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电镀非晶态Ni-P合金控制方法的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了电镀非晶态镍磷合金的最佳阴极控制电位,同时从分析镍磷合金电镀体系中阴、阳极极化行为出发,采用槽压法控制电镀,成功控制了阴极电位在最佳区域,其镀层质量明显优于恒电流法。 相似文献
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电沉积Fe-Co-Ni三元合金的工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
Fe-Co-Ni合金镀层的硬度、耐蚀性和表面光亮度接近硬铬镀层,一定程度上可代替铬镀层以减少环境污染.用恒电位法电沉积Fe-Co-Ni三元合金,并运用X射线衍射能谱、扫描电镜等方法观察镀层的形貌,同时对镀层的失重率、显微硬度也进行了测定,分析了有机添加剂、温度、pH值和阴极控制电位等工艺因素对电沉积的影响.结果表明:在一定量的有机添加剂下,若镀液温度为50~60℃,pH值为3.0~4.5,阴极电位控制在-1.2 V(vs SCE)时,即能得到光亮、耐腐蚀性好、显微硬度高的Fe-Co-Ni三元合金镀层,其综合性能接近硬铬镀层. 相似文献
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采用等离子体增强化学气相沉积法制备了具有纳米结构的碳化钨薄膜, 采用XRD、EDS、SEM方法表征了薄膜的表面形貌、化学组成和物相结构. 这种碳化钨纳米晶薄膜具有巨大的电化学比表面积、很好的电催化活性和电化学稳定性. 通过测试和计算表明, 几何面积为1cm2碳化钨薄膜/泡沫镍电极、碳化钨薄膜/镍电极的电化学比表面积分别为83.21和64.13cm2; 该薄膜电极材料的a值为0.422~0.452V, 接近低超电势材料; 析氢交换电流密度为4.02~4.22×10-4A/cm2; 当超电势为263mV时, 其析氢反应的活化能为45.62~45.77kJ/mol. 相似文献
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磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面. 相似文献
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金属锌冶炼、热浸镀锌和锌铸件加工等生产过程中都会产生大量含锌废渣,其中包括锌烟、锌灰、锌渣、锌浮渣等.目前的湿法冶金工艺主要用于处理各种锌烟、锌灰等氧化锌含量较高的锌渣,采用的电解液体系主要有ZnSO4-H2SO4和Zn(Ⅱ)-NH3-NH4Cl体系.而对热镀锌渣、热铸锌渣则直接熔铸成锌渣阳极再通过电解精炼制备高纯锌,ZnCl2-NH4Cl是较为理想的电解液体系.近些年来,国内外有很多有关利用不同体系和工艺从工业废渣中回收并提纯锌的研究成果. 相似文献
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从化学镀镍磷合金的沉积机理出发,分析影响镀层耐蚀性的因素,认为络合剂柠檬酸盐、稳定剂碘酸钾对镀层耐蚀性的提高有显著效果,所采用的搅拌工艺是消除镀层孔隙率的最有效途径。 相似文献
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阐述了铝合金自然发色的原理和相关工艺,分析了影响质量的因素,该工艺在实际生产中得到成功应用。 相似文献
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采用磁控溅射物理气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术,在金属镍基体上制备具有纳米晶结构的碳化钨薄膜;采用循环伏安、准稳态极化和恒电位阶跃等电化学方法研究了对硝基苯酚(PNP)在碳化钨纳米晶薄膜电极上电化学还原的特性和机理.研究表明,采用磁控溅射物理气相沉积技术制备得到的薄膜是由直径为20nm的WC1-X构成,在这种薄膜电极上,PNP电化学还原在电位为(0.95V(Vs. SCE)时,出现一个电流密度为6.0mA(cm(2还原峰,还原反应的表观活化能为12.0kJ(mol(1;而采用等离子体增强化学气相沉积技术制备得到的薄膜是由直径为35nm的纯相WC构成,PNP在该薄膜电极上电化学还原峰电位为(1.05 V(Vs. SCE),还原电流达10.0 mA(cm(2,表观活化能为10.9 kJ(mol(1. PNP在这两种碳化钨薄膜电极上都经过两步不可逆的电化学反应还原成对氨基苯酚,控制步骤为电极反应的电荷传递过程. 相似文献