CdZnS半导体颜料的制备与表征

以Cd(AC)2、Zn(AC)2、Na2S等为原料,采用共沉淀法制备CdZnS半导体颜料,详细讨论了反应温度、反应液pH值、保温熟化时间等共沉淀反应参数对CdZnS半导体颜料合成的影响,确定了CdZnS半导体颜料合成的最佳反应参数。最后采用XRD、EDS、SEM等手段对颜料结构、成分、形貌进行表征,测试了CdZnS半导体颜料的粉体电阻率。     

C/C-SiC复合材料熔融渗硅制备工艺

C/C-SiC复合材料具有许多优异的性能,如高比强度、高比模量、优良的高温性能、高热导率以及低热膨胀系数等.与其它制备工艺相比,采用熔融渗硅法制备C/C-SiC复合材料的工艺具有操作简单、周期短、成本低等优点.综述了目前熔融渗硅法制备C/C-SiC复合材料的研究状况.     

硫代双烯型金属配合物近红外染料研究进展

综述了硫代双烯型金属配合物近红外吸收染料的结构特点,最大吸收波长、溶解度及其影响因素,总结了硫代双烯型金属配合物的主要合成方法,简要介绍了近年来硫代双烯型金属配合物的应用,并展望了其在夜视兼容用照明器件方面的研究应用.     

电磁齿轮结构参数对漏磁的影响分析

漏磁在磁力传动中不可避免,利用ANSYS有限元软件对电磁齿轮进行磁场分析,研究工作气隙、极齿对数、极齿厚度、及周向气隙等因素对磁感应强度的影响,仿真得到不同因素值下磁感应强度的变化值,进而推导出这些因素对电磁齿轮漏磁的影响,为电磁齿轮的设计提供了理论依据。     

活性填料钼在聚碳硅烷转化陶瓷中的应用

研究了活性填料钼(Mo)在聚碳硅烷(PCS)先驱体转化陶瓷中的应用.研究表明,活性填料Mo能有效降低陶瓷素坯的气孔率.Mo可与PCS气态裂解碳氢产物、游离碳和N2气氛反应生成新的化合物,可明显提高PCS的陶瓷产率.当Mo/PCS为25%(vol)时, 坯体的陶瓷产率为100%.Mo还能有效地提高烧成体的强度.     

Application of zirconium in preparation of polycarbosilane derived ceramics

1　ＩＮＴＲＯＤＵＣＴＩＯＮＭａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇｏｆｃｅｒａｍｉｃｍａｔｅｒｉａｌｓｆｒｏｍｐｒｅｃｅ ｒａｍｉｃｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃｏｎｐｏｌｙｍｅｒｓｈａｓｒｅｃｅｎｔｌｙａｔｔａｉｎｅｄｉｎ ｃｒｅａｓｉｎｇｉｎｔｅｒｅｓｔｂｅｃａｕｓｅｏｆｈｉｇｈｌｙａｔｔｒａｃｔｉｖｅｓｈａｐｉｎｇｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａｎｄｌｏｗｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ .Ｐｏｌｙｃａｒ ｂｏｓｉｌａｎｅ (ＰＣＳ) ,ｐｏｌｙｓｉｌａｚａｎｅ (ＰＳＺ)ａｎｄｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃａｎｂｅｕｓｅ…     

活性填料铬在聚碳硅烷裂解陶瓷中的应用

研究了活性填料铬 (Cr)在聚碳硅烷 (PCS)先驱体裂解陶瓷中的应用。研究表明 ,活性填料 Cr能有效降低陶瓷素坯的气孔率。 Cr可与 PCS气态裂解产物和 N2 气氛反应生成新的化合物 ,可明显提高 PCS的陶瓷产率。当 Cr/ PCS为 3 5% vol时 ,坯体的陶瓷产率为 1 0 0 %。在先驱体中引入 Cr能有效地抑制坯体在裂解过程中的收缩。Cr含量越高 ,素坯裂解后的收缩越小。当 Cr/PCS为 4 6% vol时 ,素坯在裂解前后线收缩率为 0 ;由于生成产物的体积效应较大 ,以及与 Si C热膨胀系数的不匹配性 ,导致陶瓷烧成体强度有所下降。用 X-衍射法 (XRD)分析了烧成产物的物相组成 ,扫描电子显微镜 (SEM)观察了陶瓷烧成体的断口形貌。     

先驱体陶瓷

综述了用先驱体法制备陶瓷纤维、陶瓷基复合材料等的特点及其研究进展,针对制备陶瓷基复合材料基体的有机聚合物先驱体,提出了先驱体必须满足的理化特性和结构特征,同时还针对先驱体法高气孔率及高收缩率的不足,提出了３个解决办法,并着重讨论了活性填料在先驱体裂解制备陶瓷基复合材料中的特点与应用。     

聚钛碳硅烷先驱体转化法制备3DCf/Si-Ti-C-O复合材料研究

以一种新型先驱体,聚钛碳硅烷(PTC)为原料制备了3D Cf/Si-Ti-C-O材料,考察了其力学性能和抗氧化、抗热震性能.结果表明,PTC在1200℃时裂解的陶瓷产率达到63.37%,材料的弯曲强度和断裂韧性分别达到485.3MPa和19.95MPa·m1/2.在1300℃马弗炉中氧化10min后,材料的弯曲强度为306.2MPa,强度保留率为63.06%.1300℃五次热震试验后的弯曲强度为408.9MPa,强度保留率为85.13%.表明3D Cf/Si-T-C-O材料具有较好的力学性能和抗氧化、抗热震性能,PTC是一种优异的适合制备陶瓷基复合材料的先驱体.     

伪装涂层的偏振散射及其影响因素研究

利用多波段偏振CCD相机在光学与红外波段测试伪装涂层的偏振散射特征,并提取其中的偏振信息,研究了测试条件对涂层材料散射偏振度的影响.结果表明,测试过程中的光照条件与探测波段对涂层散射偏振度的影响很大.涂层对入射光的散射作用可以分为面散射和体散射两部分.面散射使偏振度增大而体散射具有消偏振的作用;光线垂直入射时,体散射起主要作用,涂层具有较小的偏振度;随着入射角的增大,面散射在散射光中的比例也逐渐增大,成为涂层偏振度的主要影响因素.研究发现在偏振遥感中利用合适的角度和波段进行探测对复杂背景中伪装目标的识别具有重要意义.