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111.
Jianli Zhao Qiuxia Sun 《International Journal of Satellite Communications and Networking》2012,30(6):265-275
Space–earth integrated network (SEIN) consists of the space infrastructure that is composed of multiplex functions and various satellite systems and the ground infrastructure that is composed of many heterogeneous networks connected to each other. Because of the high complexity, heterogeneity, and integrity of SEIN, the traditional ground network management and the current satellite network management architecture are both unsuitable for SEIN. A new SEIN network management protocol is given in this paper, the logical correctness of the protocol is verified using Petri net, and five management primitives are designed in the protocol. This protocol can also be compatible to traditional network protocols with its gateway. The simulation of the protocol shows the merit of a short‐length PDU (Protocol Data Unit) and speedy response time, which is good to the high delay and limited bandwidth of the SEIN. Copyright © 2012 John Wiley & Sons, Ltd. 相似文献
112.
本文通过分析不同Post-Silicide杂质分凝工艺条件处理的NiSi/n-Si肖特基二极管(NiSi/n-Si SJDs)的I-V特性曲线,提取了NiSi/n-Si SJD的有效肖特基势垒高度(φB,eff)和理想因子(n),分析了NiSi膜方块电阻(RNiSi),研究了各种Post-Silicide杂质分凝工艺条件,如杂质注入剂量、分凝退火温度和分凝退火时间等,对φBn,eff和NiSi膜电阻特性的影响,还讨论了φBn,eff和NiSi膜方块电阻的变化规律。 相似文献
113.
114.
Wet-etch etchants and the TaN film method for dual-metal-gate integration are investigated. Both HF/HN O_3/H_2O and NH_4OH/H_2O_2 solutions can etch TaN effectively, but poor selectivity to the gate dielectric for the HF/HNO_3/H_2O solution due to HF being included in HF/HNO_3/H_2O, and the fact that TaN is difficult to etch in the NH_4OH/H_2O_2 solution at the first stage due to the thin TaO_xN_y layer on the TaN surface, mean that they are difficult to individually apply to dual-metal-gate integration. A two-step wet etching strategy using the HF/HNO_3/H_2O solution first and the NH_4OH/H_2O_2 solution later can fully remove thin TaN film with a photo-resist mask and has high selectivity to the HfSiON dielectric film underneath. High-k dielectric film surfaces are smooth after wet etching of the TaN metal gate and MOSCAPs show well-behaved C-V and J_g-V_g characteristics, which all prove that the wet etching of TaN has little impact on electrical performance and can be applied to dual-metal-gate integration technology for removing the first TaN metal gate in the PMOS region. 相似文献
115.
介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造. 相似文献
116.
下一代移动技术的演进和路径动态研究 总被引:2,自引:0,他引:2
分析了我国移动通信技术超出第三代的技术轨迹,比较了不同的移动通讯技术标准平台,通过平台比较和技术竞争等方式模拟和绘制技术的演变过程,调查不同技术标准背后的不同利益相关者之间的相互作用。在新兴的移动产业背景下,我国未来移动技术发展的轨迹存在较高的不确定性,根据目前已形成的移动通信技术演进路线,探讨关键技术、商业和机构动态的驱动演变技术。 相似文献
117.
计量管理关系到电量电费计算的准确性和农电企业的经济效益。而对计量的管理一直分散在各供电营业所,信息资源不统一,数据不能共享。在分析数据间关系的基础上,阐述了数据库的设计、权限的设置、子系统与校验仪的接口以及子系统的主要功能等内容,实现了集中管理,解决了数据不能共享的问题,提高了系统的安全性。 相似文献
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介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造. 相似文献
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Qiuxia Zhao Shengdong Mu Yanru Long Jin Zhou Wuyong Chen Didier Astruc Carmen Gaidau Haibin Gu 《大分子材料与工程》2019,304(4)
Hydrogels, especially the ones with self‐recovery and adhesive performances, have attracted more and more attention owing to their wide practical potential in the biomedical field involving cell delivery, wound filling, and tissue engineering. Tannic acid (TA), a nature‐derived gallol‐rich polyphenol, exhibits not only unique chelating properties with transition metal cations but also desirable anti‐oxidation properties and strong bonding capability to proteins and gelatin. Thus, taking advantage of the versatility of TA, a one‐pot method is proposed herein to produce TA‐modified gelatin hydrogels with the aid of NaIO4 under basic conditions. By changing the amount of NaIO4 used, the obtained hydrogels are covalently cross‐linked to different degrees and consequently exhibit diversity in their self‐healing and adhesive properties. The gelling time, viscoelasticity, and morphology of hydrogels are investigated, and when the feed molar ratio of NaIO4 to TA is adjusted to 15:1, the fabricated hydrogel shows optimum self‐healing efficiency of 73% and adhesive strength of 36 kPa. Additionally, considering the completely natural origin of TA and gelatin, this study offers an original way for the fabrication of biocompatible self‐healing and adhesive materials. 相似文献
120.