全文获取类型
收费全文 | 170002篇 |
免费 | 19655篇 |
国内免费 | 12193篇 |
专业分类
电工技术 | 15153篇 |
技术理论 | 4篇 |
综合类 | 15364篇 |
化学工业 | 21983篇 |
金属工艺 | 11287篇 |
机械仪表 | 12200篇 |
建筑科学 | 13047篇 |
矿业工程 | 5741篇 |
能源动力 | 4893篇 |
轻工业 | 18052篇 |
水利工程 | 6141篇 |
石油天然气 | 5970篇 |
武器工业 | 2255篇 |
无线电 | 18524篇 |
一般工业技术 | 16479篇 |
冶金工业 | 6917篇 |
原子能技术 | 2889篇 |
自动化技术 | 24951篇 |
出版年
2024年 | 1037篇 |
2023年 | 2927篇 |
2022年 | 6218篇 |
2021年 | 8130篇 |
2020年 | 6010篇 |
2019年 | 4420篇 |
2018年 | 4779篇 |
2017年 | 5399篇 |
2016年 | 4958篇 |
2015年 | 7409篇 |
2014年 | 9289篇 |
2013年 | 11163篇 |
2012年 | 13358篇 |
2011年 | 13955篇 |
2010年 | 13151篇 |
2009年 | 12758篇 |
2008年 | 12906篇 |
2007年 | 12597篇 |
2006年 | 10991篇 |
2005年 | 8991篇 |
2004年 | 6760篇 |
2003年 | 4818篇 |
2002年 | 4700篇 |
2001年 | 4315篇 |
2000年 | 3357篇 |
1999年 | 1953篇 |
1998年 | 989篇 |
1997年 | 796篇 |
1996年 | 726篇 |
1995年 | 632篇 |
1994年 | 464篇 |
1993年 | 396篇 |
1992年 | 320篇 |
1991年 | 217篇 |
1990年 | 192篇 |
1989年 | 134篇 |
1988年 | 150篇 |
1987年 | 84篇 |
1986年 | 83篇 |
1985年 | 45篇 |
1984年 | 36篇 |
1983年 | 30篇 |
1982年 | 25篇 |
1981年 | 22篇 |
1980年 | 30篇 |
1979年 | 32篇 |
1977年 | 12篇 |
1970年 | 8篇 |
1959年 | 21篇 |
1951年 | 23篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
81.
82.
通过龙潭水电站对励磁装置可控硅元件实施过电压保护改进前后实际效果的分析,介绍了一种有效的过压保护方式. 相似文献
83.
改性乳化沥青的发展和应用概况 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了改性乳化沥青的发展及应用概况,重点讨论了改性乳化沥青的生产、制备工艺、稳定性影响因素,并对国内外改性乳化沥青的应用情况加以概述。 相似文献
84.
85.
超级电容在手机电源中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
超级电容又称法拉电容,是指其容量为法拉级的电容。文章介绍了应用超级电容作为手机电池的总体思路并重点介绍了其充电电路、升压电路和控制电路的设计。该电池具有充电快、寿命长、免维护并且环保等特点。 相似文献
86.
激光剥离GaN/Al2O3材料温度分布的解析分析 总被引:2,自引:2,他引:0
分析了脉冲激光作用下GaN的衬底剥离过程。利用简化的一维模型,给出一种比较直观的脉冲激光辐照下GaN/Al2O3材料温度分布的解析形式,得到了分界面温度和脉冲宽度的关系。表明,单脉冲作用下分界面的温度与加热时间的平方根成正比,并得出脉冲过后随着深度变化温度梯度的分布。在连续脉冲作用时,分界面的温度呈锯齿状不断升高。 相似文献
87.
88.
纳米ZrO2等离子涂层的结构,性能和工艺特点 总被引:6,自引:0,他引:6
采用大气等离子喷涂技术(APS),制备了常规氧化锆和纳米结构氧化锆两种涂层.利用扫描电镜(SEM)对涂层的显微结构进行了观察.对两种涂层的沉积效率、表面粗糙度和显微硬度作了对比研究.结果表明,粉末原料的显微结构、粒度、形态、喷涂工艺参数(喷涂功率和距离)对涂层的显微结构有较大的影响.等离子喷涂造粒纳米氧化锆粉制备的涂层沉积效率高而稳定,其显微结构与喷涂功率和距离密切相关.与常规氧化锆涂层相比,纳米结构氧化锆涂层具有较高的显微硬度和较低的表面粗糙度. 相似文献
89.
From its foundation until 2004, ETRI has registered over 1,000 US patents. This letter analyzes the characteristics of these patents and addresses the explanatory factors affecting their citation counts. For explanatory variables, research team related variables, invention specific variables, and geographical domain related variables are suggested. Zero‐altered count data models are used to test the impact of independent variables. A key finding is that technological cumulativeness, the scale of invention, outputs in the electronic field, and the degree of dependence on the US technology domain positively affect the citation counts of ETRI‐invented US patents. The magnitude of international presence appears to negatively affect the citation counts of ETRI‐invented US patents. 相似文献
90.