UC3875在超声电源功率控制系统中的应用

根据超声波发生器的功率控制系统原理 ,阐述了移相控制策略对超声波发生器输出电压波形的影响 ,介绍了移相控制专用芯片UC3875的电路结构和使用设计方法。     

自动立体显示屏高亮度背光模块设计

使用自动立体显示器,用户不需要立体眼镜,裸眼就能看到立体图像.目前主流的液晶自动立体显示器的亮度不够,影响到使用.为了提高亮度,研究新的背光模块设计方法.采用高亮度发光二极管,用菲涅耳透镜和柱透镜使光线集中在用户眼睛上,大幅度提高图像亮度,由于左右眼看到的图像不一致,产生立体感.结合具体的显示器研制背光模块,选择二极管,设计光路和透镜,对光路仿真,探索出设计方法.该方法对自动立体显示器的设计有指导意义.     

基于FPGA的CAVLC编解码器设计与实现

H．264标准在基本档次和扩展档次中采用CAVLC熵编码，完成对变换系数残差块的编码。提出一种基于FPGA的H．264标准的CAVLC编解码器，程序代码用verilog硬件描述语言编写，并在QuartusⅡ中进行了仿真验证，可以实现对每个残差块数据的编解码并将其按照宏块光栅扫描的顺序输出到存储器，因此适合于嵌入在最终的码流中。仿真结果表明此CAVLC编解码器达到H．264标准中基本档次和扩展档次level3．0的性能要求。     

一个完善的秘密分享方案

可验证秘密分享在实用密码学领域内是一个非常重要的工具,它在密钥管理协议、门限或分布式签名协议、电子商务、多方安全计算及团体式密码系统等许多方面都有极为广泛的应用。针对一类突发事务须及时、安全解决的特点, 利用离散对数问题的难解性,在假设初始化阶段和秘密恢复阶段始终有一位值得信赖的分发者参与的情况下,提出了一个可公开验证的门限秘密分享方案。     

5Gb/s 0.25μm CMOS限幅放大器

采用TSMC 0.25μm CMOS技术设计实现了高速低功耗光纤通信用限幅放大器.该放大器采用有源电感负载技术和放大器直接耦合技术以提高增益,拓展带宽,降低功耗并保持了良好的噪声性能.电路采用3.3V单电源供电,电路增益可达50dB,输入动态范围小于5mVpp,最高工作速率可达7Gb/s,均方根抖动小于0.03UI.此外核心电路功耗小于40mW,芯片面积仅为0.70mm×0.70mm.可满足2.5,3.125和5Gb/s三个速率级的光纤通信系统的要求.     

传感器管理及其在相控阵雷达中的应用

传感器管理是数据融合的一部分。介绍了传感器管理的概念和框架 ,概述了国内外传感器管理算法的研究现状。主要工作是针对相控阵雷达这一传感器 ,通过对其不同工作模式以及不同参数的管理 ,来说明传感器管理的原理。提出了一种新的自适应采样周期算法 ,仿真结果表明该算法的优越性     

粉料纯度的影响因素及对策

粉料的纯度直接影响骨料配方和沥青用量，从而影响糊料混捏质量。文章就影响粉料纯度的因素进行探讨，并提出一些对策，以期对生产有所指导。     

浅谈应用标准进行软件测试

国家标准GB T175 44规定了软件包的质量要求及针对这些要求如何对软件包进行测试的细则。质量要求从产品描述、用户文档、程序及数据三个方面进行了规定 ,测试细则依据这些规定制定。ISO IEC912 6 (1991)版由ISO IEC 912 6 (软件产品质量 )和ISO IEC14 5 98(软件产品评测 )两个标准代替 ,ISO IEC912 6表述了软件产品质量的内部质量、外部质量和使用中的质量 ,规定了内部质量、外部质量的六个质量特性 ,并细分为 2 1个子特性 ,使用中的质量规定了四个使用质量特性 ,使用质量是指六个软件产品质量特性的综合效果。进行软件测试时 ,可以依据GB T175 44中的规定组织测试过程再结合ISO IEC912 6中的质量特性及子特性的规定确定测试需求的内容和测试的重点 ,利用ISO IEC912 6质量的规定建立质量评级的标准。     

不同表面预处理对有机电致发光显示器性能的影响

从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对OLED性能的影响,分别用UVOzone、氧Plasma以及两者相结合的方式对基板进行表面处理,并按照生产工艺制作器件,从接触角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较。结果表明以上处理都改善了器件性能,不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率,其中UVOzone和氧Plasma结合的方式处理效果最为显著,器件在10V时亮度达到79920cd/m2,比其他两种处理方式亮度提高约25%。     

乙烯基硅氧烷改性苯丙乳液的研究

在苯乙烯 -丙烯酸酯乳液共聚反应后期 ,加入少量乙烯基硅氧烷 ,制得改性苯丙乳液 ,通过红外光谱初步确定了聚合物结构。研究了反应温度、反应时间、有机硅加入方式、乳化剂用量等因素对反应进程、乳液稳定性及涂膜性能的影响。