反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜

采用反应磁控溅射加真空退火分别在玻璃和Si（100）基底上制备氧化钒薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜分析其物相和表面形貌。结果表明：氧气体积分数低于15％时,玻璃上薄膜为低价钒氧化物,Si（100）A2薄膜为V2O5（001）织构和V2O3（104）织构,高于20％时两基底上薄膜均为V2O5;玻璃上V2O5薄膜500℃下退火3h生成VO2,退火后薄膜粗糙度明显下降;Si（100）上V2O5薄膜500℃下退火2h生成V2O3（104）织构,退火后薄膜粗糙度变化不大。     

热丝辐射距离和W-C梯度过渡层对高速钢基体气相生长的影响

使用反应磁控溅射技术在W18Cr4V高速钢基体表面制备W-C梯度过渡层(WCGC),采用热丝化学沉积法(HFCVD),以甲烷和氢气为反应气体,在基体表面生长金刚石膜。采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、X射线衍射仪(XRD)和激光拉曼光谱(Raman)对W-C过渡层和金刚石膜进行检测分析,研究热丝辐射距离和沉积气压对WCGC与金刚石膜的的影响。结果表明:热丝辐射距离对金刚石薄膜和WCGC均有较大影响;WCGC过渡层能够在一定热丝辐射范围内降低Fe在金刚石膜沉积过程的负面影响,有效提高金刚石的形核率,在基体表面得到连续致密的金刚石膜。     

金刚石涂层硬质合金的研究动态(Ⅱ)

介绍了金刚石低压气相沉积薄膜的组织结构与性能、应用前景和市场分析预测 ,以及金刚石低压气相沉积基本原理和工艺方法 ;并着重介绍了近年来国外有关低压气相沉积金刚石涂层硬质合金方面的研究动态。     

磁控溅射WS2薄膜的制备工艺及其性能

采用孪生中频磁控溅射的方法在低温条件下制备了WS2薄膜,利用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)、显微硬度仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的物相结构、微观形貌以及摩擦学性能进行了研究。结果表明:所制备的WS2薄膜呈现出明显的(002)晶面择优生长,S/W原子比1.52,在大气环境中摩擦系数可低于0.01,载荷与转速对薄膜的摩擦系数影响显著,在一定范围内加大载荷和提高转速都会增大其摩擦系数。     

硬质合金刀具ZrC涂层的沉积

采用原位卤化反应直接形成的ZrCl4气体作为Zr源,在硬质合金刀具上沉积CVD-ZrC涂层。用SEM,XRD分析检测了合金刀具基底不同表面上沉积生长ZrC涂层的厚度均匀性、沉积速率、形貌组织、织构取向;通过理论计算与工艺实际的涂层沉积转化率对比,定量表征了该沉积体系工艺参数下ZrC涂层的沉积转化率。结果显示,CVD涂层炉内不同位置合金刀片表面沉积的ZrC涂层均匀;由于工艺温度限制,涂层沉积速率较低;ZrCl4转化为ZrC涂层的工艺实际转化率约11%,在理论最大转化率14%范围内;相同温度下随着沉积压力升高,涂层的沉积转化率缓慢降低到10%并趋于稳定;直接在合金基底沉积形成的ZrC涂层为细小的颗粒状形貌,而在合金基底TiN涂层表面上沉积生长的ZrC具有典型的片状组织形貌;对应的涂层生长织构取向从(311)到(111)转变。     

铸态和热处理态ZK60-xCa镁合金的组织与力学性能

利用光镜、扫描电镜、XRD和DSC,分析了铸态和热处理态ZK60-xCa合金的组织和相组成,测试了其硬度和室温拉伸性能.结果表明,随着Ca含量的增加,铸态组织逐渐细化,生成Mg6Zn3 Ca2新相,晶界相逐渐增多,且趋于连续网状分布;硬度逐渐提高,而抗拉强度和伸长率逐渐降低.MgZn2相绝大多数固溶于α-Mg基体中,而Mg6 Zn3 Ca2相少量固溶.ZK60和ZK60-1.25Ca合金拉伸性能经648 K固溶后均显著提高,随固溶温度的提高而逐渐降低;经448 K时效后,前者的抗拉和屈服强度有所提高,后者的抗拉强度不变,两者的伸长率均降低.     

氮气流量、基体温度对反应溅射(Ti,Al)N成膜影响

采用反应直流磁控溅射的方法，通过控制基体温度和N2／Ar流量比，在WC-6％Co基体表面上成功地制备了(Ti，Al)N薄膜。用AFM、XRD、显微硬度测试仪对薄膜的显微形貌、成分、显微硬度进行了测试。结果表明，在N2／Ar流量比较低时薄膜存在明显的(Ti，Al)N的(111)织构，随着N2／Ar流量比的增大，这种(111)织构逐渐变弱，薄膜显微形貌发生较明显的变化，显微硬度也随之变化；N2／Ar流量比超过某一门槛值时不能生成(Ti，Al)N；在一定范围内(250～400℃)，温度对薄膜质量的影响不是很明显。     

Ultrananocrystalline Diamond Films Deposited in Ar-CO2- CH4 Gas Mixtures by Microwave CVD

Ultrananocrystalline diamond film was deposited by microwave chemical vapor deposition (CVD) system using Ar- CO2-CH4 as gas source. The effects of process conditions on the morphology of diamond film were investigated. Results show that the compact ultrananocrystalline films with thickness of 5 μm, crystal size of 20 nm and surface roughness below 16 nm can be deposited. The deposition rate is significantly improved by adding CO2 into the Ar-CH4 system. However, the parameter window of gas source for the deposition of compact nanodiamond films is quite narrow when this gas source is employed. Further research is needed to investigate the reasons and optimal process condition     

压强对射频溅射氧化锌薄膜结构和性能的影响

采用射频溅射方法在聚脂(PET)胶片上沉积ZnO：A1薄膜，实验结果表明沉积压强对氧化锌透明导电薄膜的表面形貌、结构、光电性能等有较大的影响，在低的沉积压强下薄膜具有很好的(002)结构，有优良的光、电综合性能。同时详细讨论了影响结构和性能的诸因素。     

Thermal stability of multi-spray deposition heat resistant Al-Fe-V-Si alloy

Rapidly solidified AI-8.4Fe-1.3V-1.7Si heat resistant alloy was made by using multi-layer spray deposition technique. Its thermal stability of mechanical properties was investigated by the means of tensile and hardness tests, thermal stability of microstructure by transmission electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD). The results show that after heat exposure (HE) at 753K for 500 h the tensile strength and liardness of Al-Fe-V-Si alloy at 623K maintains the same values as those at room-temperature. HE dose not obviously affect the thermal stabilities of Al12(Fe, V)3Si phase but the lattice constant of Al12(Fe. V)3Si phase decrease.