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台阶高度是半导体技术中重要的工艺参数,其准确度直接影响器件的整体性能。为了精确控制和表征台阶高度参数,制备了一套8nm~50μm的台阶高度标准进行测量技术研究。首先,通过半导体热氧化工艺、反应离子刻蚀工艺制备台阶标准。其次,基于白光干涉仪评估台阶上下表面平行度、表面粗糙度、均匀性和稳定性四项质量参数。结果表明,台阶上下表面平行度为0.4′~2.7°,标准台阶表面粗糙度为0.46nm~6.5nm,台阶两侧表面粗糙度为0.44nm~0.46nm;均匀性为0.5nm~5.9nm,稳定性为0.2nm~11.2nm。最后,与美国VLSI相同标称高度的台阶标准相比,标称高度50μm的台阶标准表面粗糙度较差,均匀性略好,其余质量参数均相当。 相似文献
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分析了施工中钢屋架倒塌的原因,提出了处理和加固措施,为同类工程施工提供借鉴. 相似文献
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GQZC—1型自动复位阻车器新汶矿务局良庄煤矿韩志国董崇远关键词自动复位阻车器斜井跑车事故智能化控制1概述斜井跑车事故占矿井运输事故的首位,而平车场跑车事故占跑车事故的86%以上。因此实现斜巷提升安全,解决平车场防跑车问题是防止斜井上车场跑车事故最为... 相似文献
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通过一种简易的水热法合成了一种基于MOF的纳米复合材料AgI@TiO2@UiO-66,该纳米复合材料是具有高活性的MOF基光催化剂,测定了其在可见光照射下对有机染料诺氟沙星表现出优异的光降解性能。纳米复合材料采用X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外(FTIR)、紫外漫反射光谱图(UV-Vis DRS)进行了表征。在30 min暗反应和60 min可见光照射下,相比较于单体二氧化钛和UiO-66,AgI@TiO2@UiO-66光催化活性明显增强,将其降解效率提升到90.58%。这种增强来自于AgI的进入,使可见光响应增加和UiO-66的后修饰性更为优异。 相似文献
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