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101.
102.
优化了GaAs基InGaP/AlGaAs/InGaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)的外延结构,有利于获得增强型PHEMT的正向阈值电压.采用光学接触式光刻方式,实现了单片集成0.8μm栅长GaAs基InGaP/AlGaAs/InGaAs增强/耗尽型PHEMT.直流和高频测试结果显示:增强型(耗尽型)PHEMT的阈值电压、非本征跨导、最大饱和漏电流密度、电流增益截止频率、最高振荡频率分别为0.1V(-0.5V),330mS/mm(260mS/mm),245mA/mm(255mA/mm),14.9GHz(14.5GHz)和18GHz(20GHz).利用单片集成增强/耗尽型PHEMT实现了直接耦合场效应晶体管逻辑反相器,电源电压为1V,输入0.15V电压时,输出电压为0.98V;输入0.3V电压时,输出电压为0.18V. 相似文献
103.
104.
105.
世界上普遍存在着分形(fractal)规律[1].分形可以是形态、功能和信息方面的自相似性,而且相似性是有层次级别的.提出了量化因子和比例因子的分形因数F,从而把分形规律应用到查表式模糊控制中去.仿真结果表明提高了控制精度. 相似文献
106.
107.
利用电子束光刻技术制备出200nm栅长GaAs基InAIAs/InGaAs MHEMT器件.Ti/Pt/Au蒸发作为栅极金属.同时为了减少栅寄生电容和寄生电阻,采用3层胶工艺,实现了T 型栅. GaAs基MHEMT 器件获得了优越的直流和高频性能,跨导、饱和漏电流密度、域值电压、电流增益截止频率和最大振荡频率分别达到510mS/mm, 605mA/mm, -1.8V, 110GHz及 72GHz,为进一步研究高性能GaAs基MHEMT器件奠定了基础. 相似文献
108.
109.
利用MBE外延材料和接触式光学光刻方式,成功制备出1.0μm栅长GaAs基MHEMT器件,分别蒸发Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au作为栅电极金属.获得了优越的DC和RF性能,Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au MHEMT器件的gm为502(503)mS/mm,JDss为382(530)mA/mm,VT为0.1(-0.5)V,fT和fmax分别为13.4(14.8),17.0(17.5)GHz.利用单片集成增强/耗尽型GaAs基MHEMT器件制备出九阶环型振荡器,直流电压为1.2V时,振荡频率达到777.6MHz,门延迟时间为71.4ps.利用Ti/Pt/Au MHEMT器件设计并制备出了DC-100Hz单刀双掷(SPDT)关MMIC,其插入损耗、隔离度、输入输出回波损耗分别优于2.93,23.34和20dB. 相似文献
110.
武钢第二炼钢厂使用RH-KTB设备主要生产w(C)很低(w(C)≤15×10-6)的冷轧薄板钢.为了同时把有害元素w(N)降至15×10-6以下,进行了125炉次的深脱氮工艺试验.试验结果表明,RH-KTB法可以同时深脱氮,平均初始w(N)为24×10-6,经过约25 min精炼,最终钢液中w(N)可以稳定控制在15×10-6以下,成功率达80%.同时发现,脱氮反应主要发生在吹氧快速脱碳阶段,脱氮随着脱碳速率增大而加快,6~8 min脱碳减弱后,靠提高真空度、增大吹氩量和循环量等措施,还能继续深脱氮,可以脱去脱氧合金化时合金带入的增氮量. 相似文献