首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   190篇
  免费   4篇
化学工业   38篇
金属工艺   17篇
机械仪表   7篇
建筑科学   1篇
轻工业   4篇
石油天然气   53篇
无线电   23篇
一般工业技术   36篇
冶金工业   12篇
原子能技术   3篇
  2022年   8篇
  2021年   8篇
  2020年   7篇
  2019年   3篇
  2018年   5篇
  2017年   2篇
  2016年   2篇
  2015年   8篇
  2013年   4篇
  2012年   3篇
  2011年   5篇
  2010年   6篇
  2009年   5篇
  2008年   4篇
  2007年   3篇
  2006年   5篇
  2004年   1篇
  2003年   2篇
  2002年   2篇
  2001年   1篇
  2000年   6篇
  1999年   4篇
  1998年   4篇
  1997年   6篇
  1996年   1篇
  1995年   1篇
  1994年   2篇
  1992年   1篇
  1991年   1篇
  1990年   5篇
  1989年   8篇
  1988年   4篇
  1987年   5篇
  1986年   6篇
  1985年   2篇
  1984年   3篇
  1983年   4篇
  1982年   4篇
  1981年   5篇
  1980年   5篇
  1979年   3篇
  1977年   5篇
  1976年   3篇
  1975年   1篇
  1974年   5篇
  1973年   5篇
  1972年   5篇
  1970年   2篇
  1969年   1篇
  1965年   1篇
排序方式: 共有194条查询结果,搜索用时 0 毫秒
191.
Ryzhov  V. A.  Melekh  B. T.  Kazakova  L. P. 《Semiconductors》2021,55(12):968-975
Semiconductors - The infrared absorption spectra of Ge14Sb29Te57 and Ge15Sb15Te70 chalcogenide alloys in the amorphous and crystalline states are measured and analyzed in the wave-number range...  相似文献   
192.
193.
Chemical and Petroleum Engineering - The third article in a series of five papers devoted to hydrogen energy digitalization. The article discusses the process of interaction of various digital...  相似文献   
194.
The drift mobility of charge carriers in AsSe films of three types (initial, irradiated, and annealed after irradiation) has been investigated in the temperature range 290–380 K. It is found that, after irradiation, the hole drift mobility in the films atT = 300 K decreases from the initial value of 2 × 10−5 to 3 × 10−8 cm2/(V s), whereas the activation energy of drift mobility increases from 0.51 eV in the initial films to 0.75 eV in the irradiated films. After annealing (T = 365 K) of the irradiated films, the drift mobility and activation energy regain their initial values. The data obtained are discussed within the model of intrinsic charged defects.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号