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白酒酿造过程中塑化剂来源分析 总被引:2,自引:0,他引:2
为探明白酒在酿造过程中的塑化剂来源,采用气相色谱-质谱联用方法测定白酒酿造的主要原料及各个阶段产物的16 种邻苯二甲酸酯类物质的含量。结果表明,16 种邻苯二甲酸酯类物质的平均回收率和精密度分别为84.5%~107.3%、2.9%~7.3%,方法检出限在0.06~1.3 μg/kg。3 个批次的样品只检出了邻苯二甲酸二甲酯(dimethyl phthalate,DMP)、邻苯二甲酸二乙酯 (diethyl phthalate,DEP)、邻苯二甲酸二异丁酯(diisobutylphthalate,DIBP)、邻苯二甲酸二丁酯(di-n-butyl phthalate,DBP)、邻苯二甲酸二-2-乙基己酯(dioctylpathalate,DEHP)5 种塑化剂。DMP、DBP在大渣酒头、大渣原酒、小渣酒头、渣原酒、回糟原酒中含量明显多于其他阶段。大渣酿酒阶段产生微量的DMP、DBP,小渣酿酒阶段产生微量的DEHP,产生量均未超过0.09 mg/kg,可见白酒酿造过程中产生极微量的塑化剂,在不接触塑料制品的前提下白酒酿造过程中的塑化剂主要来源于原料。 相似文献
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张旋;余天石;葛明桥 《纺织学报》2009,30(10):15-18
为减少废弃聚酯纤维对环境造成的污染,促进废弃资源循环利用,以废弃聚酯、乙二醇、氯化亚砜为反应原料,甲苯为反应溶剂, N,N-二甲基甲酰胺为催化剂合成了制备新型Gemini表面活性剂的中间体—长链氯代烷。研究物料配比,反应时间,反应温度和催化剂用量对产物产率的影响。采用傅里叶变换红外光谱仪和核磁共振氢谱仪等测试仪器对产物进行定性分析。结果表明,物料配比为1:2.4,反应温度64℃,反应时间3 h,催化剂用量4%时,合成产物的产率较高。 相似文献
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催化纸集中了悬浮TiO2和固定TjO2两者的优点,为TiO2在环境污染治理中的应用开辟了一个新的研究领域.采用无机纤维作为TiO2载体可提高催化纸强度,添加沸石、进行贵金属沉积和采用其他半导体材料可提高催化纸的催化性能,催化纸主要用于有害有机物的矿化、消毒和用作化学反应的催化剂,提出了获得高催化性能和高强度催化纸需要解决的4个问题. 相似文献
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一种基于证书的单点登录方案设计 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了单点登录的概念,提出一种基于证书的单点登录服务器实现方案。设计了该方案的体系结构,对其可用性和安全性做出分析。在该单点登录模型中,登录过程的安全性、稳定性和效率得到提高。 相似文献
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上扬子区下寒武统牛蹄塘组页岩气基本特征研究——以贵州丹寨南皋剖面为例 总被引:2,自引:0,他引:2
上扬子区下寒武统牛蹄塘组是我国页岩气最具勘探潜力的目的层位之一,因此,以贵州丹寨南皋剖面为例,通过野外测量、薄片鉴定、地球化学分析、X-衍射矿物分析、孔隙度测量、扫描电镜观察和等温吸附模拟实验等多种方法,研究牛蹄塘组页岩气地质、地球化学、储层和含气性特征,并讨论有机质发育与矿物相关性,以及吸附气量的控制因素。下寒武统牛蹄塘组下部为深水陆棚相泥岩沉积,上部为浅水陆棚相粉砂质泥岩和钙质泥质粉砂岩沉积。微量元素比值表明黑色页岩形成于缺氧还原沉积环境,且具有明显的热水沉积特征。黑色页岩有机质类型好,属Ⅰ型干酪根;有机质丰度高,TOC值为0.38%~15.31%,平均为5.2%;RO值为1.60%~4.15%,平均为2.80%,属过成熟阶段。矿物成分主要为黏土(伊利石和少量绿泥石)、石英、长石、重晶石和石膏等。石英含量相对较高且剖面向上降低,平均值为53%;黏土含量较低且剖面向上增加,平均值为34%;碳酸盐矿物较少,仅在顶部可见。泥岩和硅质岩孔隙度一般在0.99%~4.66%之间,平均为2.39%;密度为1.99~2.62g/cm3,平均为2.47g/cm3。黑色页岩孔隙主要发育粒内孔、粒间孔、裂缝和有机质孔等4种类型,前两者较为常见。有机质含量与矿物相关性分析表明石英含量过高或过低以及黏土过低均不利于有机质的富集。等温吸附实验表明吸附气量为1.71~2.62m3/t,平均为2.33m3/t,吸附能力整体较强。吸附量与TOC呈正相关,与最高热解温度(Tmax)呈负相关,与石英呈正相关,与黏土呈不相关,与纳米孔分布频率呈正相关,其中有机质丰度和纳米孔对页岩对气吸附能力的影响占主导作用。 相似文献
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目的 选取影响氧化铟锡(ITO)薄膜生长关键的3种参数,即薄膜生长的氧气流量、薄膜厚度和热处理退火,系统研究其对ITO薄膜光学和电学性能的影响规律。方法 采用直流溅射法,在氩气和氧气混合气氛中溅射陶瓷靶材制备ITO薄膜样品。利用真空热处理技术对所制备的ITO薄膜进行真空退火处理。通过表面轮廓仪测试厚度、X-射线衍射仪(XRD)表征结构、X-射线光电子能谱仪(XPS)分析元素含量、分光光度计测试透过率和四探针测试薄膜方块电阻,分别评价薄膜厚度、光学性能和电学性能,并对比研究热处理对薄膜结构和光电性能的影响规律。结果 电阻率随氧气流量的增加呈现出先缓慢后急剧升高的规律,在氩气和氧气流量比为150∶8时,可得到400 nm厚、电阻率为8.0×10?4 ?.cm的ITO薄膜。厚度增加可降低薄膜电阻率,氧气流量的增加可明显改善薄膜透光性。通过真空热处理可提高室温沉积ITO薄膜的结晶性能,较大程度地降低电阻率。在真空热处理条件下增大薄膜厚度可降低薄膜电阻率,氧气流量增加不利于ITO薄膜电阻率的降低。在氩气和氧气流量为150∶6条件下制备的ITO薄膜,经500 ℃真空热处理后电阻率可达到最低值(2.7×10?4 ?.cm)。结论 通过调控氧气流量和厚度来优化ITO薄膜的结构和氧空位含量,低温下利用磁控溅射法可制备光电性能优异的ITO薄膜;真空热处理可提高薄膜结晶性能,通过氧气流量、厚度和热处理温度3种参数调控可获得最低电阻率的晶态ITO薄膜(2.7×10?4 ?.cm),满足科技和工程领域的需求。 相似文献
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