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11.
新型高k栅介质材料研究进展 总被引:5,自引:0,他引:5
随着半导体技术的不断发展,MOSFET(metal-oxide-semiconductor field effect transistor)的特征尺寸不断缩小,栅介质等效氧化物厚度已小至nm数量级。这时电子的直接隧穿效应将非常显著,将严重影响器件的稳定性和可靠性。因此需要寻找新型高k介质材料,能够在保持和增大栅极电容的同时,使介质层仍保持足够的物理厚度来限制隧穿效应的影响。本文综述了研究高k栅介质材料的意义;MOS栅介质的要求;主要新型高k栅介质材料的最新研究动态;展望了高k介质材料今后发展的主要趋势和需要解决的问题。 相似文献
12.
Cif2000平台下的核磁共振测井解谱方法研究 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了在Cif2000多井解释平台下的核磁共振解谱方法与编程实现。解谱采用加入平滑因子后在特征矩阵的奇异值分解中截去小的非零奇异值的方法,可以在低信噪比时得到稳定的弛豫谱,在油田实际应用中证明了该方法的有效性。根据该方法在Cif2000平台上编制了完整的解谱处理程序,可以直接用于油田的生产实际。 相似文献
13.
直线式电机在有杆抽油设备中的应用 总被引:4,自引:0,他引:4
通过对游梁式抽油机的效率、启动特性与直线式电机驱动的有杆抽油机特性的对比,论述了直线抽油机的优越性及应用前景。 相似文献
14.
15.
Zhang Li Chun Jin Hai Yan Ye Hong Fei Gao Yu Zhi Ning Bao Jun Mo Bang Xian 《Electron Devices, IEEE Transactions on》2002,49(6):1075-1076
A polysilicon emitter RCA transistor (an ultra-thin interfacial oxide layer exists between polysilicon and silicon emitter) is presented which can operate at 77 K for the first time. An ultra-thin (1.5 nm) interfacial oxide layer is grown deliberately between polysilicon and silicon emitter using RCA oxidation and excellent device stability is obtained after rapid thermal annealing (RTA) treatment in nitrogen atmosphere. The RCA transistor exhibits good electrical performance at very low temperature for an emitter area of 3 × 8 μm2. The maximum toggle frequency of a 1:2 static divider is 1.2 GHz and 732 MHz at 300 K and 77 K, respectively 相似文献
16.
17.
18.
氨氮监测采用预蒸馏处理后,比色测定结果明显偏低。在样品预蒸馏处理过程中,硼酸作为吸收液,使显色时溶液pH值偏低,导致显色不充分是其主要影响因素。通过采取增加显色剂加入量的方法,解决了显色pH值偏低的问题,得到满意的测定结果。 相似文献
19.
X. S. Ning K. Suganuma T. Okamoto A. Koreeda Y. Miyamoto 《Journal of Materials Science》1989,24(8):2879-2883
Two kinds of additive-free silicon nitride ceramics were brazed with aluminium; one was with as-ground faying surfaces and
the other was with faying surfaces heat-treated at 1073K for 1.8 ksec in air. The heat-treatment of the silicon nitride ceramics
formed a silicon oxynitride layer on the faying surfaces and increased the brazing strength of the joints. A silica-alumina
non-crystalline layer and a β′-sialon layer were formed successively from the aluminium side at the interface of the joints.
The heat-treatment which made the former layer thicker is a necessary process in making reliable, strong brazed joints. 相似文献
20.
CuMgAl类水滑石的制备和表征 总被引:5,自引:0,他引:5
用盐-碱制备法合成了CuMgAl三元类水滑石化合物。探讨了原料配比、合成方式、水热处理温度和时间对合成过程的影响,筛选出合成HTLcs的适宜条件,并对HTLcs结构的热稳定性进行初步研究。结果表明,制备HTLcs主要取决于pH值,同时由于Cu2+的姜-太勒效应,合成结构单一的CuMgAl类水滑石要求原料配比中n(Cu)∶n(Mg)不得超过1.0,CuMgAl-HTLcs热稳定性较差,300℃焙烧2h结构破坏,600℃开始烧结,在300~500℃之间,随焙烧温度提高所得复合氧化物比表面积增大,最高可达200 m2/g。 相似文献