精密陶瓷氧化锆的相变及物相定量相分析

用2～15mol％的氧化钇作为稳定剂的前处理氧化锆固溶体粉为原料,经1500℃烧结制得氧化锆固溶体烧块。采用X射线衍射技术分别分析了固溶体粉和烧块的相结构变化规律。研究结果表明,对于前处理固溶体纷,当氧化钇加入量达到6～8mol％时,M相减少,T C相占主要地位,氧化钇加入量增至9mol％以上,可得全为立方氧化锆。对于烧块,氧化钇的加入量大于2mol％,即可得到以四方相为主的部分稳定氧化锆;氧化钇的加入量大于6mol％,即可得到全稳定的立方氧化锆。比较了氧化钇、氧化铈、氧化钙、氧化镁作为稳定剂在效果上的差异并探讨了这个差异的结构原因。通过理论参考强度因子的计算,建立了简便的无标样氧化锆三相定量相分析公式。     

两种银包套（Bi，Pb）_2Sr_2Ca_2Cu_3O_x带材织构形成与工艺的

用ＸＲＤ和ＳＥＭ系统地研究了用ＰＩＴ方法制成的银包套Ｂｉ－２２２３单芯和多芯带材在不同加工阶段的组织结构，发现机械加工使装管粉末形成了择优取向，这种择优取向是２２２３相形成织构的基础。随着热处理的进行，２２２３相晶粒呈片状长大，长大的速度具有各向异性，同时织构度不断增加。烧结过程中的压制工艺能增加带材的致密度，使２２２３相片状晶粒之间的连接更好，性能大大提高。在目前使用的工艺条件下，多芯带材的择优取向、性能等不如单芯带材。     

X射线Φ扫描及其在高温超导薄膜分析中的应用

Ｘ射线φ扫描及其在高温超导薄膜分析中的应用常世安，陈岗峰，马平，杨坚，古宏伟，袁冠森（北京有色金属研究总院１０００８８）关键词：Ｘ射线衍射，高温超导薄膜Ｘ射线衍射仪的常规θ－２θ扫描只能对平行于试样表面特定晶面进行检测￣［１］．而无法区别是单晶、外延...     

磁控溅射法在立方织构镍基底上制备CeO2缓冲层

论述了具有立方织构的金属镍基底上 ,采用射频磁控溅射的方法制备CeO2 缓冲层。以Ar/H2 混合气体作为溅射气体 ,有效地抑制了NiO的形成 ,获得纯c轴取向的CeO2 薄膜。X射线 φ扫描、ω扫描和极图的测试分析表明 ,CeO2 薄膜在平面内和垂直于膜面方向晶粒都是有序排列的 ,具有良好的立方织构。     

Epitaxial Growth of YBCO Thin Films on LaAlO_3 Substrate with CeO_2 Buffer Layer

ＥｐｉｔａｘｉａｌＧｒｏｗｔｈｏｆＹＢＣＯＴｈｉｎＦｉｌｍｓｏｎＬａＡｌＯ＿３ＳｕｂｓｔｒａｔｅｗｉｔｈＣｅＯ＿２ＢｕｆｆｅｒＬａｙｅｒＭａＰｉｎｇ，ＹａｎｇＪｉａｎ，ＧｕＨｏｎｇｗｅｉ，ＣｈｅｎＬａｎｆｅｎｇａｎｄＣｈａｎｇＳｈｉａｎ（马平）（杨坚...