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991.
利用企业的电子陶瓷工艺制备了CeO2掺杂Bi0.5(Na1-x-yLixKy)0.5TiO3无铅压电陶瓷,并研究了CeO2掺杂对该体系陶瓷的介电压电性能与微观结构的影响。X-射线衍射结果表明,掺杂的CeO2扩散进入了Bi0.5(Na1-x-yLixKy)0.5TiO3钙钛矿结构的晶格;SEM观察结果表明,少量的CeO2掺杂可改进该陶瓷的微结构;介电压电性能研究结果表明,CeO2掺杂对该陶瓷体系的综合性能有较大改善,室温下该体系配方的压电常数d33可达199 pC/N,径向机电耦合系数kp达39.3%,同时降低了陶瓷的介电损耗(tanδ=2.0%),提高了其机械品质因数。 相似文献
992.
993.
一种基于CMOS工艺的二维风速传感器的设计和测试 总被引:1,自引:0,他引:1
给出了一种完全基于CM O S工艺的、能同时测量风速和风向的二维测风传感器的结构、工作原理及其测试结果。该传感器采用恒温差工作模式,热堆输出电压平均值反映芯片温度和环境温度的差,省去了测温二极管。风速测量采用热损失型原理,因此不存在速度量程问题;同时通过四周对称分布热堆的相对差分输出得到风向,风向的测试和风速无关。测试电路是由普通运放电路组成的控制和测试系统。经过风洞测试,风速的测量可以达到23m/s,风速分辨率达到0.5 m/s,风速的最大误差为0.5 m/s。传感器的反应时间为3~5秒,整个功率损耗约为500 mW。 相似文献
994.
PWM/PFM双模调制的高效率DC/DC开关电源 总被引:4,自引:0,他引:4
利用根据负载电流的大小改变调制模式的方法实现了一种降压型高转换效率的DC/DC开关电源,并采用二次集成的方式在芯片内部集成了功率p-M O SFET。当控制电压占空比小于20%时,采用PFM(Pu lse-F requency M odu lation)模式调制;占空比大于20%时,采用PWM(Pu lse-W idth M odu lation)模式调制,平均转换效率约为93%,输出电流范围可以从0.01 A到3.0 A。当输出驱动电流为3.0 A时,整个调制控制电路的功耗仅为6.0 mW。输入电压为5 V时,负载调整率小于1.5%;负载电流为0.01 A时,线性调整率小于0.5%。 相似文献
995.
无线光通信技术具有通信容量大、传输速率高等众多优点,在许多场合都有重要的应用,是现代通信技术研究的一个热点.由于脉冲位置调制(PPM)有较高的平均功率利用率和抗干扰能力,故PPM是无线光通信系统中常用的调制方式.在研究PPM调制技术的基础上,就基于FPGA的无线光通信PPM调制系统进行设计,并用VHDL语言完成了系统的设计和仿真.仿真结果表明,该设计具有正确性和合理性. 相似文献
996.
997.
CDMA2000 1xEV-DO中的分组调度算法 总被引:1,自引:0,他引:1
移动通信系统需要更好地支持分组数据业务,并满足高速分组数据业务的服务质置要求。这可以通过采用好的调度算法提高平均业务速率和系统整体稳定性实现。针对CDMA2000 1x EV-DO系统的有代表性的调度算法有3种:正比公平算法、速率受限的最大载干比算法、加权公平排队-正比公平(WFQ-PF)联合算法。正比公平调度算法是一种算法简单实用的调度方案,但不能满足用户的服务质景保证;速率受限的最大载干比算法具有比正比公平算法更高的平均吞吐量,可方便地在吞吐量和公平性之间获得很好的折衷;WFQ-PF联合算法具有良好的综合性能,但算法较复杂。 相似文献
998.
文章介绍了无裂纹高导电性n型A lxGa1-xN的MOCVD生长及其电学、光学和表面形貌性质。通过A lN两步生长法,有效地解决了A lxGa1-xN外延薄膜易裂的难题。并且对其生长进行优化,减少了A lxGa1-xN外延薄膜中的受主补偿缺陷,从而实现了高导电性的n型A lxGa1-xN薄膜,其载流子浓度为4.533×1018cm-3,并且电子迁移率高达77.5cm2/V.s,已经达到了目前国际上报道的先进水平。另外光学吸收谱说明A lxGa1-xN外延薄膜在302nm处具有陡峭的带边吸收,同时结合原子力显微镜分析材料的表面形貌,证实了材料表面光滑且平整。 相似文献
999.
光学相干断层成像(OCT)是一种新型的,无损伤的光学成像技术,能够实现实时的纵向层析成像,在医学临床具有广泛的应用前景。本文探讨了其在眼后段检测中的应用。 相似文献
1000.