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科学技术与计算机水平的发展使机电一体化技术不断完善,将多种技术进行充分的结合应用能够为企业的发展带来全新的动力。机电一体化技术与其他电气化技术有着本质的区别,企业要结合市场的发展需求,不断强化自身的技术水平,更好的适应未来的发展。 相似文献
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叔丁基苯甲羟肟酸与Pb(II)的作用机理及在细粒黑钨矿活化浮选中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
通过XPS研究了叔丁基苯甲羟肟酸(TBHA)和Pb(II)的反应特性以及在黑钨矿表面的作用机理,进而考察了TBHA-Pb(II)体系在黑钨矿活化浮选中的应用。结果表明,TBHA可以与Pb(II)反应生成白色难水溶的螯合物并形成稳定的五元环螯合物。Pb(II)和TBHA在黑钨矿表面的吸附方式主要是层层自组装的化学吸附。单矿物浮选试验结果表明,对于细粒黑钨矿(-20 μm粒级占82.13%),TBHA的捕收能力强于经典的苯甲羟肟酸(BHA)。同时TBHA和Pb(II)的添加方式对黑钨矿可浮性影响较大,pH=8时,采用先加入Pb(II) (40 mg/L)后加入TBHA(120 mg/L)的方式,黑钨矿回收率可达61.56%,较无Pb(II)活化浮选,其回收率提高了28.64个百分点。 相似文献
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采用料浆烧结法在TZM钼合金表面制备Mo层,再通过包埋渗法制得双层结构的MoSi2厚涂层。利用内热法在大气环境下测试了钼合金Si-Mo涂层在1 600 ℃下的高温抗氧化性能。结果表明,涂层由多孔MoSi2外层和致密MoSi2内层组成,Mo粉细化对涂层组织致密化和高温抗氧化性能提升有益,平均粒度9.8 μm和2.2 μm的Mo粉制备的涂层在1 600 ℃下的高温抗氧化寿命分别为5.1 h和14.8 h,高温氧化后涂层结构转变为SiO2氧化层-多孔MoSi2层-致密层-Mo5Si3层。随着氧化持续进行,SiO2层和Mo5Si3层不断增厚,而MoSi2层持续减薄并转化为Mo5Si3,硅元素的持续贫化导致涂层最终失效。 相似文献
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8月22日,佳能公司一举推出了13款数码新品,其中采用1280万有效像素全画幅CMOS影像传感器的EOS 5D和高速连拍机型EOS1D Mark Ⅱ N数码单反相机尤其受到广大摄影发烧友关注. 相似文献