无定型PEO聚合物的合成及导电性能研究

利用低分子量PEG(Mn=400)合成了高分子量的聚氧化乙烯(PEO)嵌段聚合物。采用电化学方法——电渗析除尽了经常规方法(吸附、过滤、沉淀等)所不能除尽的微量杂质,得到纯化产物。通过GPC测得其平均分子量可达105。XRD和1HNMR表明其结构是以[CH2O(CH2CH2O)n]为重复单元的无定型聚合物,其与LiClO4络合物通过10％SiO2纳米材料补强后的固态电解质成膜性和导电性均良好。在测量温度范围内,电导率随温度的变化遵循Arrhenius关系式,22℃时Li+电导率达3.27×10-5 S/cm。     

高岭土的可塑性与其矿物组成和颗粒结构的相关性

在各种定形与不定形耐火材料中,经常会用到各种类型的高岭土,例如宝钢炼铁厂所用炮泥就以高岭土作为一种重要的结合剂。高岭土良好的可塑性保证了炮泥的成型性能和作业性能,同时,其较好的中、低温烧结性能又使炮泥具有适当的中温强度。由于产地和地质成因的不同,高岭土的可塑性     

氧气含量对射频磁控溅射Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜介电性能的影响

采用射频磁控溅射法在镀氧化铟锡的Corning 1737玻璃基片上制备了用于无机电致发光显示器绝缘层的Ba0.5Sr0.5TiO3介电薄膜,该薄膜厚约400 nm.研究了O2和Ar O2的体积比V(O2)/V(Ar O2)对薄膜沉积速率、结晶性和介电性能的影响.当V(O2)/V(Ar O2)由0增加至0.5时,薄膜的结晶取向、介电常数、介电损耗、击穿场强和漏电流密度并没有明显的规律性可循.V(O2)/V(Ar O2)为0.1时,薄膜的品质因子最好,其值为5 μC/cm2.     

颗粒复合材料微裂纹增韧的数值模拟

将弹性复合材料体中主裂纹尖端划分为3个不同的区域,导出了各个区域的本构模型及饱和区域的范围。在最大饱和区域内,应用Monte Carlo技术产生均匀分布的微裂纹来表示损伤的各向同性,并采用轮流迭代数值技术来评估主裂纹和微裂纹相互作用。在稀疏微裂纹的假设前提下,忽略微裂纹间的相互作用,主裂纹与每一个微裂纹相互作用的应力强度因子可以叠加。分析了两种荷载源,一个是在无限远荷载作用下主裂纹和微裂纹的相互作用,另一个是伴随着微裂纹面上残余应力的释放主裂纹和微裂纹的相互作用。结果表明,两种荷载源都对主裂纹有屏蔽作用,且主裂尖后的微裂纹有最大的屏蔽作用,主裂尖前的微裂纹没有屏蔽作用。     

一种新型金属有机络合物Ag(TCNQ)纳米线的贮氢性能

采用真空饱和蒸气反应法制备了一种新型的金属有机络合物Ag(TCNQ)的纳米线阵列;首次应用石英晶体微量秤(QCM)的方法评价其贮氢性能,发现在常温常压下其重量贮氢量可达1.34%;推测其贮氢机理是由于Ag(TCNQ)疏松的晶体结构及纳米线阵列较大的比表面积.     

新型贮氢材料研究的最新动态

"氢经济"概念的引入迫使工业界对贮氢材料的贮氢量提出了高达5～6.5 wt%的新要求.为实现这一目标,自1996年起这一领域的研究重点已从传统的金属氢化物扩展到新型微纳米结构的贮氢材料和络合物贮氢材料.综述其最新动态,着重阐述了以NaAlH4为代表的络合物新型贮氢材料的研究进展.     

Ce3+对磷酸盐闪烁玻璃耐辐射性能的影响

研究了空气气氛下制备的掺Ce3+磷酸盐闪烁玻璃.XPS分析结果显示,玻璃网络结构中的铈离子以低化合价(三价)形式存在.分别测试了含Ce3+及不含Ce3+玻璃样品在辐射前及经特定剂量辐射后的紫外可见透过光谱.实验结果表明,含Ce3+玻璃在大于390nm波长处的辐射诱导吸收带消失或明显减弱.通过计算样品的辐射诱导吸收系数μ发现Ce3+离子的引入有效提高了磷酸盐闪烁玻璃的抗辐射能力.     

溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响

BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料.用射频磁控溅射法制备了厚度在150～375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下BaAl2S4:Eu薄膜的电致发光特性.并根据这些结果分析了较优的工艺条件.     

基于Ag（TCNQ）热透镜效应的全光型开关

Ａｇ（ＴＣＮＱ）是一种电荷转移型金属有机络合物,用真空蒸发与真空热压相结合的方法使它分散到ＰＭＭＡ,ＰＨＰＭＡ,ＰＣ等高分子树脂中,制成了不含任何有机溶剂的透明光学薄膜,并证实了它具有光热透镜效应。     

溅射工艺参数对Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜沉积速率和介电性能的影响

铁电/介电BST(BaxSr1-xTiO3)薄膜在微电子学、集成光学和光电子学等新技术领域有广泛的应用前景.用射频磁控溅射方法制备了厚约700 nm的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜,采用Al/BST/ITO结构研究了溅射功率、溅射气压、O2/(Ar O2)比和基片温度对上述BST薄膜沉积速率和介电性能的影响,并根据这些结果分析了较优的工艺条件,同时用XRD、XPS和SEM研究了薄膜的晶相、组成和显微结构.