新型全数字三相SPWM发生器的设计与实现

传统SPWM（正弦脉宽调制）波形产生是通过查找表来产生正弦信号的,其查找表占用大量存储资源,增加芯片的面积和成本。文中自行研制了一种新型三相SPWM信号产生芯片,采用流水线结构CORDIC（坐标旋转数字计算机）算法实时计算正弦值,并且采用地址合成与数据分离、分时复用等技术,进一步减小了资源占用与成本。实验结果表明该芯片在节省硬件资源的同时能够达到设计的指标,具有一定的工程实际意义和应用前景。     

DSP56362的双引导装载方法研究与实现

简要介绍了MOTOROLA公司的24位定点数字信号处理器DSP56362的并行引导过程和特点。并结合实际，提出了一种双引导模式，给出了具体的实现方法。通过这种双引导模式．巧妙地达到了系统的要求。另外，介绍了采用DSP软件编程来实现FLASH擦除和读写方法。     

一种基于分频链的时钟校准方法

针对晶体振荡器的温漂特性,设计了一种基于分频链的时钟校准算法。在不改变晶体振荡器的情况下可调节时钟频率,校准精度达±0.25ppm,校准范围±32ppm,通过多次实验分析,用Verilog-HDL语言编写全部模块,在modelsim6.2b软件中实现模块仿真。全部功能正常实现,符合设计要求。     

GaAs外延薄膜的As缺位研究

研制太赫兹量子级联激光器的核心是制备以GaAs为代表的量子阱超晶格,在制备GaAs为代表的量子阱超晶格过程中,需要解决As缺位等基础性物理问题。采用激光分子束外延技术制备了GaAs外延薄膜,研究了实验参数对GaAs薄膜性能,特别是As缺位的影响。在线RHEED测试结果表明,GaAs可以实现外延生长。原位XPS和UPS等测试研究结果表明,激光分子束外延技术制备GaAs外延薄膜过程中存在As缺位问题,激光能量对GaAs薄膜中As含量具有明显的影响,要获得理想成分比的GaAs外延薄膜,需要较高的脉冲激光能量(600 mJ)。     

二极管泵浦准三能级固体激光器的新进展

对比了掺Nd3 、Yb3 、Ho3 、Tm3 等稀土离子的准三能级固体激光的特性,分析了它们在圆棒、板条、薄片、光纤等构型的固体激光器中的工作性能.着重总结了高平均功率掺Yb3 固体激光器的最新进展,最后简要介绍了本研究小组在高功率Yb:YAG/YAG复合板条激光器和光纤激光器两方面的最新研究结果.     

一种新的激光灰度图像标记方法研究

为了降低激光灰度图像标记实现复杂度,并获得较快的标记速度和较好的标记质量,采用图像处理中的位平面概念对标记图像进行分层,并用不同的激光能量对图像进行分层标记。通过激光能量的多次叠加得到灰度标记图像。采用该方法在振镜式激光标记机上进行了大量验证实验。结果表明,与传统的激光灰度图像标记方法相比,提出的新方法大大地降低了高质量灰度图像标记的实现难度,同时又保证了标记速度和标记质量。该方法亦可用于彩色图像标记中,对提高激光图像标记水平有重要意义。     

LTCC多层微波互连基板布局布线设计及制造技术

采用低温共烧陶瓷 (LTCC)技术制造多层微波互连基板 ,可以研制出高密度的T/R组件。讨论了多层基板中微带线和带状线的结构及其优化设计技术 ,介绍了制造工艺流程和关键工艺难点。     

基于FGMRES-PBTG算法的介质粗糙面散射特性的模拟

针对具有大介电常数介质粗糙面的电磁散射问题,提出了灵活的广义最小余量法(FGMRES)和基于物理意义的双网格法(PBTG)的混合算法,并对介质粗糙面的电磁散射系数和发射率进行了仿真.在PBTG算法的基础上,应用了FGMRES迭代算法求解矩阵方程.通过PBTG算法加速矩阵向量积和FGMRES算法加快迭代收敛速度,达到减少计算量和加快计算速度的目的.通过计算实例可知,FGMRES相对其他迭代法具有很好的收敛性,耗时较少,在满足精度要求的前提下,较其他迭代法明显加快了计算速度,并有效地模拟了介质粗糙面的电磁散射特性.     

数字可编程的电流模式通用双二阶滤波器

本文提出了一种新的基于MOCCII的等电容和等电阻电流模式通用双二阶滤波器综合方法.通过对双二阶通用滤波传输函数进行分析将其分解成能用无损积分器实现的表达式,完成电路综合.该滤波电路包含4个有源器件、8个接地无源元件,通过控制数字可编程开关在输出端得到电流模式二阶低通、高通、带通、带阻和全通五种滤波功能.电路有很低无源灵敏度.文中对滤波器进行了PSPICE模拟验证.     

TiO_2可见光光催化的研究进展

扩展TiO2催化的响应光谱范围,已成为目前TiO2光催化最具挑战性的课题之一。从TiO2体相掺杂、表面敏化等方面对近年来实现TiO2可见光光催化的途径和方法进行了简要总结。要进一步提高光催化效率还需:深入理解现有TiO2可见光体系的光催化机理;发现更高效的体相掺杂剂和表面敏化剂;设计和控制掺杂剂和表面敏化剂存在形态。