海相含气页岩水平层理类型、成因及其页岩气意义——以川南地区古生界五峰组-龙马溪组为例

页岩发育多种成因类型水平层理,不同类型水平层理渗透性存在差异。综合岩心观察、大薄片全直径成像和氩离子抛光片扫描电镜分析发现,川南地区古生界五峰组-龙马溪组含气页岩发育递变型、砂-泥递变型、砂-泥互层型和书页型4种水平层理。递变型水平层理由多个粉砂层水平叠置而成,粉砂和泥混杂堆积,粒序发育。砂-泥递变型水平层理中粉砂纹层和泥纹层水平互层,粉砂纹层呈颗粒支撑结构,整体正递变,其底部为突变界面,顶部与上覆泥纹层渐变接触。砂-泥互层型水平层理由粉砂纹层和泥纹层水平互层构成,层和纹层界面均突变接触,粒序不发育。书页型水平层理由极薄层状泥纹层构成,发育微弱的正粒序。4种水平层理具有不同的成因机制。递变型和砂-泥递变型水平层理均为相对低能的泥质浊流成因,递变型水平层理形成的水动力更弱;砂-泥互层型水平层理为陆棚相等深流成因;书页型水平层理为远洋悬浮沉降成因。水平层理类型直接影响页岩渗透性。书页型水平层理页岩富含有机质和有机孔,页岩渗透性最好;砂-泥互层型水平层理页岩颗粒分选性较好,页岩渗透性次之;递变型和砂-泥递变型水平层理页岩颗粒分选性差、有机质含量低,渗透性最差。     

InfiniBand结构中SDP协议分析

InfiniBand是一种新型宽带互联结构，可以提高CPU之间、服务器各设备之间、网络域之间的通信速率。SDP是InfiniBand结构中一种轻量级通信协议，保持了TCP/IP上的SOCK_STREAM套接字语法，通过旁路操作系统内核，实现了零拷贝，从而大大提高了传输速率。文章介绍了InfiniBand的互联结构和通信模式、分析了SDP协议在系统中的结构模型。最后从缓冲模型、连接建立过程和数据传输机制等方面分析了SDP的具体执行过程。     

离心钢管混凝土变电构架平面内变形分析计算

本文对离心钢管混凝土变电构架进行了平面内的受力计算与分析,讨论了各种内力对此种变电构架变形的影响,对此种变形进行了分析计算,并与试验值进行比较,结果表明,可以忽略由于轴向内力引起的平面内变形,此误差很小,同时给出了平面内变形的计算方法。     

软X-射线滤光片支撑镍网的设计及制作工艺研究

介绍了软X-射线滤光片支撑栅网的工作原理及其制作工艺,以金属镍为结构材料,采用了微机电系统(MEMS)技术中的电镀工艺及剥离工艺,讨论了制作工艺中的难点,最后成功制作了网面平整、网线匀称、表面光亮、应力小、厚度均匀的镍网,该镍网厚14 μm,栅线间隔36.3 μm,透过率80%.     

一种基于ARM7的工业测控板的研究

本设计以嵌入式控制系统为目标,实现了多路AD采集、DA输出、数据存储等功能,并能提供多总线通讯.实验表明,系统AD/DA转换精度高、使用灵活,效果良好.     

数据仓库技术的研究现状和未来方向

数据仓库(Data Warehouse)和联机分析处理(On-Line Analytical Processing,OLAP)是信息技术新兴的研究领城.国际上对数据仓库体系结构、数据组织、视图维护、多维数据库建模、数据立方体计算等问题进行了广泛和深入的研究.阐述了斯坦福大学、IBM Almaden研究中心、威斯康辛大学以及微软和AT&T公司在该领域近几年的研究,以此描述数据仓库技术的研究状况和发展方向.     

OFDM分集接收系统上行链路信道估计研究

对采用时频块组帧的OFDM(正交频分复用)上行链路信道估计进行了研究,给出了基于二维DFT(离散傅里叶变换)的信道估计算法,针对传统二维信道估计方法的边缘效应提出了一种改进办法,即采用分块拟合的方法对信道曲面边缘部分进行补偿估计。仿真表明,改进的二维DFT信道估计方法可以有效地消减边缘效应,从而获得更好的系统性能。     

7150铝合金时效时晶界析出行为的研究

本文采用透射电子显微镜(TEM)、能谱分析(EDAX)对人工时效条件下晶界无析出带(PFZ)的演变规律进行研究。实验选用同一投影方向测量PFZ的宽度,结果表明PFZ的宽度对时效温度的敏感性远远高于对时效时间的敏感性。时效温度越高PFZ越宽,而在同一时效温度下PFZ的宽度并不随时效时间的延长而宽化。PFZ的宽度与相邻两个晶粒之间的取向差有关系,在相同处理条件下,小角度晶界附近PFZ宽度小于大角晶界。能谱分析显示PFZ内为贫溶质原子区,Zn元素缺失尤为明显。     

SOI技术——21世纪的硅集成技术

SOI技术作为21世纪的硅集成技术,越来越受人们的关注。文章从寄人电容、闭锁放应、热载流子效应、体效应及辐射效应等几个方面详细讨论了SOI器件对体硅器件的优势,并讨论了当前SOI技术的研究领域和发展方向。     

在氩气氛下生长的C60薄膜的结构与特性

采用惰性气氛蒸发法制备C60薄膜,用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)及紫外-可见光谱研究了在氩(Ar)气氛下生长的C60薄膜的表面形貌、结构及光吸收特性.AFM测量表明在Ar气氛下生长的Ceo薄膜的表面生长岛更尖锐,并且有较大直径的表面粒子.由紫外-可见光吸收谱测量发现Ar气氛下生长的C60薄膜的强度和吸收峰位置与在真空下生长的C60薄膜比较有大的红移.可求出在Ar气氛下生长的C60薄膜的光学禁带宽度Eg一2.24eV,比在真空下生长的C6o薄膜禁带宽度(2.02eV)要大.与真空下生长的C60薄膜比较,Ar气氛下生长的Cso薄膜的红外谱没有变化,但X射线衍射表明其结构从面心立方(fcc)相变成fcc相与六角密堆(hcp)相的混合相.