城中村改造与建筑垃圾

我国建筑垃圾的数量已占到城市垃圾总量的30％～40％。以500～600t／万m2。的标准推算,到2020年,我国还将新增建筑面积约300亿m2,更随着昆明市城中村改造的深入,新产生的建筑垃圾将是一个令人震撼的数字。然而,绝大部分建筑垃圾未经任何处理,便被施工单位运往郊外或乡村,露天堆放或填埋,耗用大量的征用土地费、垃圾清运费等建设经费,同时,清运和堆放过程中的遗撒和粉尘、灰砂飞扬等问题又造成了严重的环境污染。因此,建筑垃圾的处理成为刻不容缓的城市问题。     

配位交变电磁下溶胶-凝胶法制备高着色力钒酸铋颜料

为提升钒酸铋颜料的着色力和鲜艳度,本文以Bi2O3和V2O5为主要原料,采用溶胶-凝胶法制备了钒酸铋颜料,并比较了单独添加配位络合剂、配位络合剂外加电磁场等不同条件下生成的颜料的着色力、鲜艳度和耐性的差异.结果表明:采用非传统的交变电磁场并结合配位络合技术能提升高达30％的着色力,同时鲜艳度和耐性相当,所制备的涂层耐候...     

福山凹陷小断块油藏储层压裂技术研究与应用

水力加砂压裂一直是各个油田增储上产的重要手段,但福山凹陷前期压裂效果不好,其原因是断块小而多、油气水关系复杂.通过对福山凹陷小断块油藏储层压裂改造的难点进行分析,采取了前置液投球+变排量控制缝高技术、人工隔层+变排量控制缝高技术、高低温2种压裂液体系优选技术、支撑剂粒径组合等针对性工艺措施,同时优化了压裂液体系和施工管...     

水泥中石膏对萘系减水剂作用效果的影响研究

混凝土外加剂与水泥相容性问题的影响因素很多,其中石膏的种类和掺量就是其中之一。以减水剂为例,其在水泥混凝土应用中存在饱和点,通过饱和点的变化可判定水泥与减水剂的相容性好坏。采用不同石膏掺量,不同高效减水剂掺量的水泥净浆试验,进行5,30,60min的净浆流动度的测试及饱和点的确定。结果表明,随着水泥中石膏含量的增加,减水剂的饱和点不断降低,饱和点时净浆流动度不断下降,水泥与减水剂的相容性越差。另外,还对石膏品种对减水剂相容性的影响进行了概要性的介绍。     

充氪中空玻璃节能效果经济评价

对中空腔内分别填充氪气(Kr)与空气(A)的中空玻璃进行成本核算。以上海地区民用建筑和商用建筑的空调使用情况作为依据,计算充氪中空玻璃比普通充空气的中空玻璃节省的能耗。结果表明,充氪Low-E中空玻璃的成本比普通Low-E中空玻璃的成本高,但从节能的角度来看,其所带来的经济效益极为可观。     

色织纯棉牛津纺产品的工艺设计与实践

本文较系统地给出了色织纯棉牛津纺产品主要生产工艺、技术参数及相应措施。通过几年来的实践与优化，取得了较理想的效果，产品质量和风格受到客户的好评。     

浅(极浅)气层试气工艺

浅(极浅)气层试气作业井控风险高,施工难度大。从难点分析、压井液体系优选及施工程序设计等多方面,综合研究了在确保井控安全条件下进行试气的系统工艺,形成了适于大港浅(极浅)气层的试气工艺,现场应用效果良好。浅(极浅)气层井控工作的关键是在一级井控上,从气层射开后到诱喷求产前,确保气层稳定,从而有效地把溢流等井控危险因素降到最低。     

带式输送机影响下矿井瞬变电磁响应特征与校正研究北大核心

为了减小带式输送机对矿井瞬变电磁法探测造成的干扰影响,采用数值模拟与现场试验分析了带式输送机对矿井瞬变电磁法探测的响应特征,探讨采用多项式拟合校正函数进行干扰压制的处理方法。研究表明:带式输送机的干扰对二次场的前、中期的影响大于后期,并存在一定的时移;非干扰数据与干扰数据的比值与采集时间存在一定关系,采用校正函数可有效地剔除带式输送机形成的假异常,大大提高了矿井瞬变电磁法的探测效果。     

高可见光透过、高紫外截止镀膜玻璃的制备

为了提高镀膜玻璃的可见光透过率, 本研究通过反胶束溶液刻蚀法制备出一种新型玻璃基板, 即表面多孔玻璃。玻璃表面形成了蜂窝状的多孔膜层, 减小了对可见光的反射率, 从而使可见光平均透过率提高了7%。通过一系列射频磁控溅射实验, 探索了可见光平均透过率高, 紫外阻隔率最高的最佳工艺条件。在此条件下, 分别在制备的表面多孔玻璃和普通玻璃上镀CeO₂/TiO₂防紫外线膜, 并采用紫外-可见分光光度计、SEM、XRD、XPS等测试手段对样品进行了分析表征。结果表明, 在相同的镀膜条件下, 当镀膜后表面多孔玻璃与镀膜普通玻璃的紫外光阻隔率均为99%时, 表面多孔玻璃镀膜后的可见光平均透过率为85%, 而普通玻璃镀膜后的可见光平均透过率仅为79%。此外, 玻璃表面上的孔结构还提高了薄膜与基板的接触面积, 使膜基结合力提高2倍左右。     

磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展

磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。