即时编译器中的代码消极生成机制

提出一种应用于即时编译器中的代码生成优化技术——代码消极生成机制,结合Intel微处理器研究院的XORP虚拟机对该项技术进行了阐述。介绍了XORP中实现的其他轻量级优化算法,并采用EEMBC对不同虚拟机和不同优化进行了科学评估。采用该项技术的XORP虚拟机的运行速度为KVM的15倍以上,超过其他商用高性能虚拟机。     

一种改进的数据求精证明规则

提出一种改进的数据求精规则,并用关系模式进行描述。引入全局状态来描述程序所有可能的输入和输出,允许非平凡的初始化,允许前向模拟和后向模拟,能应用于消除具体模型的不确定性晚于消除抽象模型的不确定性的情况。并用实例说明了在Isabelle定理证明器中规则的应用方法。     

形态结构特征约束下的树木参数化建模研究

树木建模是构建虚拟森林景观的主要环节,也是三维林业地理信息系统的基础。该文提出一种形态结构特征约束下的树木参数化建模方法,通过引进Bezier曲线控制树干以及树枝形状,并以荔枝树和马尾松为例对该方法进行设计与实现。实验结果表明,该方法能有效提高树木建模过程中的交互能力,较好地突出了树木的形态结构特征。     

基于频繁闭项集挖掘的增量式维护算法

为了能够随着数据库的增加、删除和修改而快速有效地挖掘出频繁闭项集,根据CHARM算法提出了一种基于频繁闭项集挖掘的增量式维护算法。该算法采取分类处理的策略对变化数据进行挖掘,运用IT对的特性从已挖掘出的结果中快速过滤出仍然有效的信息,实现频繁闭项集的更新。实验结果表明该算法是快速有效的。     

基于最小生成树聚类的中文版面分割法

针对中文版面多横竖混排的特点,提出一种基于最小生成树聚类的版面分割方法。对原图像进行水平和垂直游程平滑,并对平滑后所得的连通域进行预分类处理,将文本进行横排、竖排分类。对预分类后的各类文本采用最小生成树聚类算法进行聚类处理。经实验,准确率达97%。实验表明,该方法对中文文档有良好的分割效果。     

基于顶层本体的电子对抗领域本体构建方法

针对大型领域本体的可扩展问题,提出一种基于顶层本体的领域本体构建方法MBECO。通过最大范围地继承顶层本体框架,构建规范化的传感器领域、信息对抗领域、指挥控制领域等子领域本体模型,并将其嫁接入顶层本体,在顶层本体框架下进行子领域本体的集成,构建语义本体ECSON。实例表明,该方法将为系统级的分布式电子对抗仿真提供完善的战场空间本体。     

面向航空电子的分区操作系统

伴随新一代航空电子的综合化趋势,机载软件对机载操作系统提出新的要求.通过管理系统的软硬件资源,包括内存、CPU、通信等,机载操作系统将各类机载软件融合在同一个CPU上,实现综合化.该文给出一种面向航空电子的分区操作系统的实现框架,支持二级调度,对于各类机载软件实施分区调度,并且分区的运行互不干扰,保证了分区的安全性.     

模块液体冷却技术及其应用与分析

随着电子技术的迅速发展,电子元器件的总功率密度大幅度增长而物理尺寸却越来越小,而且高温的温度环境会影响电子元器件的性能.有效解决电子元器件的散热问题已成为当前电子元器件和电子设备制造的关键技术,液体冷却技术可在一定程度上适应高热流密度的散热要求.针对模块上电子元器件的液冷问题,该文综述液体冷却的特点,设计不同通道形式的冷板,并进行适当的应用分析.     

宽带无线移动接入网络中的切换方法

IEEE 802.16e是一种提供用户宽带无线移动接入的新技术。该文针对宽带无线移动通信的特点,在分析IEEE802.16e切换过程的基础上提出一种满足网络服务质量要求并可以在实际系统中工作的切换算法。解决切换中的两个主要问题：切换触发和目标选择。理论分析表明,该算法能够在保证MS良好移动性的同时满足网络中各业务对服务质量的要求。     

Challenges of 22 nm and beyond CMOS technology

It is predicted that CMOS technology will probably enter into 22 nm node around 2012. Scaling of CMOS logic technology from 32 to 22 nm node meets more critical issues and needs some significant changes of the technology, as well as integration of the advanced processes. This paper will review the key processing technologies which can be potentially integrated into 22 nm and beyond technology nodes, including double patterning technology with high NA water immersion lithography and EUV lithography, new devi...