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VG McDermott 《Canadian Metallurgical Quarterly》1998,129(10):831-833
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The effect of partial amorphization of the subsurface regions in atomically ordered alloys upon the implantation of 20 keV positive argon ions (D=1018ion/cm2 and j=200 μA/cm2) has been established by the method of field ion microscopy. The phenomenon of partial amorphization is observed at distances not less than 90 nm from the irradiated surface of materials. 相似文献
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