金属或合金粉末,可用来制备高强度、韧性和抗腐性的非晶微晶材料。对于一些互相不固溶的合金材料,采用急冷工艺可以使合金元素第二相粒子在基体中分布均匀。由于急冷是一个不稳定的热力学过程,材料的组织结构及稳定性对急冷过程的变化十分敏感。本工作对急冷Al-Pb-Si合金粉末的微观组织结构及稳定性进行了观察和研究,探索出了μm级微粉粒子的电     

掺杂钨丝形变和断裂的高压电镜原位观察

晶体的范性形变是由大量位错集体运动造成的。弥散沉淀粒子或弥散气泡引起金属力学强度显著变化又反映了这些弥散粒子或弥散气泡与位错交互作用的事实。解释掺Si、Al、K的钨丝具有良好的抗下垂性能的“钾泡弥散强化说”就是弥散强化理论应用的一个典型例子。关于这方面的研究,以往进行了大量的工作,但有些问题还不太清楚,或缺少直接的实验证明。例如位错与钾泡的交互作用过程以及钾泡在裂纹成核和掺杂钨丝断裂中的作用等等。我们在高压电镜中对掺杂钨丝的形变和断裂进行的原位观察,在这方面提供了一些直接的例证。我们的观察也发现螺型位错是很直的,其运动特点是间断式的,这和Tabata等在纯钨单晶中观察到的特点一致。但在我们的实验中,位错运动明显地受到钾泡列的阻碍作用。图1是一组从磁带录象上复制的照片,在晶界附近的位错源已开动,不断发射出位错,但就在其近旁的位错,由于受到钾泡的钉扎作用,并未运动。迹线分析表明该晶粒的膜面为(221),两组螺型位错与钾泡列[110]方向成27.5°角。其Burgers矢量分别为a/2[111]和a/2     

TEM Study on the Ag-BSCCO Interface of Silver-sheathed Bi-2223 Superconducting Tape

ＴＥＭＳｔｕｄｙｏｎｔｈｅＡｇＢＳＣＣＯＩｎｔｅｒｆａｃｅｏｆＳｉｌｖｅｒｓｈｅａｔｈｅｄＢｉ２２２３ＳｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇＴａｐｅＷａｎｇＪｉｎｇ，ＬｉｕＡｎｓｈｅｎｇ，ＷａｎｇＸｉａｏｈｕａ，ＺｈｏｕＹｉｒｕ（王敬）（刘安生）（王晓...     

Observation of Multi-layer Film on Si Substrate

ＯｂｓｅｒｖａｔｉｏｎｏｆＭｕｌｔｉ－ｌａｙｅｒＦｉｌｍｏｎＳｉＳｕｂｓｔｒａｔｅＬｉｕＡｎｓｈｅｎｇ；ＡｎＳｈｅｎｇ；ＳｈａｏＢｅｉｌｉｎｇ；ＷａｎｇＪｉｎｇ；ＳｈｅｎＨｕｉｚｈｕ（刘安生）（安生）（邵贝羚）（王敬）（沈惠珠）（ＧｅｎｅｒａｌＲｅｓ...     

HREM study on stacking structure of SiGe/Si infrared detector

1　ＩＮＴＲＯＤＵＣＴＩＯＮＩｎｆｒａｒｅｄｄｅｔｅｃｔｏｒｓａｎｄｉｎｆｒａｒｅｄｆｏｃａｌｐｌａｎｅａｒｒａｙｓｐｏｓｓｅｓｓｅｘｔｅｎｓｉｖｅａｎｄｉｍｐｏｒｔａｎｔａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｉｎｔｈｅｆｉｅｌｄｓｏｆｇｕｉｄａｎｃｅ ,ｎｉｇｈｔ ｖｉｓｉｏｎ ,ｒｅｍｏｔｅｓｅｎｓｅ ,ｔｅｌｅｍｅｔｒｙ ,ｅａｒｌｙｗａｒｎｉｎｇ ,ｓｕｒｖｅｉｌｌａｎｃｅｏｆｄｅｅｐｓｐａｃｅ,ｍｅｄｉｃａｌｄｉａｇｎｏｓｅ ,ｅｔｃ .Ｐ Ｓｉ1-ｘ Ｇｅｘ/Ｐ Ｓｉｈｅｔｅｒｏ ｊｕｎｃｔｉｏｎｉｎｔｅｒｎａｌｐｈｏ…