涂、镀层的结合强度评定

涂、镀层与基体的结合强度是评价其质量的重要性能指标．常用的结合强度评定方法：厚涂层采用粘结拉伸法;薄膜镀层用划痕法。本文指出了这两种方法存在的问题。我们自行设计制造的涂层压入仪．采用楔压法测得热喷涂层的结合强度．当结合强度高于粘胶强度时仍有效。采用正压法测定气相沉积薄膜的结合强度并与划痕法作了比较。我们提出用接触疲劳试验测定硬质薄膜的界面疲劳强度评定结合力。这种方法接近于工具服役状况,其破坏形式是界面剥落．只对界面状态敏感。不受非界面因素影响,因而可作为动态结合强度的判据。     

PCVD TiN膜的界面制备及性能

用ＴｉＣｌ４作为反应气体制备ＰＣＶＤ ＴｉＮ镀层,对降低界面的氯含量,改善ＰＣＶＤＴｉＮ镀层的界面性能进行了研究。在镀层制备过程中增加了界面制备过程,即采用氩离子轰击以及氢的反应使界面的氯含量降低,膜基界面得到改善。结果表明,与常规ＰＣＶＤ制备的ＴｉＮ镀层相比,膜层的结合强度有大幅度的提高,耐磨性和耐蚀性均有改善,特别是其耐蚀性达到甚至超过奥氏体不锈钢的水平。     

离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能

应用低能离子束辅助磁控溅射（IBAMS）沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明：在相同的轰击能量（400eV）下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400eV增加到800eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高。     

循环氩离子轰击-等离子体增强化学气相沉积 TiN 膜组织与性能研究

分析对比了常规ＰＥＣＶＤＴｉＮ膜与循环氩离子轰击－ＰＥＣＶＤＴｉＮ膜组织与性能的差异。结果表明，循环氩离子轰击－ＰＥＣＶＤＴｉＮ膜较之常规ＰＥＣＶＤＴｉＮ膜，其组织细小致密，膜内残余氯含量显著降低，膜的硬度与耐磨性提高，但膜－基体结合强度没有显著改变。     

W18Cr4V高速钢离子渗氮层相结构与脆性研究

采用X射线衍射仪,金相显微镜及透射电镜分析W18Cr4V高速钢离子渗氮层相结构,采用连续加载压入法测定渗氮层脆性,分析了渗氮工艺对渗层相结构与脆性的影响。结果表明:离子渗氮工艺影响渗层相结构、含量及其分布,从而影响渗层脆性。     

钇对17CrMoV钢离子氮化特性的影响及催渗机理的探讨

本研究采用金相显微镜、透射电子显微镜、显微硬度计等仪器分析对比了１７ＣｒＭｏＶＹ和１７ＣｒＭｏＶ钢离子氮化层特性，探讨了钇加速离子氮化的机理，提出了钢中钇催渗的“气团─通道”模型。研究结果表明：钇显著提高渗层深度与硬度；钇影响钢的组织转变，提高渗层氮浓度，使氮化物更易于析出；大量弥散、细小氮化物的快速析出又为氮的进一步扩散提供了更多的扩散通道，加快氮的扩散。     

动态结合强度试验机的研制及应用

介绍了滚动接触疲劳法测定硬质薄膜膜基界面疲劳强度的方法，以及动态结合强度试验机的原理、结构及其应用。试验结果表明，用该试验机测得的膜基界面疲劳强度能定量地反映膜基界面之间的结合强度，且该方法对膜的成分和基体表面状态等界面因素敏感，而对基体硬度和膜层厚度等非界面因素不敏感。     

Cu附着膜的屈服强度与退火温度的关系

利用X射线拉伸实验研究了具有二维残余应力的Cu附着膜的屈服强度与退火温度的关系．结果表明，Cu附着膜的条件屈服点随着退火温度的增高而减小，退火温度在150—300℃间变化时，减小幅度最大，出现明显的拐点．这主要由于Cu附着膜在该温度范围内发生了再结晶，使得原有的大部分组织结构强化因素消失了．Cu附着膜的屈服强度远远高于块体Cu材的屈服强度．     

氮化—气相沉积硬质薄膜复合处理技术与应用

本文介绍了氮化－气相沉积硬质薄膜复合处理技术的原理和特性，综述了国外此项技术的研究进展与应用。     

择优取向对X射线应力测试的影响

本文从择优取向材料的受力边界条件出发,提出了一种计算择优取向材料Ｘ射线弹性性质的近似模型－加权Ｈｉｌｌ模型,并用这一简化模型计算了一些模型材料的Ｘ射线应力测试曲线。为验证新模型,实测了电镀及电刷镀Ｃｕ膜的应力。实验结果与用新模型计算结果符合得较好。从而解释了等离子辅助化学气相沉积（ＰＣＶＤ）ＴｉＮ膜应力测试曲线的低φ角弯曲现象,指出这种弯曲是由ＰＣＶＤ ＴｉＮ中存在的柱状晶定向排列引起,当低φ角弯