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951.
用溶胶-凝胶法制备了PZT压电薄膜,研制了Au/PZT/PT/TiO2/NiTi/Si(100)多层膜结构,用XRD,AFM,TEM-EDX和SAD技术考察了薄膜的表面形貌,相结构演化,以及面的元素分布特性。结果表明:PZT膜与NiTi合金膜的结合良好,稳定;PT层的引入,使无定型PZT薄膜在550℃退火后,转变为钙钛矿结构,降低了晶化温度,并有效地抑制焦碌石相的形成;NiTi薄膜结晶良好;TiO 相似文献
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955.
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Al_2O_3/(Ag_(72)Cu_(28))_(97)Ti_3/Ti-6Al-4V界面结构及性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在1.8ks,1073K-1173K条件下对Al2O3/(Ag72Cu28)97Ti3/Ti-6Al-4V进行了钎焊试验。通过扫描电镜、波谱、能谱、X射线衍射界面结构进行了分析。小于1123K的界面结构为Al2O3/Cu2Ti4O/Cu4Ti3/Ag-Cu共晶+富Ag相+Ti固溶体;1173K的界面结构为Al2O3/Cu3TiO5 CuAl2O4/Cu4Ti3/富Ag相。采用拉剪试验测试了接头剪切强度。在1.8ks,1123K时剪切强度最高达到189MPa,大于或小于1123K接头强度呈下降趋势。 相似文献
957.
958.
在玻璃上用强流脉冲离子束镀膜的工艺 总被引:2,自引:1,他引:1
用强流脉冲离子束 (HIPIB)方法通过高强度脉冲离子束照射到锡掺杂氧化铟 (ITO)陶瓷靶材上产生的二次等离子体快速地沉积到室温玻璃基片上制得ITO薄膜 .经计算得知 :二次等离子体的密度约 10 2 0 atoms/cm3,温度以实验的电子能量 (ET0 )表示约为 1.4eV ,在玻璃表面瞬时沉积速率达 2cm/s,比其它传统镀膜方法大几个数量级 ;并且瞬间在玻璃表面产生约 2 2 0 0℃的高温 .经一次脉冲发射可制得 65nm厚的膜 .EDX数据表明薄膜与靶材的化学组成相近 .通过原子力显微镜 (AFM )图像分析膜的表面形貌 ,在 1μm× 1μm范围内 ,薄膜表面的均方根粗糙度为 1.3 85nm ,说明沉积后的膜表面平整度良好 相似文献
959.
FCT6芯片的内建自测试方法 总被引:1,自引:0,他引:1
FCT6芯片是一个集成了Intel8031微处理器及一些外围电路的嵌入式微控制器,它的集成度和复杂度高,又有嵌入式RAM部件,而且芯片管脚数相对较少,必须要有一定的可测试性设计来简化测试代码,提高故障覆盖率。简要讨论了FCT6芯片的以自测试为核心的可测试性设计框架,着重介绍了内建自测试的设计与实现,即:芯片中控制器PLA和内嵌RAM结构的内建自测试设计。测试代码开发过程中的仿真结果表明,这些可测试 相似文献
960.