偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计

利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅，再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以完成硅闪耀光栅的制作。设计了一种利用偏转晶向(111)硅片制作小角度闪耀光栅的方法，避免了利用其它晶向的硅片制作闪耀光栅的缺点。利用这种方法制作了线宽为4μm的硅闪耀光栅，使用原子力显微镜(AFM)进行了光栅表面形貌测试，得到平均表面粗糙度为110．94nm，试验结果表明制作的硅光栅样片具有良好光学特性的反射表面和光栅槽形。     

对-特辛基苯酚新产品通过投产鉴定

对-特辛基苯酚(以下简称辛基酚)是一种非常重要的化工中间产品,其用途非常广泛。可用来制造多种橡胶的硫化剂、防老剂、增粘剂和补强剂,并可用于氯丁橡胶胶粘剂。此外,还可用于制造表面活性剂、油墨粘接剂、增塑剂和杀虫剂等。     

Cu/CeO2催化剂的制备、表征及催化性能研究

分别采用热解法和浸渍、还原法制备了CeO2纳米粉体和Cu/CeO2催化剂,运用HRTEM,XRD等分析手段对制备的试样进行了结构表征,并利用微反-色谱装置考察了其催化低温CO氧化活性.结果表明,Cu/CeO2催化剂的催化活性远远高于单纯的CuO和CeO2粉体.较高的催化剂预处理温度对提高Cu在CeO2上的分散度有利,进而提高催化剂的催化活性,但是过高的预处理温度致使粒度增大、Cu-CeO2相分离,催化活性反而降低.     

用氧化——还原系统对GaAs—Ga_(1-x)Al_xAs的选择腐蚀

一、引言近年来,GaAs—Ga_(1-x)Al_xAs异质结已广泛应用于光电器件及集成光路。人们利用GaAs和Ga_(1-x)Al_xAs材料化学性质上的差异,选择适当的化学腐蚀液,可以做到只腐蚀一种成分(如Ga_(1-x)Al_xAs),从而使腐蚀能按设计要求自动停止在外延层的某一界面。利用选择腐蚀可以制得具有一些特定结构的器     

农作物秸秆化学处理及吸附性能

选用农业秸秆中小麦秸秆为原料,研究其化学处理方法,以考察改性秸秆的吸附性能。利用NaOH、H_3PO_4分别对小麦秸秆进行处理,采用溶液吸附法研究秸秆对废水中Cu~(2+)的吸附作用,通过原子吸收法测定秸秆对废水中Cu~(2+)的吸附率,结合扫描电镜考察秸秆处理前后表面形貌的变化。结果表明,NaOH、H_3PO_4处理小麦秸秆后吸附效果均有一定提高,其中NaOH对秸秆吸附Cu~(2+)的效果影响明显,为开辟农作物秸秆资源化和含Cu~(2+)废水处理提供了一种新途径。     

基于MEMS工艺的高能量密度微电磁驱动器

提出了制作高能量密度电磁驱动器的工艺方法。利用微机械(MEMS)工艺在硅片上得到多匝平面线圈和磁芯的掩模图形,接着沉积种子层铜(Cu),然后对种子层进行整体Cu的电铸;当种子层生长到20 μm左右时,剥离硅片表面的镀层并用光刻胶保护磁芯位置的镀层;再用沿线电铸的方法对线圈进行电铸;最后保护制作好的线圈镀层,电铸NiFe合金材料。在10 mm×10 mm×0.38 mm的硅片上,制作出线圈匝数22×2(铜线截面积60 μm×60 μm、总长度达1 164 mm)、NiFe合金磁芯尺寸为3 mm×3 mm×0.2 mm的高能量密度微型电磁驱动器。把这种微型驱动器应用于无阀微泵做驱动实验:通入0.3 A的正弦电流时,微驱动器产生约50 mN的电磁力。实验结果表明:这种型微电磁驱动器在相同的输入功率下,比同类其他微电磁驱动器具有更高的能量密度,能产生更大的电磁驱动力。     

组合齿轮的胶接

机床组合齿轮目前均用键、销等机械联接,工艺复杂、成本高。本文提出了用胶接组合齿轮代替机械联接组合齿轮。通过胶粘剂的研制,轴与套的胶接试验,简单的理论分析计算,以及胶接组合齿轮的生产考验,证明胶接组合齿轮是可行的。本文为轴与套的胶接提供了有用的资料。     

Ebert-Fastie型双层结构平面全息光栅双单色仪的光学设计

为满足空间紫外遥感高精度光谱辐射测量工作的要求,设计了一种Ebert-Fastie 型双层结构平面全息光栅双单色仪,由球面准直聚光镜、平面和屋脊转向镜、平面全息光栅及入射、出射和中间狭缝组成,扫描波长范围160 ～400 nm .这种双层结构的特点在于两块完全相同的平面全息光栅安装在同一转轴上做到同轴转动,不但把机构基本上简化为一个单色仪的结构,而且确保了两块光栅同步地进行光谱扫描,色散相加,光谱分辨率小于0.15 nm .此外,前后两单色系统被隔成基本封闭的腔体,用来割断两单色系统杂散光之间的相互影响,抑制整个系统的杂散光,整个系统的杂散光水平可达10 -6 ,满足空间紫外遥感高精度光谱辐射测量的要求.     

新结构的D形光纤消逝场传感器

设计了一种新型结构的D形光纤消逝场传感器,通过使消逝场能量直接与待测物质作用和增加传感器的有效作用面积,提高了传感器的灵敏度,此结构的D形光纤消逝场传感器的灵敏度比B.Culshaw、G.Stewart等人制作的D形光纤消逝场传感器的灵敏度提高了三个数量级,是具有相同长度光程的直接光探测方法的1.2倍,且传感器的响应速度快,适合实时检测。提供了一种基于机械研磨的Ｄ形消逝场光纤的制作新方法,得到的光纤表面质量可控,灵活方便。