低挥发性脱漆剂的研究

以苯甲醇(BA)、丙二醇乙醚(MPA)和二丙酮醇(DKA)为主溶剂制成低挥发性脱漆剂，考察了主溶剂、促进剂的种类、用量等因素对脱漆效果的影响。实验表明：促进剂甲酸、苯酚的用量为9％时，脱漆效率可提高2～3倍；加入1．5％的液体石蜡可以降低其挥发速率，增加脱漆剂的有效作用时间。     

方管冲孔工艺分析与模具设计

通过对密集架传统加工工艺的分析,提出了采用方管冲孔的加工工艺,并对各种加工方案进行论证,采取只有凸模的无凹模冲孔方式,介绍了方管冲孔模的结构和设计要点。通过试验确定了合理的凸模刃口形状,冲出的零件毛刺极小,产品断面平整光滑。     

新型中温钎料Ag-Cu-Ge-Sn-Ni的初步研究

根据合金相图的基本原理,结合Ag-Cu-Ge系三元相图,设计了含有少量合金元素Sn、Ni的中温钎料合金Ag-Cu24．0-Ge25．0-Sn4．0-Ni0．2(质量分数,％)。通过钎料合金与Ni板的润湿性测试及润湿后界面的微观组织分析,表明该合金对于纯Ni具有良好的漫流性和润湿性。     

国外TOFD检测标准分析和比较

概述了超声波衍射时差法（TOFD），对目前世界上主要的七个TOFD检测标准或规范进行了分析和比较，归纳了其中十二个方面的异同点。为我国TOFD检测标准的制订和TOFD技术的发展提供参考。     

Charge-discharge process of MnO2 supercapacitor

Mechanochemical synthesis of α-MnO2 was carried out with KMnO4 and Mn（CH3COO）2 in 1：1 mole ratio. The electrochemical performance of MnO2 electrode was investigated by cyclic voltammograms and alternating current impedance. The charge-discharge process of MnO2 supercapacitor in 6 mol/L KOH was studied within 1.2 V at 200 mA/g, suggesting that it displays double-layer capacibility in low potential scope and pseudo-capacitance properties in high potential scope. It is found that Mn3O4, an electrochemical inert, mainly forms in the initial 40 charge-discharge cycles. During cycling, the pseudo-capacitance properties disappear and the discharge curves are close to ideal ones, indicating double-layer capability. The maximum capacitance of MnO2 electrode is as high as 416 F/g, and retains 240 F/g after 200 cycles. The equivalent series resistance increases from 17 to 41Ω.     

晶化对等离子喷涂Ni基涂层硬度的影响

采用大气等离子喷涂在低碳钢基底上制备了含有89．2％非晶的NiCrBSi涂层。应用X射线衍射分析和Weibull分布研究了两个晶化温度523℃和628℃下热处理2～6h对涂层微观结构和显维硬度的影响。结果表明，在两个温度下，晶化析出相晶粒大小和涂层的显微硬度Weibull模数都随着热处理时间的延长而增大，涂层均匀性变好。在523℃热处理，随着热处理时间延长，涂层显微硬度增大，在4h时达到最大值，而后下降；628℃热处理，显微硬度在2h时达最大值，而后随热处理时间延长而下降。523℃热处理4h，涂层具有最高显微硬度。     

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 通过对试样进行金相分析，对铸坯表面修磨试验结果分析及对连铸坯在高线粗轧第1道和第2道轧制的受力和变形的分析，发现盘条表面的一种特殊的线状缺陷形成的原因是连铸坯存在边内裂和皮下气泡 ，粗轧机组（特别是第1和第2架）孔型设计不合理，也促进这种线状缺陷的形成。     

纯Ar气氛中退火对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

用射频磁控溅射技术制备了高度择优取向的Al掺杂ZnO(ZAO)薄膜,并对薄膜在纯氩气中进行了400～600℃的退火处理.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)、光谱仪和四探针测试仪等对退火前后薄膜进行了表征和光学、电学性能研究.研究表明,纯氩气中退火处理对ZAO薄膜的晶体、光学和电学性能有影响.原位沉积的薄膜电阻率2.59Ωcm,可见光区透过率约70%.500℃纯Ar气氛中退火1h后,ZAO薄膜的平均晶粒有所长大,薄膜内应力达到最小,接近于松弛状态;薄膜可见光区平均透过率从70%提高到80%左右;而薄膜的电阻率变化不明显,从2.59Ωcm降低到1.13Ωcm.     

数控机床伺服系统稳定性的研究

伺服系统的性能很大程度上决定了数控机床的效率和加工精度。伺服系统将检测信号和输入指令进行比较，将差值转化从而控制输出元件．那么控制好伺服系统的稳定性、快速响应及精度，也就使伺服系统具有了良好的工作性能。文章主要讨论PID对伺服系统的影响，通过实例验证如何控制其稳定性，反映了数控领域内的新经验。对在实际生产中有很大的帮助.     

PHASE EQUILIBRIA IN Al-Mg-Sm SYSTEM AT 400℃

本文借助于x射线粉末衍射法、金相观察和化学分析法研究了Al-Mg-Sm三元合金相图的400℃等温截面,它包括15个单相区、27个二相区和13个三相区,未发现三元金属间化合物。