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211.
钕铁硼在低音扬声器磁路中的应用 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍适用于低音扬声器的两种不同充磁方向磁体联合应用磁路。讨论了联合应用磁路所用钕铁硼磁体的压制成型、磁性能检验、装配和充磁。 相似文献
212.
阐述了ADSLMODEM远程管理的意义及应遵循的原则,并对远程管理的方案作了简要阐述,最后比较分析了不同方案的优缺点。 相似文献
213.
对甲基丙烯酸三氟乙酰氧乙酯(TFAOEMA)的阴离子聚合及原予转移自由基聚合进行了研究。常用的阴离于引发剂如丁基锂、1,1-二苯基已基锂等很难引发TFAOEMA的阴离子聚合,而碱性较弱的引发剂如三乙基铝却容易引发,且产率较高。以氯化亚铜、五甲基二乙基三胺、溴代丙酸乙酯为引发体系的TFAOEMA的本体原子转移自由基聚合符合活性聚合特征。但在四氢呋喃为溶剂的原子转移自由基聚合中却存在活性中心失活现象。以末端含卤素的聚甲基丙烯酸甲酯为大分子引发剂,引发TFAOEMA的原子转移自由基聚合,得到了含氟双嵌段聚合物。 相似文献
214.
Lianshan Yan Yeh C. Yang G. Lin L. Chen Z. Shi Y.Q. Willner A.E. Yao X.S. 《Lightwave Technology, Journal of》2003,21(7):1676-1684
We demonstrate the first programmable group-delay module based on polarization switching. With a unique binary tuning mechanism, the device can generate any differential group delay value from -45 to +45 ps with a resolution of 1.40 ps, or any true-time-delay value from 0 to 45 ps with a resolution of 0.7 ps. The delay varying speeds for both applications are under 1 ms and can be as fast as 0.1 ms. We evaluate both the dynamic and static performances of the device while paying special attention to its dynamic figures of merit for polarization-mode dispersion emulation and compensation applications. Our experiment shows that the device exhibits a negligible transient-effect induced power penalty (<0.2 dB) in a 10-Gb/s nonreturn-to-zero system. 相似文献
215.
Recently, S.J. Lee proposed a blind feedforward symbol timing estimator that exhibits low computational complexity and requires only two samples per symbol (see IEEE Commun. Lett., vol.6, p.205-7, 2002). We analyze Lee's estimator rigorously by exploiting efficiently the cyclostationary statistics present in the received oversampled signal; its asymptotic (large sample) bias and mean-square error (MSE) are derived in closed-form expression. A new blind feedforward timing estimator that requires only two samples per symbol and presents the same computational complexity as Lee's estimator is proposed. It is shown that the proposed new estimator is asymptotically unbiased and exhibits smaller MSE than Lee's estimator. Computer simulations are presented to illustrate the performance of the proposed new estimator with respect to Lee's estimator and existing conventional estimators. 相似文献
216.
Crystallization and thermoelectric properties of poly(ε-caprolactone) (PCL)/poly(vinyl butyral) (PVB)/montmorillonite (MMT) nanocomposites containing carbon black (CB) have been studied as a functions of a small amount of amorphous PVB content and a wide range of molecular weight of PVB. X-ray diffraction data of PCL/PVB/MMT nanocomposites indicates most of the swellable silicate layers are exfoliated and randomly dispersed into PCL/PVB system. The band spacings of PCL spherulites in PCL/PVB/MMT nanocomposites decrease with increasing PVB content, and this indicates that increasing the PVB content greatly shortens the period of lamellar twisting. The presence of 1 wt% MMT and higher molecular weight of PVB also shorten the period of PCL lamellar twisting. Nucleation and crystallization parameters, such as growth rate G and Avrami exponent n, can be determined by using POM and DSC isothermally crystallized at 41 °C. For samples with the same CB content, the intensity of positive temperature coefficient (PTC) (IPTC, defined as the ratio of peak resistivity to resistivity at room temperature) of the nanocomposites was increased as the content and the molecular weight of PVB increases. The change of the PTC property related to the morphological difference (i.e. period of lamellar twisting) in the nanocomposites can be discussed. 相似文献
217.
218.
219.
Yan R.-H. Lee K.F. Jeon D.Y. Kim Y.O. Park B.G. Pinto M.R. Rafferty C.S. Tennant D.M. Westerwick E.H. Chin G.M. Morris M.D. Early K. Mulgrew P. Mansfield W.M. Watts R.K. Voshchenkov A.M. Bokor J. Swartz R.G. Ourmazd A. 《Electron Device Letters, IEEE》1992,13(5):256-258
The authors report the implementation of deep-submicrometer Si MOSFETs that at room temperature have a unity-current-gain cutoff frequency (f T) of 89 GHz, for a drain-to-source bias of 1.5 V, a gate-to-source bias of 1 V, a gate oxide thickness of 40 Å, and a channel length of 0.15 μm. The fabrication procedure is mostly conventional, except for the e-beam defined gates. The speed performance is achieved through an intrinsic transit time of only 1.8 ps across the active device region 相似文献
220.
高炉冷却壁的检漏及维护,是炼铁工作者十分关心的问题,本文针对邯钢高炉具体情况,探讨了高炉冷却壁漏水的原因,检漏方法,漏水冷却壁的维护及预防措施。 相似文献