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喷射成形CuCr25合金触头材料的制备及致密化处理 总被引:3,自引:1,他引:3
利用喷射成形技术制备了CuCr2 5合金触头材料 ,研究了雾化压力对显微组织、致密度和收得率的影响 ,对制得的沉积坯件进行了热锻压和热等静压致密化处理 ,并测试了触头材料的密度、硬度和电导率。研究结果表明 :最合适的雾化压力为 0 .6MPa ,沉积坯件经过 95 0℃锻压后再在 10 70℃ ,2 0 0MPa下热等静压 8h ,可以得到全致密的触头材料 ,铬颗粒平均直径小于 10 μm ,硬度达 10 0HB ,电导率 2 5~2 9Ms·m- 1 ,说明致密化处理后的喷射成形CuCr2 5合金是一种优良的触头材料。 相似文献
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对冲压外圈超越离合器滚针轴承的结构和工作原理作了介绍。在轴承自锁状态下,分析了滚针的受力情况,推导出轴承自锁条件,即楔角α=8°~10°。附图2幅。 相似文献
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列出了经生产验证,适用于石墨铁(灰铁,球铁)的新型冒口的类型及其尺寸系列;给出了冒口类型,尺寸,数量,位置等选用,确定原则,使新型冒口设计手册化。对新型冒口的推广和应用有一定促进作用。 相似文献
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离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响 总被引:1,自引:2,他引:1
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa.用能量为113eV的离子束轰击300s时,平均应力由72.9MPa的张应力变为16.7MPa的压应力.二氧化钛薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素. 相似文献
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用射频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备NiO单层膜、NiFe单层膜和NiO/NiFe双层膜,研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响.用振动样品磁强计(VSM)分析了膜的磁特性,结果表明:基片温度260℃时淀积的NiFe膜矫顽力Hc为184A·m-1,小于室温淀积NiFe膜的Hc(584A·m-1),且磁滞回线的矩形度更好.室温下淀积NiO(50nm)/NiFe(15nm)双层膜的Hc为4000A·m-1,交换耦会场(HEX)仅为1600A·m-1,磁滞回线的短形度很差,而260℃时淀积的双层膜的Hc下降到3120A·m-1,HEX却增大为4640A·m-1,同时磁滞回线的矩形度也得到改善,其截止温度TB高达230℃.X射线衍射(XRD)分析了膜的织构,结果表明:室温下淀积NiO膜呈现(220)织构,而260℃时淀积NiO膜呈现(111)织构;室温和260℃淀积的NiFe膜都呈(111)织构,但后者晶粒比前者大. 相似文献
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对离心压缩机结构进行研究,明确制造期间质量控制要点,并分析构件综合检验、承压部件试验、热处理检查、无损探伤检查等设备制造试验、质量控制的具体操作方法,以保证设备制造科学,并始终保持良好运行状态参与到化工生产作业中。 相似文献
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利用人工势场法进行移动机器人路径规划是十分有效的,在使用人工势场法进行避障的时候,由于移动机器人对周围环境信息的感知具有局限性,容易导致局部极小问题的出现。针对此问题提出一种基于“沿边行为”的方法,当移动机器人进入局部极小状态时激活该行为,使机器人沿着障碍物的边缘运动,使移动机器人在只感知局部信息的条件下,能迅速地摆脱局部极小的状态。仿真实验表明这种方法是可行的,可以有效地解决移动机器人因获取的环境信息不足而陷入局部极小点。 相似文献