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21.
贴片机脱机编程的快捷方法 总被引:7,自引:4,他引:3
SMT生产线中的大多数加工设备均为数控设备。它们编程所需要的大多数特征数据均可从CAD设计系统中得到。文章介绍了如何从CAD设计系统中导出X、Y坐标数据,并转换成贴片数据的方法和思路,以期引起更多的同行加入到这方面的研究中。 相似文献
23.
Shiao-Shien Chen Tung-Yang Chen Tien-Hao Tang Jin-Lian Su Tzer-Min Shen Jen-Kon Chen 《Electron Devices, IEEE Transactions on》2003,50(7):1683-1689
This paper proposes a novel low-leakage BiCMOS deep-trench (DT) diode in a 0.18-/spl mu/m silicon germanium (SiGe) BiCMOS process. By means of the DT and an n/sup +/ buried layer in the SiGe BiCMOS process, a parasitic vertical p-n-p bipolar transistor with an open-base configuration is formed in the BiCMOS DT diode. Based on the two-dimensional (2-D) simulation and measured results, the BiCMOS DT diode indeed has the lowest substrate leakage current as compared to the conventional p/sup +//n-well diode even at high temperature conditions, which mainly results from the existence of the parasitic open-base bipolar transistor. Considering the applications of the diode string in electrostatic discharge (ESD) protection circuit designs, the BiCMOS DT diode string also provides a good ESD performance. Owing to the characteristics of the low leakage current and high ESD robustness, it is very convenient for circuit designers to use the BiCMOS DT diode string in their IC designs. 相似文献
24.
A vacuum-annealed La0.6Ca0.4CoO3−x was consecutively oxygenated in air at temperatures decreasing from 800 to 100 °C, and its electrocatalytic activities for oxygen reduction and evolution were then measured as a function of the oxygenation temperature. The valence of Co cation, changing between +2 and +3, was found susceptible to annealing either in vacuum or air. The catalytic activities initially decrease monotonically as the oxygenation temperature was decreased from 800 to 300 °C, as a result of increasing oxygen content, and then rise abruptly with the oxygen reduction activity reaching a maximum at 200 °C and the oxidation activity at 150 °C. X-ray photoelectron spectroscopy analysis indicated that the enhancements by the low-temperature oxygenation involved increased OH coverage and less charged cations at surface. The results clearly reveal the importance of the post-calcination annealing process for optimizing the performance of La0.6Ca0.4CoO3−x in air electrode applications. 相似文献
25.
26.
27.
本文主要介绍了CPU芯片封装技术的发展演变,以及未来的芯片封装技术。同时,从中可以看出芯片技术与封装技术相互促进,协调发展密不可分的关系。 相似文献
28.
Y.K. Su H.C. Wang C.L. Lin W.B. Chen S.M. Chen 《Photonics Technology Letters, IEEE》2003,15(10):1345-1347
The brightness of AlGaInP light emitting diodes (LEDs) has been raised by a factor of 1.12 at 20 mA by sulfide passivation. Meanwhile, the sulfide also can decrease leakage current of AlGaInP LEDs at -2 V to nearly one thousandth of that in the as-fabricated device. The possible causes for the brightness increase of AlGaInP LEDs after sulfide treatment including surface roughness, reduction of Fresnel loss, and effective injection of carriers were demonstrated. 相似文献
29.
洼60-H26水平井套铣打捞技术 总被引:3,自引:1,他引:2
洼60-H26井是一口中曲率水平井,设计井深1 922 m,由于地面条件的限制,设计采用三维井眼轨道。该井水平段在钻至井深1 801 m时,发生卡钻事故。在卡钻事故处理过程中,采用测卡、爆炸松扣技术取出上部钻具后,应用了不同规格的套铣管对被卡钻具进行套铣,采用间歇式套铣方式实现了大斜度井段(45°-90°)的安全套铣,采用短套铣管完成了时水平井段内φ215.0 mm稳定器的套铣,采用φ228.6 mm套铣管成功套铣水平井段被卡LWD仪器,最后通过震击器震击成功解卡。详细介绍了洼60-H26水平井卡钻事故的处理过程,分析了在水平段处理卡钻事故的难点。该井处理卡钻事故的经验,对以后水平井施工中处理井下事故、打捞贵重仪器具有借鉴价值。 相似文献
30.
甲烷无氧芳构化研究进展及其工业应用前景 总被引:5,自引:0,他引:5
综述了最近20多年来甲烷无氧芳构化催化剂的制备、积炭失活和再生方面的研究进展,特别分析了催化剂再生过程的工程化问题及反应器型式;还根据甲烷芳构化技术产业化的需要,分析了甲烷芳构化技术的发展趋势。 相似文献